自動煎藥機的儲液槽結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本發明屬于中藥煎藥設備領域，具體地說，涉及一種自動煎藥機的儲液槽結構。
【背景技術】
[0002]中草藥一般分為兩次煎制，主要由于一次煎制時不能把中藥的藥性完全發揮出來，第二次煎制時能夠使多味草藥更好的結合發揮其本身最好效果。目前，煎制中藥一般使用煎藥機完成，兩次煎藥的設備簡稱為兩煎機。
[0003]二次煎藥的工作步驟為:將第一次煎制完畢的藥液放置儲液槽內，然后向藥鍋內注入清水，進行第二次煎制。
[0004]當進行二次煎制時，通常目測第一次藥液的容量，然后再手動向藥鍋內注入二次煎藥的用水量。
[0005]上述操作過程繁瑣，而且第二次用水量僅靠工作人員的直覺判斷，誤差較大，最終影響中藥的藥效。
【發明內容】
[0006]本發明的目的在于克服現有技術的不足，提供一種結構簡單、操作方便的自動煎藥機的儲液槽結構。
[0007]本發明的方案是這樣實現的:
[0008]—種自動煎藥機的儲液槽結構，包括殼體、藥鍋以及儲液槽，所述殼體的上部安裝藥鍋，對應藥鍋的殼體下部安裝儲液槽，所述儲液槽內安裝液位探測器。
[0009]而且，所述液位探測器為浮球液位控制器。
[0010]而且，所述儲液槽為傾斜設置，傾斜角度為15-20度。
[0011]而且，所述儲液槽后端部安裝高壓噴頭。
[0012]本發明的優點和積極效果是:
[0013]1、本結構中的儲液槽內安裝液位探測器，可快速檢測一煎藥液的容量，為二煎上水提供參數，保證了中藥藥效發揮充分，實現了二煎藥液上水自動控制方式，節省人力、提高工作效率。
[0014]2、本結構中的儲液槽為傾斜設置，便于將煎制好的藥液完全流出，避免浪費。
[0015]3、本結構中儲液槽后部安裝高壓噴頭，便于儲液槽清洗干凈、徹底，防止污染。
【附圖說明】
[0016]圖1是本發明的剖視圖。
【具體實施方式】
[0017]下面結合附圖并通過具體實施例對本發明作進一步詳述。
[0018]—種自動煎藥機的儲液槽結構，如圖1所示，包括殼體2、藥鍋1以及儲液槽4，所述殼體的上部安裝藥鍋，對應藥鍋的殼體下部安裝儲液槽。
[0019]本發明的創新點為:
[0020]1、所述儲液槽內安裝液位探測器5，該液位探測器為浮球液位控制器，本發明附圖中的浮球液位控制器為兩個。
[0021 ] 浮球液位控制器的工作原理為:當一煎藥液通過儲液槽注入口 3流入儲液槽時，浮球液位控制器可檢測一煎藥液的容量，并將檢測的數據發送給煎藥機的控制單元，為第二次煎藥上水提供參數，實現了二煎藥液上水自動控制方式，節省人力、提高工作效率。
[0022]2、所述儲液槽為傾斜設置，傾斜角度A為15-20度，其作用是將兩次煎得的藥液完全流出，避免浪費。
[0023]3、所述儲液槽后端部安裝多個高壓噴頭6，該高壓噴頭的角度不同，方便清洗儲液槽。
[0024]本發明的優點效果為:
[0025]1、本結構中的儲液槽內安裝液位探測器，可快速檢測一煎藥液的容量，為二煎上水提供參數，保證了中藥藥效發揮充分，實現了二煎藥液上水自動控制方式，節省人力、提高工作效率。
[0026]2、本結構中的儲液槽為傾斜設置，便于將煎制好的藥液完全流出，避免浪費。
[0027]3、本結構中儲液槽后部安裝高壓噴頭，便于儲液槽清洗干凈、徹底，防止污染。
[0028]需要強調的是，本發明所述的實施例是說明性的，而不是限定性的，因此本發明包括并不限于【具體實施方式】中所述的實施例，凡是由本領域技術人員根據本發明的技術方案得出的其他實施方式，同樣屬于本發明保護的范圍。
【主權項】
1.一種自動煎藥機的儲液槽結構，包括殼體、藥鍋以及儲液槽，所述殼體的上部安裝藥鍋，對應藥鍋的殼體下部安裝儲液槽，其特征在于:所述儲液槽內安裝液位探測器。2.根據權利要求1所述的自動煎藥機的儲液槽結構，其特征在于:所述液位探測器為浮球液位控制器。3.根據權利要求1或2所述的自動煎藥機的儲液槽結構，其特征在于:所述儲液槽為傾斜設置，傾斜角度為15-20度。4.根據權利要求1或2所述的自動煎藥機的儲液槽結構，其特征在于:所述儲液槽后端部安裝高壓噴頭。
【專利摘要】本發明涉及一種自動煎藥機的儲液槽結構，包括殼體、藥鍋以及儲液槽，所述殼體的上部安裝藥鍋，對應藥鍋的殼體下部安裝儲液槽，所述儲液槽內安裝液位探測器，所述液位探測器為浮球液位控制器。本結構中的儲液槽內安裝液位探測器，可快速檢測一煎藥液的容量，為二煎上水提供參數，保證了中藥藥效發揮充分，實現了二煎藥液上水自動控制方式，節省人力、提高工作效率。本結構中的儲液槽為傾斜設置，便于將煎制好的藥液完全流出，避免浪費。本結構中儲液槽后部安裝高壓噴頭，便于儲液槽清洗干凈、徹底，防止污染。
【IPC分類】A61J3/00
【公開號】CN105380793
【申請號】CN201510851351
【發明人】郭慶澤, 王松
【申請人】天津三延精密機械有限公司
【公開日】2016年3月9日
【申請日】2015年11月27日