專利名稱：掩膜母版清潔法的制作方法
技術領域：
本發明涉及制作掩膜版過程中母版的清潔技術。
發明內容
本發明的目的是提供一種高效、簡單的掩膜母版清潔方法。
實現本發明目的的方法為清潔液由下列組分配比而成雙氧水1份，濃硫酸0.5-3份，每次需要清潔母版時，先用鑷子將待清潔的母版放到清潔液中清洗，再用鑷子夾出，放置于板架上，再用去離子水沖洗多次，自然風干即可。
此過程利用雙氧水在酸性環境中分解，產生氧氣，氧氣泡從溶液中逸出時，產生破碎，形成激波，這種激波把粘附在基片上的物質洗掉，而硫酸不僅能溶掉一些堿性物質，而且酸性的清洗環境易于使玻璃基片表面防潮。
經過此法清洗的母版表面非常干凈，無異物、無油漬、無灰塵、無水汽，可保證一次性清洗干凈，而且清潔液可多次重復使用，使用周期為一個月，是一種省時、省力、高效的清潔掩膜母版的方法。
具體實施方式
，但本發明的內容完全不局限于此
權利要求
1一種掩膜母板清潔法，其特征在于清潔液由下列組分配比而成雙氧水1份濃硫酸0.5-3份
2如權利要求1所述的清潔法，其特征在于每次需要清潔母版時，先用鑷子將待清潔的母版放到清潔液中清洗，再用鑷子夾出，放置于板架上，再用去離子水沖洗多次，自然風干即可。
全文摘要
本發明涉及制作掩膜版過程中母版的清潔技術，清潔液由下列組分配比而成雙氧水1份，濃硫酸0.5－3份，每次需要清潔母版時，先用鑷子將待清潔的母版放到清潔液中清洗，再用鑷子夾出，放置于板架上，再用去離子水沖洗多次，自然風干即可，經過此法清洗的母版表面非常干凈，無異物、無油漬、無灰塵、無水汽，可保證一次性清洗干凈，而且清潔液可多次重復使用，使用周期為一個月，是一種省時、省力、高效的清潔掩膜母版的方法。
文檔編號B08B11/00GK1421285SQ02145560
公開日2003年6月4日 申請日期2002年12月30日 優先權日2002年12月30日
發明者李鐵軍, 寧曉梅, 于瑞娟, 杜煥玲, 房林平 申請人:中國航天科技集團公司第九研究院七七一研究所