一種雙x射線源血液輻照裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及血液輻照儀技術領域，尤其涉及一種雙X射線源血液輻照裝置。
【背景技術】
[0002]輸血相關性移植物抗宿主病(TA-GVHD)是免疫缺損或免疫抑制的患者不能清除輸入血液中具有免疫活性的淋巴細胞，使其在體內植活、增殖，將患者的組織器官識別為非己物質，并作為靶目標進行免疫攻擊、破壞的一種致命性輸血并發癥。TA-GVHD臨床表現缺乏特異性，極易漏診和誤診。
[0003]有研究表明引起TA-GVHD的受體輸入淋巴細胞數量應大于107/kg，如若低于15/kg則不會引起TA-GVHD。但有報道對免疫缺陷的兒童僅104/kg淋巴細胞即引發TA-GVHD。總之輸入供體的淋巴細胞數量越多其病情越嚴重，死亡率也就越高。
[0004]目前認為輸血前對血制品進行照射，是預防TA-GVHD惟一有效的方法。其機制是:淋巴細胞對射線敏感，通過適當劑量的射線照射，可使免疫活性淋巴細胞滅活，喪失增殖能力。而對紅細胞、血小板的功能及凝血因子活性影響不大。現在發達國家應用率已達30 %?40%。
[0005]血液輻照儀就是一種使用射線照射血液或血液制品，對淋巴細胞進行滅活，預防輸血活動中TA-GVHD疾病的醫療設備。
[0006]從射線源分，血液輻照儀可以分為兩類，一類是采用放射源(主要是Cs-137、Co-60)產生的γ射線照射血液或血液制品，一類是采用X光管產生的X射線照射血液或血液制品。放射源型血液輻照儀設備需要裝配幾百到上千居里的同位素放射源，這存在著潛在的核泄漏風險。而X光源型血液輻照儀則沒有核泄漏的風險，設備斷電就沒有任何射線產生。
[0007]不過，X光源型血液輻照儀存在X射線能量低、單源輻照不均勻的缺點，不能滿足血液輻照儀標準中對輻射均勻性的要求(國標要求血液輻照儀輻照的非均勻性〈20% ) ο普通X光源產生的X光子能量一般在200keV以下，它在照射血液或血液制品過程中，很容易被淺層的血液大量吸收，使得到達深處的X光子數量迅速減少。
[0008]為了克服單源輻照X光源型血液輻照儀的缺點，雙源輻照的方案被提出來。通過在血袋容器上下兩個方向對稱放置一個X光源，其能夠顯著提高輻照的均勻性。但如圖1所示，由于雙X光源方案其橫向方向的輻射場均勻范圍有限，使得整個輻照場中只能有一小部分區域能夠放置血袋接受輻照，而大部分區域的射線均被浪費。
【發明內容】
[0009]針對上述問題，本發明的目的是提供一種雙X射線源血液輻照裝置，包括:
[0010]輻照腔體，以及設置在輻照腔體內部的X射線源和用于盛放血袋的血袋容器，所述血袋中承載有待輻照血液或血液制品，所述X射線源的數量為兩個以上，其分別設置于血袋容器的上方與下方，且兩個X射線源之間，其在水平投影面上的位置相互錯開，所述輻照腔體的內壁上設有X射線反射層。
[0011]進一步，所述輻照腔體的外部設有X射線吸收層。
[0012]進一步，所述X射線源的數量為兩個。
[0013]進一步，所述X射線反射層由原子序數少于10的元素所組成的材料構成。
[0014]進一步，所述X射線反射層由聚乙烯構成。
[0015]進一步，所述X射線吸收層由原子序數大于50的元素所組成的材料構成。
[0016]進一步，所述X射線吸收層由重金屬材料構成。
[0017]進一步，所述重金屬材料為鉛、鎢。
[0018]進一步，所述X射線反射層的厚度小于10CM。
[0019]本發明為一種雙X射線源血液輻照裝置，其通過將上下兩個X光源相互錯開，增加均勻輻射場的面積，從而增大能夠放置血液或血液制品的面積，對X光源的利用更加充分。
【附圖說明】
[0020]圖1為現有技術中的輻照劑量場強度的示意圖；
[0021]圖2為本發明中整體結構原理示意圖；
[0022]圖3為本發明中輻照劑量場強度的示意圖；
[0023]圖4為本發明中兩X射線源位置關系的示意圖。
【具體實施方式】
[0024]下面結合附圖及具體實施例對本發明作進一步詳細的說明。
[0025]請參閱圖2至圖4，本發明一個實施例提供一種雙X射線源血液輻照裝置，包括:
[0026]輻照腔體，以及設置在輻照腔體內部的X射線源和用于盛放血袋的血袋容器5，所述血袋中承載有待輻照血液或血液制品，所述X射線源的數量為兩個以上，其分別設置于血袋容器5的上方與下方，且兩個X射線源之間，其在水平投影面上的位置相互錯開，所述輻照腔體的內壁上設有X射線反射層3。
[0027]優選的，所述X射線源的數量為兩個。
[0028]由于第一 X光源I與第二 X光源2錯開放置，其將使得第一正面6和第二正面9區域的劑量場強度大于第一背面7和第二背面8區域的劑量場強度。這種由于射線被部分吸收所導致的劑量場非均勻性將低于國標規定的上限值，滿足國標的要求。且由于能量低于51 IkeV的X光子與物質相互作用，主要發生兩種效應，一種是光電效應，另一種是康普頓散射效應。物質的原子序數越高，發生光電效應的比例越高；物質的原子序數越小，發生康普頓散射效應的比例越高。在輻照腔體屏蔽箱內部設置X射線反射層3，其為低原子序數的材料，可以讓本來將逃離輻照腔體屏蔽箱的X光子有一部分被反射回輻照腔體內，其將進一步提高X光子的利用效率，并且能夠增加待輻照血液或血液制品背離X射線源一面的劑量場強度，降低待輻照血液或血液制品正、反面劑量場的梯度，提高劑量場的均勻性。
[0029]當兩個X射線源水平距離較遠時，兩X射線源連線與待輻照血液平面的交點O的劑量場強度將比X射線源在血液平面的投影點Al低。因此，兩X射線源水平距離的理論最大值是O點的劑量場強度為Al點的80%。
[0030]進一步，所述輻照腔體的外部設有X射線吸收層4。而對于穿過X射線反射層3的X射線，為了避免它們對周圍環境造成污染，所以采用X射線吸收層4對其進行吸收。
[0031]進一步，所述X射線反射層3由原子序數少于10的元素所組成的材料構成，使其利于康普頓散射效應的發生，從而使X射線中的X光子有更容易被反射回輻照腔體內。
[0032]進一步，所述X射線反射層3由聚乙烯構成。
[0033]進一步，所述X射線吸收層4由原子序數大于50的元素所組成的材料構成，使X射線中的X光子有更容易被吸收。
[0034]進一步，所述X射線吸收層4由重金屬材料構成。
[0035]進一步，所述重金屬材料為鉛、媽。
[0036]進一步，所述X射線反射層3的厚度小于10CM。使其既能滿足了 X射線的反射需求，又能保持設備整體的小體積。
[0037]以上所述，僅是本發明的實施例而已，并非對本發明作任何形式上的限制，雖然本發明已以實施例揭露如上，然而并非用以限定本發明，任何熟悉本專業的技術人員，在不脫離本發明技術方案范圍內，當可利用上述揭示的技術內容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實施例，但凡是未脫離本發明技術方案內容，依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發明技術方案的范圍內。
【主權項】
1.一種雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，包括:輻照腔體，以及設置在輻照腔體內部的X射線源和用于盛放血袋的血袋容器，所述血袋中承載有待輻照的血液或血液制品，所述X射線源的數量為兩個以上，其分別設置于血袋容器的上方與下方，且兩個X射線源之間，其在水平投影面上的位置相互錯開，所述輻照腔體的內壁上設有X射線反射層。2.如權利要求1所述的雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述輻照腔體的外部設有X射線吸收層。3.如權利要求1所述雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述X射線源的數量為兩個。4.如權利要求1所述雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述X射線反射層由原子序數少于10的元素所組成的材料構成。5.如權利要求4所述雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述X射線反射層由聚乙稀構成。6.如權利要求2所述雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述X射線吸收層由原子序數大于50的元素所組成的材料構成。7.如權利要求6所述的雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述X射線吸收層由重金屬材料構成。8.如權利要求7所述的雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述重金屬材料為鉛、鎢。9.如權利要求3、5或8所述的雙X射線源血液輻照裝置，其特征在于，所述X射線反射層的厚度小于10CM。
【專利摘要】本實用新型提出一種雙X射線源血液輻照裝置，其應用于血液輻照儀的技術領域，包括：輻照腔體，以及設置在輻照腔體內部的X射線源和用于盛放血袋的血袋容器，所述血袋中承載有待輻照的血液或血液制品，所述X射線源的數量為兩個以上，其分別設置于血袋容器的上方與下方，且兩個X射線源之間，其在水平投影面上的位置相互錯開，所述輻照腔體的內壁上設有X射線反射層；本實用新型其通過將上下兩個X光源相互錯開，增加均勻輻射場的面積，從而增大能夠放置血袋的面積，對X光源的利用更加充分。
【IPC分類】A61M1/02
【公開號】CN204840428
【申請號】CN201520544926
【發明人】代秋聲, 徐如祥
【申請人】江蘇摩科特醫療科技有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年7月24日