專利名稱：無塵布之制造方法
技術令域本發明系提供一種無塵布之制造方法，尤指可降低無塵布織品中細微粒子與離子的含量，同時達到無污染染整過程的無塵布之制造方法。
背景技術：
傳統紡織業進入二十一世紀晶圓時代后，其應用之技術亦需著現實生活的需要而有所精進。藉研發高科技新素材之高附加價值產品，以促進紡織工業轉型及技術升級，為紡織工業開創更新、更廣的發展空間，并提高其競爭力當中即十分強調未來紡織工業產品需考慮到市場的需求性。
分析無塵擦拭布的制造過程主要包括四個階段1、無塵擦拭布需具有高吸水率、高保水率、高柔軟度，于使用時不會造成高精密度物體表面磨損及殘留污漬、水痕等等，其中，于織造過程需考慮其高精密度之織法，以便符合此性能。
2、染整無塵擦拭布在染整制程上纖維的開纖作業穩定度對于無塵擦拭布最終產品的整體表現具有直接及極大的關系。
3、切割無塵擦拭布的封邊要求對于其質量亦有著相當大的影響，需要求封邊減少纖維及落塵產生。
4、洗無塵包裝這部分為擦拭布制程關鍵，但這部分即潛在一個大問題如清洗機具設備無法保持一定的潔凈程度，相對對于擦拭布質量亦會產生不良之影響。
上述無塵擦拭布制造過程較常發生下列缺失(一)高密度織造無塵布技術，目前要提高紡織品的附加價值，從原料端著手似乎是勢在必行，因此關注高科技纖維的發展，掌握其特性來研發出新的布種，成為一種流行趨勢；近來市面有先進之保溫材料除了利用中空超細纖維，在中空部份以金屬蒸氣涂層加工，提高纖維的保溫效果外，主要是采用多層高密織法，使織物產品得以完全將人體體熱存留在衣物內而不外泄，是應用于未來高科技產業的最佳材料，而由交織方式抱合而成的梭織物其組織內的紗線，系依靠抱合處紗間摩擦大，而得以保持在適當的位置上，所以用梭織織造之織物，其質地結構非常緊密，而且整光滑，能抵抗摩擦堅牢、耐穿，然而，它亦有其缺點，就是不透氣、易撕裂、熱傳導差、易起皺折及容易滑絲，如當組織的密度不夠大，或紗線表面不夠粗糙，這種結構會因紗線滑絲作用而損壞。
(二)無污染染整處理技術，織品剛經編織完后，必須施以必要的整理或染色處理加工，才能成為適合于各種用途的商品，而在整理加工工程中所需要的處理劑即稱為加工劑(助劑)，其種類相當繁多，有滲透劑、柔軟劑、防水劑、一部分的撥水劑、纖維用油劑、以防皺、防縮為目的的各種處理劑，是以，如前所述傳統處理染整技術大多添加化學藥劑以利清除支紗(或超細纖維)管中殘留之微粒子或去除陰陽離子，該方式經年累月造成環境上的污染，比如用以清洗之水質因一般水中多少含有雜質，除懸浮的泥土和少量有機物外，大多為溶解在水里的碳酸鹽、酸式碳酸鹽、硫酸鹽、氯化物等，況且，雜質中又有能引起腐蝕的首先要推氯化鎂，因氯化鎂受高熱時會起加水分解作用而生成鹽酸而造成織品更加損傷。并且所剩余之水質亦因添加此類化學藥劑而形成嚴重之工業廢水。
(三)切割及封邊技術一般雷射切割的能量非常大所以在切斷面會有焦黃現象情形。
(四)穿墻式無塵后處理概念就整個無塵織品生產流程而言，經過染整處理后之織品尚須經過封邊與水洗之程序方能確保其無塵的質量。傳統上無塵擦拭市清洗制程的環境與設備機臺為了節省投資成本，大都是委外加處理。然而這部分即潛在一個無塵布制程中的大問題，因問前委外廠定以專門承包無塵衣品收清洗業務為主，擦拭布制程后處理裳程之清洗業務并非其業務主流，但回收清洗的無塵衣本身就是污染源所在，加上工作人員及清洗機臺等等因素，因此清洗機具設備無論如何處理都無法保持一定的潔凈程度，相對對于擦拭布質量亦會產生不良之影響。
發明內容
為解決上述制造無塵布存在的問題，本發明提供一種好的無塵布制造方法；本發明之主要目的系在于利用天然植物中所淬取之助劑，可有效處理織品中單位面積所含微粒子與陰陽離子數，亦透過升溫、降溫等作用將天然有機藥劑融入無塵布織品中，而處理助劑可將其細微粒子與離子含量比較之一般習用之無塵布織品含量較少，進而達到無污染染整之過程。
本發明之次要目的系在于切割、封邊時利用交互式計算機操控并藉由特殊設計之雷光速微調，可有效降低發塵量。
本發明之方法包含下列步驟(一)紡紗；(二)織造；透過掛紗、調整紗速、調整張力；(三)染整胚布、開纖處理、陰陽離子處理、微粒子處理、脫水、剖布、定型、品檢、包裝待切；(四)裁切上切割板、尺寸設定、雷光速微調、切割、品檢、待洗；(六)清凈純水清洗、脫水、烘干、微粒子檢測；(七)真空包裝、品檢、裝箱出貨。
該陰陽離子處理、微粒子處理之助劑主要成份乃淬取天然植物，且透過升溫、降溫等作用將天然有機藥劑融入無塵布織品中。
該雷光速微調為利用交互式計算機操控，可消除切割、封邊過程中的發塵量。
該雷光速微調可為熱光速調整或超光速調整。
該整個無塵布之制造方法流程為利用兩層次式無塵清洗作為高階無塵布最后階段之清潔與包裝。
該無塵布可適用于無塵室環境或高精密度物體之擦拭。
本發明的優點是(一)本發明利用天然植物中之助劑，可有效處理織品中單位面積所含微粒子與陰陽離子數，經由調配比例與控制處理水之溫度與酸堿度，能夠有效的將無塵布織品中微粒子數與陰陽離子數降低至一定數量，進而提升無塵布干凈質量及無污染染整處理技術。
(二)本發明之無塵布具有高吸水率、高保水率、高柔軟度，于使用時不會造成高精密度物體表面磨損及殘留污漬、水痕。
(三)本發明利用交互式計算機操控并藉由特殊設計之激光束消除切割、封邊過程中的發塵量，可有效提升切割質量，亦同時減少封邊時之纖維及落塵產生。
(四)本發明利用兩層次式無塵清洗概念作為高階無塵布最后階段之清潔與包裝，更加阻隔無塵室中之細微粒子。
附圖1系為先前申請無塵擦拭布示意圖。
附圖2系為先前申請無塵擦拭布動作示意圖。
附圖3系為本發明之方塊圖。
附圖4系為本發明之流程圖。
附圖5系為本發明穿墻式無塵室之示意圖。
主要組件符號說明1、塵布制造之方法
11、紡紗12、織造13、染整14、定型15、裁切、封邊16、清凈17、包裝1、無塵室21、第一階房間22、第二階房間23、穿墻孔具體實施方式
本發明針對不同織造方式，利用研發機臺上織針排列與運作，盡可能在編織之排列方式中尋求整合性與交互支持性，而完成一高密度無塵布之織造，此開發之工法雖未能完全跳脫傳統織造法之窠臼，然所利用之技術比現今一般織造法所可獲得織布密度更高，此無塵布亦經以申請新型專利證書號碼M274921號「無塵擦拭布」(參閱附圖1、2)系為先前申請無塵擦拭布示意圖及動作示意圖，其中上、下表層A1、A2其基材都是使用一根粗的單纖維將其細微化之后，再取來編織成布，纖維成份由聚胺纖維25％及聚酯纖維75％合成，因其細微后，使用時具有良好的刮除效果，其中上、下表層A1、A2皆具有備稍成八字態樣A3的結構，在八字態樣A3的下端形成稍成三角形孔洞A4，而八字態樣A3的結構是呈整齊排列布設，而三角形孔A4洞可供容納砂粒A5與灰塵；中間層布設于上、下表層A1、A2中間，是由一根粗的單纖維將其細微化后，再取來編織成布的基材，具備十字交錯結構特征，其中十字交錯結構是由一長寬邊的形狀，呈一上一下交錯互迭著，藉此該無塵擦拭布可藉由上、下表層A1、A2的細微作，于擦拭時有很好的刮除效果。
請參閱附圖3、4所示，系為本發明之方塊圖及流程圖，由圖中所示可以清楚看出，本發明之無塵布制造之方法1系包括有紡紗11、織造12、染整13、定型14、裁切、封邊15、清凈16及包裝17，而于生產制造時為會依據下列步驟進行(101)紡紗；(102)織造主要流程透過掛紗、調整紗速、調整張力、織造、中檢、胚布測試之后包裝待染；(103)染整主要流程于胚布開纖處理、陰陽離子處理、微粒子處理、脫水、剖布、定型、品檢、包裝待切；(104)切割主要流程上切割板、尺寸設定、雷射光速微調或熱光速調整或超光速調整、切割、品檢、待洗；(105)無塵清洗主要流程純水清洗、脫水、烘干、微粒子檢測是否合格，若合格則進行(步驟206)；若不合格重復進行純水清洗；(106)真空包裝、品檢、裝箱出貨；本發明為利用交互式計算機操控并藉由特殊設計之雷射光速消除切割、封邊過程中的發塵量，可有效提升切割質量，此外，其雷射光速微調切割可為熱光速調整或超光速調整進行切割、封邊之功能，主要使切割、封邊過程中，可降底發塵量之功效即可，故舉凡可達成前述效果之形式皆應受本創作所涵蓋，此種簡易修飾及等效結構變化，均應同理包含于本發明之專利范圍內，合予陳明。
附表一系為無塵布微粒子數及陰陽粒子數檢測之示意圖，由表中所示可以清楚看出，本發明無塵布之制造方法1中之無塵布系透過天然植物中所淬取之助劑可有效降低無塵布中之微粒子數及陰陽粒子數，進而達到最佳潔凈質量之功效，其中本創作人即因為克服此環境污染問題，極力尋求相關替代助劑，在不斷嘗試與測試后，得以找出有效之處理助劑，該助劑主要成份乃淬取于天然植物中，經化工背景之學者協助分析及調整比例，可取代現今常用之化學合成助劑，且有效處理織品中單位面積所含微粒子與陰陽離子數，本發明于該助劑的調配比例與控制處理水之溫度與酸堿度，能有效的將無塵布織品中微粒子數與陰陽離子數降低至一定數量，其亦透過升溫、降溫等作用將天然有機藥劑融入無塵布織品中，而處理助劑可將其細微粒子與離子含量比較之一般習用之無塵布織品含量較少，而后，于本發明之無塵布織品處理過后之排放水，其不但合乎廢水污染標準，其中之染整助劑亦使染整排放用水達到合乎污染標準。
請同時參閱附圖5所示，系為本發明之穿墻式無塵室之示意圖，由圖中所示可以清楚看出，本發明之高密度無塵布制造之方法1系透過該穿墻式無塵室2可有效提升無塵布最佳潔凈質量之功效，其中該高密度無塵布制造之方法1系將規劃有別于一般業界無塵清洗業者使用之無塵室2設計，其中是以兩層次式無塵清洗概念作為高階無塵布最后階段之清潔與包裝；即分別設立兩間連接在一起之無塵室2，第一階房間21作為第一道處理裁切及封邊之無塵布初段清潔，以先前所述一般傳統無塵清潔僅達此階段，然此段因布料直接由外界送入此無塵室2內，清洗與處理的程度仍有待考驗，故本發明人經驗證后發現，如于第一階房間21后隨即加設另一無塵室2即第二階房間22并以穿墻孔23作為連接兩室之輸送通道，并于穿墻孔23設計清潔水流區隔，并利用控制水流速度及壓力，有效進一步阻隔第一階房間22中因由外界隨布料進入無塵室2中之微粒，其后無塵布最后質量亦可于第二階房間中達到最佳潔凈質量，隨即于進行包裝密封，是以，本發明之無塵清洗與包裝制程為一完善之無塵后處理的動線，利用不同隔間方式對無塵室2的硬件動線與控制水洗水流的速度方式，能夠完成超潔凈清洗與無塵真空包裝的需求，提升無塵擦拭布更干凈的質量，同時可增加無塵擦拭布使用壽命。
本發明之無塵布制造之方法1為可透過前案申請在先之無塵擦拭布，專利證書號碼M274921號之高精密度織法當作本發明之無塵布基材使用，其不但可提高吸水率、保水率、高柔軟度，同時于使用時不會造成高精密度物體表面磨損及殘留污漬、水痕等等，亦可適用于無塵室環境或任何場所使用，達到適用性廣泛及使用率良好之功效。
綜上所述，本發明之無塵布制造之方法為于制造時能提高無塵布質量，且確實能達到其功效及目的，故本發明誠為一實用性優異之發明，為符合發明專利之申請要件，爰依法提出申請，盼審委早日賜準本案，以保障發明人之辛苦研發，倘若鈞局審委有任何稽疑，請不吝來函指示，發明人定當竭力配合，實感德便。
表1
權利要求
1.一種無塵布之制造方法，該方法包含下列步驟(一)紡紗；(二)織造；透過掛紗、調整紗速、調整張力；(三)染整胚布、開纖處理、陰陽離子處理、微粒子處理、脫水、剖布、定型、品檢、包裝待切；(四)裁切上切割板、尺寸設定、雷光速微調、切割、品檢、待洗；(六)清凈純水清洗、脫水、烘干、微粒子檢測；(七)真空包裝、品檢、裝箱出貨。
2.按權利要求1所述之無塵布之制造方法，其特征要于該陰陽離子處理、微粒子處理之助劑主要成份乃淬取天然植物，且透過升溫、降溫等作用將天然有機藥劑融入無塵布織品中。
3.按權利要求1所述之無塵布之制造方法，其特征要于該雷光速微調為利用交互式計算機操控，可消除切割、封邊過程中的發塵量。
4.按權利要求3所述之無塵布之制造方法，其特征要于該雷光速微調可為熱光速調整或超光速調整。
5.按權利要求1所述之無塵布之制造方法，其特征要于該整個無塵布之制造方法流程為利用兩層次式無塵清洗作為高階無塵布最后階段之清潔與包裝。
6.按權利要求1所述之無塵布之制造方法，其特征要于該無塵布可適用于無塵室環境或高精密度物體之擦拭。
全文摘要
本發明為有關一種無塵布之制造方法，系有下列步驟之紡紗、織造、染整、定型、裁切、清凈及包裝，亦在兩層次式無塵清洗房間進行，而其中染整主要流程包括胚布開纖處理、陰陽離子處理、微粒子處理以及裁切，裁切主要流程包括有雷射光速微調，制造時可利用天然植物中所淬取之助劑，可有效降低無塵布中之微粒子數及陰陽粒子數，之后透過雷射光速消除切割、封邊過程中的發塵量，可有效提升無塵布織品的干凈質量及降低一般無塵布制造時所造成之水污染。
文檔編號A47L13/16GK1807730SQ20061002382
公開日2006年7月26日 申請日期2006年2月10日 優先權日2006年2月10日
發明者鄭志皇, 鄭力豪 申請人:鄭志皇, 鄭力豪