專利名稱：清潔系統以及清潔一板件的方法
技術領域：
本發明涉及一種清潔系統，特別是用于除去一板件的四個側邊上的異物 的清潔系統及方法。
背景技術：
一般電路板制造過程中，用于倒裝芯片(Flip Chip)的基板半成品于制 作完成后，并未先進行基板側邊除塵的動作，便直接進行下一道曝光制程， 于曝光制程中，若是附著于基板側邊的銅屑剝離，容易造成光罩壓墊損傷， 并產生曝光雜質進而導致線路短路，不但降低制程的合格率，光罩亦容易損壞。
發明內容
本發明的目的在于，提供一種清潔系統，其可利用除塵機構進行板件的 板邊清潔，除去板邊的異物或灰塵，因此當板件在進行光罩制程時，可大幅 降低損傷光罩的可能性，以及提高制程的合格率。
有鑒于此，本發明提供一種清潔系統，用以清潔一板件，其中板件具有 一第一側邊、 一第二側邊、 一第三側邊以及一第四側邊。清潔系統包括一輸 送裝置以及一除塵機構。輸送裝置包括一主體以及多個滾動軸，滾動軸以可 旋轉的方式平行設置于主體上。除塵機構設置于主體上，當板件置放于滾動 軸上時，通過滾動軸的轉動可輸送板件，當板件通過除塵機構時，板件與除 塵機構接觸以進行除塵。
本發明又提供一種清潔一板件的方法，其中板件具有一第一側邊、 一第 二側邊、 一第三側邊以及一第四側邊。該方法包括，提供一輸送裝置，輸送 裝置包括一主體以及多個滾動軸，滾動軸以可旋轉的方式平行設置于主體 上；提供一除塵機構，設置于主體上；將板件置放于滾動軸上；轉動滾動軸 以移動板件使板件通過除塵機構，且當板件通過除塵機構時，板件與除塵機構接觸以進行除塵。
本發明的有益技術效果在于，根據測試的結果，板件在經過本發明的清 潔系統除塵后，造成光罩壓墊損傷的比率為0.5%，而未經過除塵的板件所造 成的光罩壓墊損傷的比率為2.08%，也就是說，使用本發明的清潔系統可降
低76%的光罩壓墊損傷。本發明的清潔系統利用除塵機構進行板件的板邊清
潔，除去板邊的異物或灰塵，因此當板件在進行光罩制程時，可大幅降低損 傷光罩的可能性，以及提高制程的合格率。
圖1A為本發明的清潔系統的俯視圖1B為圖1A中沿A-A'切線的剖視圖2A為本發明的清潔系統的俯視圖2B為圖2A中沿B-B'切線的剖視圖3為本發明一變化例的示意圖。
其中，附圖標記說明如下
以及
ioo清潔系統
110輸送裝置 113滾動軸 133控制單元 13YY軸除塵單元 150曝光機 Pl第一側邊 P3第三側邊 Sl彈性元件 XI導軌
X3 X軸清潔機構 X32軸芯 Yll前擋板機構 Y2壓板機構 Y31黏塵巻
100'清潔系統 111主體 131感測單元 13XX軸除塵單元 140翻板機 P板件 P2第二側邊 P4第四側邊 S2彈性元件 X2固定座 X31黏塵巻 X33滑動座 Y12后推板機構 Y3 Y軸清潔機構 Y32軸芯
7Y33滑動座 Y34固定座
具體實施例方式
參見圖1A、圖1B、圖2A、及圖2B，本發明的清潔系統100用于清潔 倒裝芯片的載板P(以下稱板件)的板邊，板邊包括一第一側邊P1、 一第二側 邊P2、 一第三側邊P3以及一第四側邊P4，且第一側邊P1與第二側邊P2為 相對邊，而第三側邊P3與第四側邊P4為相對邊。
清潔系統100包括一輸送裝置110以及一除塵機構。于圖1A中，僅顯 示一部分的輸送裝置110，板件P可置放于輸送裝置110上，輸送裝置110 輸送板件P往一輸送方向(如圖1A、圖2A中箭頭所示)前進，并通過除塵機 構進行板邊的除塵，其中當板件P置放于輸送裝置110上時，板件P的第一 側邊P1以及第二側邊P2與輸送方向平行，而板件P的第三側邊P3以及第 四側邊P4與輸送方向垂直。
輸送裝置110包括一主體111以及多個滾動軸113，滾動軸113以可旋 轉的方式平行設置于主體lll上，當板件P置放于滾動軸113上時，通過滾 動軸113的轉動可移動并輸送板件P。
配合參見圖1B，除塵機構包括一 X軸除塵單元13X,用以清潔板件P 的第一側邊P1以及第二側邊P2。 X軸除塵單元13 X包括一導軌X1、兩個 固定座X2、兩個X軸清潔機構X3以及兩個彈性元件Sl。導軌XI設置于 主體111上，并位于兩個滾動軸113之間，兩個固定座X2設置于導軌XI 上，兩個X軸清潔機構X3設置于導軌X1上，并通過彈性元件Sl分別與兩 個固定座X2連接。
參見圖1B，每一個X軸清潔機構X3分別包括一黏塵巻X31、 一軸芯 X32以及一滑動座X33。具有黏性的黏塵巻X31以軸芯X32為中心旋轉的方 式設置于軸芯X32上，并由兩個滾動軸113之間延伸突出，軸芯X32設置 于滑動座X33上，而滑動座X33則以可移動的方式設置于導軌X1上，通過 每一個彈性元件Sl分別連接一固定座X2與一滑動座X33，使兩個X軸清 潔機構X3分別與兩個固定座X2連接，當黏塵巻X31受一外力影響時，黏 塵巻X31移動并帶動滑動座X33于導軌XI上移動，之后通過彈性元件Sl 的彈力使X軸清潔機構回復原位。另外，當板件P被輸送至通過X軸除塵
8單元13X時，兩個X軸清潔機構X3上的黏塵巻X31分別對應于板件P的 第一側邊P1以及第二側邊P2，且黏塵巻X31之間的距離約略小于第一側邊 P1至第二側邊P2的距離。
請同時參見圖1A、圖1B，滾動軸113轉動使板件P通過X軸除塵單元 13X，板件P的第一側邊Pl以及第二側邊P2分別抵頂與其相對應的黏塵巻 X31，使兩個黏塵巻X31朝彼此相反的方向少量地位移，此時，彈性元件S1 提供X軸清潔機構與黏塵巻X31位移方向相反的一作用力，使黏塵巻X31 分別與第一側邊P1以及第二側邊P2更加緊密接觸，板件P繼續前進，同時 帶動兩個黏塵巻X31旋轉，使黏塵巻X31分別沿著第一側邊Pl與第二側邊 P2滾動，以黏取板邊上的異物與灰塵，當板件P與黏塵巻X31分離后，通 過彈性元件Sl的彈力使X軸清潔機構X3回復原位。
當與板件P接觸的部分黏塵巻X31的黏性消耗怠盡時，調整黏塵巻X31 的高度，使黏塵巻X31于軸芯X32上軸向移動，改變板件P側邊與黏塵巻 X31的接觸面，可重復使用黏塵巻X31直到整個黏塵巻X31的黏性皆消耗 怠盡為止。
請參見圖2A與圖2B，圖2A表示另一部分輸送裝置110，除塵機構還 包括一感測單元131、 一控制單元133、以及一 Y軸除塵單元13Y。感測單 元131設置于主體111上，控制單元133分別與感測單元131、滾動軸113 以及Y軸除塵單元13Y電性連接，Y軸除塵單元13Y亦設置于主體111上， 用以清潔板件P的第三側邊P3以及第四側邊P4。當板件P被輸送至一第一 位置時(如圖2A所示)，板件P觸動感測單元131，感測單元131發射一信號 至控制單元133以控制滾動軸113與Y軸除塵單元13Y的動作，停止滾動 軸113的轉動，并使Y軸除塵單元13Y可分別于板件P的第三側邊P3與第 四側邊P4上滾動，以進行清潔除塵。
配合參見圖2B，Y軸除塵單元13Y包括兩個整板機構(一前擋板機構Y11 與一后推板機構Y12)、兩個壓板機構Y2以及兩個Y軸清潔機構Y3。整板 機構Yll、 Y12以可伸縮的方式設置于主體111中，并位于滾動軸113的上 方(為清楚表示前擋板機構Yll的動作方式，于圖2B中，部分與前擋板機構 Yl 1相對應的Y軸清潔機構Y3的繪制將省略)，兩個壓板機構Y2以及兩個 Y軸清潔機構Y3亦設置于主體111上，且當板件P位于第一位置時(如圖2A、圖2B所示)，前擋板機構Yll對應于板件P的第三側邊P3，而后推板機構 Y12對應于板件P的第四側邊P4，壓板機構Y2則分別對應于板件P的第一 側邊Pl以及第二側邊P2， Y軸清潔機構Y3則可于板件P的第三側邊P3與 第四側邊P4上滾動。
每一個Y軸清潔機構Y3分別包括一黏塵巻Y31、 一軸芯Y32、 一滑動 座Y33、 一固定座Y34以及一彈性元件S2。具有黏性的黏塵巻Y31以軸芯 Y32為中心旋轉的方式設置于軸芯Y32上，并延伸突出于滾動軸113，且兩 個Y軸清潔機構Y3的兩個黏塵巻Y31之間的距離約略小于第三側邊至第四 側邊的距離。軸芯Y32設置于一滑動座Y33上，而滑動座Y33則以可移動 的方式設置于固定座Y34上。固定座Y34為一氣壓缸，設置于主體lll上， 利用氣壓的方式移動設置其上的滑動座Y33，且通過滑動座Y33于固定座 Y34上移動，帶動軸芯Y32于滾動軸113之間往復移動，且黏塵巻Y31沿 著第三側邊P3或是第四側邊P4滾動。彈性元件S2分別連接軸芯Y32與滑 動座Y33，當黏塵巻Y31受一外力影響時，黏塵巻Y31移動并帶動軸芯Y32 朝彼此相反的方向位移后，彈性元件S2可提供軸芯Y32與該位移方向相反 的一作用力，當板件P與黏塵巻Y31分離后，通過彈性元件S2的彈力使軸 芯Y32回復原位。
當板件P被輸送至第一位置時，控制單元133停止滾動軸113的轉動， 并啟動Y軸除塵單元13Y。滾動軸113停止轉動后，Y軸除塵單元13Y的前 擋板機構Yll延伸而與第三側邊P3抵接，后推板機構Y12延伸而與第四側 邊P4抵接，以調整板件P的位置，接著，兩個壓板機構Y2朝板件P下壓， 使板件P固定于壓板機構Y2與滾動軸113之間，在固定板件P的位置后， 整板機構Yll、 Y12分別與第三側邊P3以及第四側邊P4分離，最后Y軸清 潔機構Y3的滑動座Y33于固定座Y34上往復移動，帶動軸芯Y32于滾動軸 113之間往復移動，并使黏塵巻Y31分別抵頂第三側邊P3以及第四側邊P4， 使兩個軸芯Y32朝彼此相反的方向位移，此時，彈性元件S2提供軸芯與位 移方向相反的作用力，使黏塵巻Y31分別與第三側邊P3以及第四側邊P4 更加緊密接觸。另外，當軸芯Y32移動時，可帶動黏塵巻Y31分別沿著第 三側邊P3以及第四側邊P4滾動，黏取板邊上的異物或灰塵，以進行清潔除 塵。接著，在黏塵巻Y31回到原位時，板件P與黏塵巻Y31分離，通過彈
10性元件S2的彈力使軸芯Y32回復原位，壓板機構Y2亦與板件P分離回到 原位，滾動軸113重新啟動，使板件P繼續前進。
與X軸除塵單元相同的是，當與板件P接觸的部分黏塵巻Y31的黏性 消耗怠盡時，調整黏塵巻Y31的高度，使黏塵巻Y31于軸芯Y32上軸向移 動，改變板件P的側邊與黏塵巻Y31的接觸面，可重復使用黏塵巻Y31直 到整個黏塵巻Y31的黏性皆消耗怠盡為止。
請配合參見圖1A、圖2A以及圖3，應注意的是，于本實施例中，清潔 系統100可單獨包括X軸除塵單元13X(如圖1A所示)或是Y軸除塵單元 13Y(如圖2B所示)，亦或是同時將X軸除塵單元13X與Y軸除塵單元13Y 設置于一輸送裝置110上(如圖3所示)。
另外，本發明的清潔系統亦可配合原有機臺使用，如圖3所示，清潔系 統100'應用于光罩制程之前，清潔系統100，的除塵單元13X、 13Y設置于原 有機臺的輸送裝置110上，板件P在通過一翻板機140后由輸送裝置110輸 送至一曝光機150，在進入曝光機150之前便可完成板邊的清潔。
根據測試的結果，板件P在經過本發明的清潔系統100、 IOO，除塵后， 造成光罩壓墊損傷的比率為0.5%，而未經過除塵的板件所造成的光罩壓墊損 傷的比率為2.08%，也就是說，使用本發明的清潔系統可降低76%的光罩壓 墊損傷。本發明的清潔系統IOO、 IOO，利用除塵機構進行板件P的板邊清潔， 除去板邊的異物或灰塵，因此當板件P在進行光罩制程時，可大幅降低損傷 光罩的可能性，以及提高制程的合格率。
雖然本發明已以較佳實施例公開如上，然而其并非用以限定本發明，任 何熟悉此項技術的人員，在不脫離本發明的精神和范圍的情況下，仍可作一 些更動與潤飾，因此本發明的保護范圍當視后附的權利要求書所界定的保護 范圍為準。
ii
權利要求
1. 一種清潔系統，用以清潔一板件，其中該板件具有一第一側邊、一第二側邊、一第三側邊以及一第四側邊，包括一輸送裝置，包括一主體以及多個滾動軸，以可旋轉的方式平行設置于該主體上；以及一除塵機構，設置于該主體上；其中當該板件置放于所述滾動軸上時，通過所述滾動軸的轉動以輸送該板件，當該板件通過該除塵機構時，該板件與該除塵機構接觸以進行除塵。
2. 如權利要求1所述的清潔系統，其中該板件的該第一側邊與該第二側邊為相對邊，且該除塵機構包括一X軸除塵單元，當該板件通過該除塵機構時，該第一側邊以及該第二側邊與該X軸除塵單元抵接。
3. 如權利要求2所述的清潔系統，其中該X軸除塵單元包括一導軌，設置于該主體上；兩個固定座，設置于該導軌上；以及兩個X軸清潔機構，以可移動的方式設置于該導軌上，并分別與所述固定座連接；其中當該板件通過該除塵單元時，該第一側邊與該第二側邊分別抵頂所述X軸清潔機構。
4. 如權利要求3所述的清潔系統，其中所述X軸清潔機構分別包括一黏塵巻、 一軸芯以及一滑動座，該黏塵巻設置于該軸芯上，該軸芯設置于該滑動座上，且該滑動座可于該導軌上滑動，且當所述黏塵巻受一外力影響時，該黏塵巻帶動該滑動座于該滑軌上移動。
5. 如權利要求4所述的清潔系統，其中當該板件通過該X軸除塵單元時，該第一側邊與該第二側邊分別抵頂所述黏塵巻，使所述黏塵巻朝彼此相反的方向位移。
6. 如權利要求4所述的清潔系統，其中當該板件通過該X軸除塵單元時，該第一側邊與該第二側邊分別抵頂所述黏塵巻，并由所述黏塵巻之間通過，帶動所述黏塵巻旋轉。
7. 如權利要求4所述的清潔系統，其中所述黏塵巻之間的距離約略小于該第一側邊至該第二側邊的距離。
8. 如權利要求3所述的清潔系統，其中該第一側邊與該第二側邊分別抵頂所述X軸清潔機構，使所述X軸清潔機構朝彼此相反的方向位移。
9. 如權利要求8所述的清潔系統，其中該X軸除塵單元還包括兩個彈性 元件，所述兩個彈性元件分別連接每一個所述固定座與每一個所述X軸清潔 機構，所述彈性元件提供所述X軸清潔機構與該位移方向相反的作用力。
10. 如權利要求4所述的清潔系統，其中該黏塵巻可于該軸芯上軸向移動。
11. 如權利要求1所述的清潔系統，其中該板件的該第三側邊與該第四側 邊為相對邊，且該除塵機構包括一Y軸除塵單元，當該板件被輸送至一第一 位置時，該Y軸除塵單元可于該第三側邊與該第四側邊上滾動。
12. 如權利要求11所述的清潔系統，其中該Y軸除塵單元包括 兩個整板機構，以可伸縮的方式設置于該主體，當該板件位于該第一位置時，分別對應于該板件的該第一側邊與該第二側邊，且所述整板機構分別 伸長抵頂該第一側邊以及該第二側邊；兩個壓板機構，設置于該主體，當該板件位于該第一位置時，分別對應 于該板件的該第三側邊與該第四側邊，將所述壓板機構朝該板件的方向加 壓，以固定該板件的位置；兩個Y軸清潔機構，設置于該主體，當該板件位于該第一位置時，所述 Y軸清潔機構分別于該第三側邊與該第四側邊上滾動。
13. 如權利要求12所述的清潔系統，其中每一個所述Y軸清潔機構分別 包括一黏塵巻、 一軸芯、 一滑動座以及一固定座，該黏塵巻設置于該軸芯上， 該軸芯設置于該滑動座上，該滑動座以可于該固定座上移動的方式設置于該 固定座上，通過該滑動座于該固定座上移動，帶動軸芯以及該黏塵巻移動。
14. 如權利要求13所述的清潔系統，其中該固定座為一氣壓缸，設置于 該主體上，利用氣壓的方式使該軸芯往復移動。
15. 如權利要求14所述的清潔系統，其中所述軸芯分別于所述氣壓缸上 往復移動，從而帶動所述黏塵巻分別沿著該第三側邊與該第四側邊滾動。
16. 如權利要求13所述的清潔系統，其中當所述Y軸清潔機構分別于該 第三側邊與該第四側邊上滾動時，所述黏塵巻分別抵頂該第三側邊與該第四側邊，使所述軸芯朝彼此相反的方向位移。
17. 如權利要求13所述的清潔系統，其中該Y軸清潔機構還包括兩個彈 性元件，所述兩個彈性元件分別連接每一個所述軸芯與每一個所述滑動座， 當所述軸芯朝彼此相反的方向位移后，所述彈性元件提供所述軸芯與該位移 方向相反的作用力。
18. 如權利要求13所述的清潔系統，其中該黏塵巻可于該軸芯上軸向移動。
19. 如權利要求13所述的清潔系統，其中所述黏塵巻之間的距離約略小 于該第三側邊至該第四側邊的距離。
20. 如權利要求11所述的清潔系統，其中該除塵機構還包括一感測單元 以及一控制單元，該感測單元設置于該主體上，該控制單元分別與該感測單 元、所述滾動軸以及該Y軸除塵單元電性連接，當該板件被輸送至該第一位 置時，該板件觸動該感測單元，該感測單元發射一信號至該控制單元以控制 該滾動軸與該Y軸除塵單元的動作。
21. —種清潔一板件的方法，其中該板件具有一第一側邊、 一第二側邊、 -一第三側邊以及一第四側邊，該方法包括提供一輸送裝置，包括一主體以及多個滾動軸，以可旋轉的方式平行設 置于該主體上；以及提供一除塵機構，設置于該主體上； 將該板件置放于所述滾動軸上；轉動所述滾動軸以移動該板件使該板件通過該除塵機構，且當該板件通 過該除塵機構時，該板件與該除塵機構接觸以進行除塵。
22. 如權利要求21所述的清潔一板件的方法，其中該板件的該第一側邊 與該第二側邊為相對邊，且該除塵機構包括一X軸除塵單元，當該板件通過 該除塵機構時，該第一側邊以及該第二側邊與該X軸除塵單元抵接，并帶動 該X軸除塵單元于該第一側邊與該第二側邊上滾動。
23. 如權利要求21所述的清潔一板件的方法，其中該板件的該第三側邊 與該第四側邊為相對邊，且該除塵機構包括一Y軸除塵單元，當該板件被輔I 送至一第一位置時，該滾動軸停止滾動，該Y軸除塵單元可于該第三側邊與 該第四側邊上滾動。
24. 如權利要求23所述的清潔一板件的方法，其中該除塵機構包括一感 測單元、 一控制單元，該控制單元分別與該感測單元、所述滾動軸以及該Y 軸除塵單元電性連接。
25. 如權利要求24所述的清潔一板件的方法，其中當該板件被輸送至該 第一位置時，觸動該感測單元，該感測單元發射一信號至該控制單元，該控 制單元停止該滾動軸的轉動并啟動該Y軸除塵單元。
26. 如權利要求25所述的清潔一板件的方法，其中該Y軸除塵單元包括 一前擋板機構、 一后推板機構、兩個壓板機構以及兩個Y軸清潔機構，當該 滾動軸停止轉動時，該前擋板機構延伸而與該第三側邊抵接，該后推板機構 延伸而與該第四側邊抵接，所述壓板機構朝該板件下壓，該前擋板機構以及 該后推板機構分別與該第三側邊以及該第四側邊分離，所述Y軸清潔機構分 別沿著該第三側邊以及該第四側邊往復移動，所述壓板機構回復原位，所述 滾動軸重新啟動。
全文摘要
一種清潔系統以及清潔一板件的方法。清潔系統用以清潔一板件。清潔系統包括一輸送裝置以及一除塵機構。輸送裝置包括一主體以及多個滾動軸，滾動軸以可旋轉的方式平行設置于主體上。除塵機構設置于主體上，當板件置放于滾動軸上時，通過滾動軸的轉動可輸送板件，當板件通過除塵機構時，板件與除塵機構接觸以進行除塵。清潔一板件的方法包括提供一輸送裝置；提供一除塵機構，設置于輸送裝置上；將板件置放于輸送裝置上；轉動輸送裝置的滾動軸移動板件使板件通過除塵機構，且當板件通過除塵機構時，板件與除塵機構接觸以進行除塵。該清潔系統可除去板邊的異物或灰塵，因此當板件在進行光罩制程時，可大幅降低損傷光罩的可能性，提高制程的合格率。
文檔編號B08B7/00GK101486037SQ20081000129
公開日2009年7月22日 申請日期2008年1月17日 優先權日2008年1月17日
發明者徐正賢, 蔡志福 申請人:南亞電路板股份有限公司