專利名稱:磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)和磁共振成像裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)和應(yīng)用該線圈結(jié)構(gòu)的磁共振成像裝置，具體地說，涉及包括按如下順序?qū)盈B的主磁場產(chǎn)生磁體、梯度磁場產(chǎn)生線圈、屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)以及應(yīng)用這種線圈結(jié)構(gòu)的磁共振成像裝置。
背景技術(shù)：
近年來，由于磁共振成像裝置(MRI裝置)能夠提供對象比如人體的斷層圖像，因此它引起了人們的注意。在MRI裝置中，需要應(yīng)用在對象內(nèi)的氫原子核(質(zhì)子)的磁特性，因此必需形成較強的均勻的且穩(wěn)定的磁場。
因此，常規(guī)的MRI裝置應(yīng)用超導(dǎo)磁體來產(chǎn)生主磁場；然而，在應(yīng)用這種超導(dǎo)磁體的過程中，必需應(yīng)用液氦來達到低溫狀態(tài)以實現(xiàn)超導(dǎo)狀態(tài)。因此，只有這樣的MRI裝置才獲得了廣泛的應(yīng)用該MRI裝置應(yīng)用永磁體而不應(yīng)用液氦并且具有極好的開放性以減輕患者所受到的幽閉恐怖癥。
應(yīng)用永磁體的MRI裝置被配置成將對象放置在彼此相對設(shè)置的一對磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)之間形成的磁場空間中，并獲得對象的斷層圖像，通過按主磁場產(chǎn)生磁體(永磁體)、梯度磁場產(chǎn)生線圈、屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈的順序?qū)盈B來構(gòu)造該線圈結(jié)構(gòu)。在該發(fā)射線圈之上，一般地還層疊一個由像FRP材料制成的蓋。
通過順序地層疊并組裝已經(jīng)分別制造的主磁場發(fā)生磁體、梯度磁場發(fā)生線圈、屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈構(gòu)造磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)。
在這種磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)中，必需以較高的精度控制在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離(間隔)。因為這種距離誤差能夠引起頻移的增加，并且嚴重影響所得的斷層圖像的圖像質(zhì)量，所以要精確控制它。雖然在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離一般為20毫米，但是在上述組裝的過程中實際上可以出現(xiàn)大約1毫米的公差，而1毫米的公差引起的頻移量大約為100千赫茲。
為此，在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離的公差越小越可?。蝗欢谄帘魏途€圈之間，在反復(fù)試驗的過程中為更換必需插入/取出用于校正磁場以調(diào)整由主磁場產(chǎn)生磁體所產(chǎn)生的主磁場的空間均勻性的多個可替換的墊板，該墊板本身的厚度的公差影響在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離，因此使得難以降低電流公差。
在目前希望進一步改善圖像質(zhì)量的情況下必需降低公差。
發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的一個目的是提供一種磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)和應(yīng)用這種線圈結(jié)構(gòu)的磁共振成像裝置，在該線圈結(jié)構(gòu)中可以減小在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離的公差以降低頻移量。
在第一方面中，本發(fā)明提供一種磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，該磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)包括按如下順序?qū)盈B的主磁場產(chǎn)生磁體、梯度磁場產(chǎn)生線圈、屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈，其特征在于至少屏蔽和發(fā)射線圈是整體地形成。
在此所使用的術(shù)語“至少屏蔽和發(fā)射線圈是整體地形成”是指在屏蔽和發(fā)射線圈是整體地形成的線圈結(jié)構(gòu)中主磁場產(chǎn)生磁體和梯度磁場產(chǎn)生線圈也可以另外地整體形成。
根據(jù)具有這種結(jié)構(gòu)的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于至少屏蔽和發(fā)射線圈是整體地形成，因此在它們之間的距離僅包含在制造過程中的公差而不受設(shè)置在屏蔽和發(fā)射線圈之間設(shè)置的磁場校正墊板的公差的影響。因此，相對于在常規(guī)磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)中的屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離的公差，在該屏蔽和該發(fā)射線圈之間的距離的公差可以減小，通過層疊屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈來組裝該常規(guī)磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)。因此，相對于常規(guī)的斷層圖像的圖象質(zhì)量，改善了所得的斷層圖像的圖象質(zhì)量，并且由于減小了頻移量，還可以極大地減少校正頻移量的調(diào)整工作。此外，還可以降低所需的RF功率。
例如，通過本發(fā)明人實現(xiàn)的實際結(jié)果顯示當在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離為20毫米時，距離的公差大約為0.5毫米，與常規(guī)的公差(大約為1毫米)相比大約降低了一半。由此所降低的公差導(dǎo)致了大約40千赫茲的頻移。
在第二方面中，本發(fā)明提供在第一方面的發(fā)明中提出的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于從外周邊側(cè)磁場校正墊板可以插入其中/從其中取出的墊板空間形成在屏蔽和發(fā)射線圈之間。在此所示使用的術(shù)語“外周邊側(cè)”是指在與屏蔽和發(fā)射線圈的層疊的方向正交的平面中屏蔽和發(fā)射線圈的外面。
根據(jù)具有這種配置的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于從外周邊側(cè)可以任何地且分別地將磁場校正墊板插入到在屏蔽和發(fā)射線圈之間形成的墊板空間中/從其中將其取出，因此在反復(fù)試驗的過程中很容易插入/取出磁場校正墊板以便進行更換。
在第三方面中，本發(fā)明提供在第二方面的發(fā)明所提供的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于將磁場校正墊板分為多個通常為板條形部分，并將墊板空間形成為管狀腔，從外周邊側(cè)可以將分為多個板條形部分的磁場校正墊板分別插入到該管狀腔中/從其中取出。
根據(jù)具有這種配置的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于將磁場校正墊板分為多個板條形部分，當在校正主磁場的不均勻性時，可以僅替換與不均勻的空間相對應(yīng)的板條形部分，因此相對于必需將沒有劃分的整體磁場校正墊板整個地插入到墊板空間/從其中取出相比減少了工作量。
在第四方面中，本發(fā)明提供在第二方面的發(fā)明所提供的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于將磁場校正墊板分為多個通常為扇形部分，并將墊板空間形成為管狀腔，從外周邊側(cè)可以將分為多個扇形部分的磁場校正墊板分別插入到該管狀腔中/從其中取出。
根據(jù)具有這種配置的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于將磁場校正墊板分為多個扇形部分，當在校正主磁場的不均勻性時，可以僅替換與不均勻的空間相對應(yīng)的扇形部分，因此相對于必需將沒有劃分的整體磁場校正墊板整個地插入到墊板空間/從其中取出相比減少了工作量。
在第五方面中，本發(fā)明提供在第二至第四方面的發(fā)明所提供的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于，由于磁場校正墊板容納在墊板空間中，包括用于覆蓋磁場校正墊板的外周邊并連接和固定到磁場校正墊板的外周邊表面的固定環(huán)。
根據(jù)具有這種配置的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于固定環(huán)覆蓋容納在墊板空間中的磁場校正墊板的外部周邊，并連接和固定到磁場校正墊板的外周邊表面，因此可以防止磁場校正墊板從墊板空間中脫出，并且可以確保防止在墊板空間中的不希望的移動。
在第六方面中，本發(fā)明提供在第三或四方面的發(fā)明所提供的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于，由于磁場校正墊板容納在墊板空間中，包括用于連接并固定磁場校正墊板的相鄰的分開的部分的外周邊表面的多個固定帶。
根據(jù)具有這種配置的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于固定帶連接并固定磁場校正墊板的相鄰的分開的部分(板條形部分或扇形部分)的外周邊表面，所以磁場校正墊板作為一體整體地連接并固定在它的外周邊表面上，因此可以防止磁場校正墊板的分開的部分從墊板空間中脫出，并且可以確保防止在墊板空間中的不希望的移動。
在第七方面中，本發(fā)明提供在第三或第四方面的發(fā)明所提供的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于通過在分開部分的至少一部分的外部表面和管狀腔的內(nèi)壁之間的摩擦力鎖定磁場校正墊板的每個分開部分。
根據(jù)具有這種配置的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于通過在分開部分的至少一部分的外部表面和管狀腔的內(nèi)壁之間的摩擦力鎖定了磁場校正墊板的每個分開部分(板條形部分或扇形部分)，因此可以防止磁場校正墊板的每個分開部分從容納該分開部分的墊板空間中脫出，并且可以確保防止在墊板空間中的不希望的移動。
在第八方面中，本發(fā)明提供在第一至第七方面的發(fā)明所提供的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其特征在于在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離的公差最大為±0.5毫米。
根據(jù)具有這種配置的本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離的公差最大為±0.5毫米，因此相對于常規(guī)的±1.0毫米的距離公差減小了公差，基本降低了一半的頻移量。
在第九方面中，本發(fā)明提供一種磁共振成像裝置，其特征在于包括根據(jù)第一至第八方面中的任一方面的發(fā)明的兩個磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，這兩個線圈結(jié)構(gòu)在放置對象的空間上彼此面對設(shè)置。
根據(jù)具有這種配置的磁共振成像裝置，可以實現(xiàn)與前述的第一至第八方面的發(fā)明(磁共振成像線圈結(jié)構(gòu))相對應(yīng)的效果；例如，相對于常規(guī)的斷層圖像質(zhì)量可以改善所得的斷層圖像的圖像質(zhì)量；由于降低了頻移量，因此可以極大地減少校正頻移量的調(diào)整工作，此外，還可以減少所要求的RF功率，等。
因此，根據(jù)本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)和應(yīng)用該磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)的磁共振成像裝置，可以獲得如下的效果。
首先，由于至少屏蔽和發(fā)射線圈整體地形成，因此在它們之間的距離僅包含在形成過程中的公差，并不受設(shè)置在屏蔽和發(fā)射線圈之間的磁場校正墊板的公差的影響。因此，相對于在通過層疊屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈組裝的常規(guī)磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)中的在屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離的常規(guī)公差，降低了在該屏蔽和該發(fā)射線圈之間的距離的公差。因此，相對于常規(guī)的斷層圖像的圖象質(zhì)量，可以改善所得的斷層圖像的圖像質(zhì)量；并且由于降低了頻移量，因此可以極大地減少校正頻移量的調(diào)整工作，此外，還可以減少所要求的RF功率。
第二，由于將磁場校正墊板形成為分成多個通常為板條形或扇形部分，并將墊板空間形成為管狀腔，所以分為板條形或扇形部分的磁場校正墊板可以分別從外部周邊插入到該管狀腔中/從其中取出；因此，在校正主磁場的不均勻性時，可以僅替換與不均勻的空間相對應(yīng)的板條形或扇形部分，因此相對于在必需將沒有分開的較大的磁場校正墊板整個地插入到墊板空間/從其中取出時的工作量相比減少了工作量。
通過在附圖中所示的本發(fā)明的優(yōu)選實施例的描述，將會清楚本發(fā)明的進一步目的和優(yōu)點。
附圖1所示為本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)。
附圖2所示為應(yīng)用在附圖1中的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)的垂直磁場型MRI裝置，該裝置是本發(fā)明的一個實施例。
附圖3所示為應(yīng)用固定帶連接和固定的方法。
附圖4所示為應(yīng)用分為板條形部分的磁場校正墊板的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)。
附圖5所示為通過在導(dǎo)軌和導(dǎo)軌槽之間的摩擦力來防止板條形部分脫出的實施例。
具體實施方式
現(xiàn)在參考附圖詳細描述根據(jù)本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)和應(yīng)用該線圈結(jié)構(gòu)的本發(fā)明的磁共振成像(MRI)裝置的實施例。但是本發(fā)明并不限于這些實施例。
附圖1所示為本發(fā)明的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)10的一個實施例，附圖2所示為應(yīng)用在附圖1中所示的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)10的垂直磁場型MRI裝置100的外視圖，該裝置是本發(fā)明的一個實施例。為給附圖2所示的MRI裝置100產(chǎn)生磁場，將本實施例的一對磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)10和10′設(shè)置在安置對象50的空間60上，該對線圈從空間60的上部和下部彼此面對。
設(shè)置在對象50之上的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)10′與設(shè)置在對象50之下的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)10(參見附圖1)具有相同的結(jié)構(gòu)，除了前者在上-下(頂-底)方向翻轉(zhuǎn)以外。
在所示的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)10中，從底部開始層疊主磁場產(chǎn)生磁體11、梯度磁場產(chǎn)生線圈12、屏蔽13、磁場校正墊板14(14a，14b，14c，...)、發(fā)射線圈16和封蓋17。
屏蔽13和發(fā)射線圈16與由FRP制成的連接部分15整體地形成，該連接部分15在屏蔽13和發(fā)射線圈16之間保持恒定的距離。如圖所示，磁場校正墊板14由通過徑向地分為通常為扇形的磁場校正墊板而形成的6個扇形部分14a，14b，14c，...組成。扇形部分14a，14b，14c，...容納在形成在連接部分15中的相應(yīng)的管狀腔15c中，每個管狀腔都是與扇形部分14a，14b，14c，...具有相同形狀的一個內(nèi)部空間。
此外，如在附圖中的箭頭所示，將磁場校正墊板的扇形部分14a，14b，14c，...構(gòu)造成從外周邊可以插入到相應(yīng)的管狀腔15c中/從其中取出，以便以磁場校正墊板的多個的可替換的扇形部分中的適當?shù)囊粋€進行合適的替換。每個扇形部分14a，14b，14c，...的外周邊表面是一種弧形面，并具有螺紋孔14x，該螺紋孔14x可以容納通過固定環(huán)18穿過孔18a的螺釘19，該固定環(huán)將在下文中描述。
通過連接扇形部分14a，14b，14c，...的外周邊表面并在扇形部分14a，14b，14c，...容納在相應(yīng)的管狀腔15c中時覆蓋該表面的固定環(huán)18的內(nèi)周邊表面，固定環(huán)18阻止磁場校正墊板的扇形部分14a，14b，14c，...從相應(yīng)的管狀腔15c中脫出。在與形成在扇形部分14a，14b，14c，...的外周邊表面上的螺紋孔14x相對應(yīng)的位置上，固定環(huán)18還具有孔18a以用于通過螺釘19將固定環(huán)18連接并固定到扇形部分14a，14b，14c，...。
在具有這種配置的本實施例的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)10中，由于屏蔽13和發(fā)射線圈16都與連接部分15整體形成，因此在屏蔽13和發(fā)射線圈16之間的距離僅包含在形成過程中的公差并且不受設(shè)置在屏蔽13和發(fā)射線圈16之間的磁場校正墊板14的厚度的公差的影響。因此，相對于常規(guī)的公差，可以降低在屏蔽13和發(fā)射線圈16之間的距離的公差，例如，如果常規(guī)的公差為±1.0毫米，則在本實施例中的公差降低到±0.5毫米。
因此，相對于常規(guī)的斷層圖象的圖象質(zhì)量，可以改善通過作為本發(fā)明的一種實施例的MRI裝置100所獲得的斷層圖象的圖象質(zhì)量；并且由于公差的降低導(dǎo)致頻移量的降低，因此可以極大地減少校正頻移量的調(diào)整工作。此外，還可以降低所需的RF功率。
雖然將在附圖1中所示的實施例的線圈結(jié)構(gòu)10構(gòu)造成應(yīng)用固定環(huán)18來連接并固定磁場校正墊板的扇形部分14a，14b，14c，...，但是本發(fā)明并不限于這種實施例，如在附圖3中示例性地所示，還可以將線圈結(jié)構(gòu)10構(gòu)造成包括6個固定帶20而不是固定環(huán)18，在扇形部分14a，14b，14c，...容納在管狀腔15c中時該固定帶連接并固定相鄰的扇形部分(例如，14a和14b，14b和14c，等)的外周邊表面。與在固定環(huán)18中一樣，在與相鄰的扇形部分14a，14b，14c，...的螺紋孔14x相對應(yīng)的位置上，每個固定帶20具有孔20x，該孔20x用于通過螺釘19由固定帶20連接并固定相鄰的扇形部分(14a和14b，14b和14c，等)。這種固定方法與上文所描述的實施例(附圖1)具有相同的效果。
此外，磁場校正墊板14并不限于如上文所描述的分為扇形部分14a，14b，14c，...的磁場校正墊板，如附圖4所示，還可以使用分為細長柱狀的板條形部分14a，14b，14c，14d，...的磁場校正墊板14。在這種情況下，由于內(nèi)部空間具有與板條形部分14a，14b，14c，14d，...的形狀相同的形狀，因此將形成在連接部分15中的管狀腔15d構(gòu)造成與板條形部分14a，14b，14c，14d，...相對應(yīng)。這種劃分的形式具有與在上文的實施例(附圖1)相同的效果。
還是在板條形部分14a，14b，14c，14d，...的情況下，連接和固定的方法并不限于應(yīng)用固定環(huán)18的方法，而是還可以應(yīng)用在附圖3中所示的固定帶20進行連接和固定，或者應(yīng)用如附圖5所示的方法，在管狀腔15c的壁上形成具有通常為□-形的橫截面的突伸的導(dǎo)軌15y；在另一方面，在每個板條形部分14a，14b，14c，14d，...上形成與該導(dǎo)軌接合的導(dǎo)軌槽14y以在導(dǎo)軌15y和導(dǎo)軌槽14y之間建立靜摩擦系數(shù)，以使板條形部分14a，14b，14c，14d，...不容易從管狀腔15d中出來，由此防止板條形部分14a，14b，14c，14d，...脫出，因此不需提供專門的固定裝置比如固定環(huán)18和固定帶20。
在不脫離本發(fā)明的精神范圍的前提下可以構(gòu)造出多個不同的實施例。應(yīng)該理解的是本發(fā)明并不限于在說明書中所描述的特定的實施例，而是以所附加的權(quán)利要求
來限定。
權(quán)利要求
1.一種磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，該磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)包括按這個順序?qū)盈B的主磁場產(chǎn)生磁體、梯度磁場產(chǎn)生線圈、屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈，其特征在于至少所說的屏蔽和所說的發(fā)射線圈被與由包括玻璃纖維加固塑料FRP的材料制成的連接部分整體地形成，該連接部分在所述屏蔽和發(fā)射線圈之間保持恒定的距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其中在所說的屏蔽和所說的發(fā)射線圈之間形成一個所說的磁場校正墊板可以從外周邊側(cè)插入其中的墊板空間，所說的磁場校正墊板可以從外周邊側(cè)從其中取出的所述墊板空間在所說的屏蔽和所說的發(fā)射線圈之間形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求
2所述的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其中所說的磁場校正墊板由多個板條形部分形成，所說的墊板空間由從外周邊側(cè)可以將所說的板條形部分單獨插入其中的管狀腔形成，以及所說的墊板空間由從外周邊側(cè)可以將所說的板條形部分單獨從其中取出的管狀腔形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求
2所述的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其中所說的磁場校正墊板由多個扇形部分形成，所說的墊板空間由從外周邊側(cè)可以將所說的扇形部分單獨插入其中的管狀腔形成，以及所說的墊板空間由從外周邊側(cè)可以將所說的扇形部分單獨從其中取出的管狀腔形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于所說的磁場校正墊板容納在一個墊板空間中，進一步包括用于覆蓋所說的磁場校正墊板的外周邊的固定環(huán)，所說的固定環(huán)連接和固定到所說的磁場校正墊板的外周邊表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，由于所說的磁場校正墊板容納在一個墊板空間中，進一步包括用于連接并固定所說的磁場校正墊板的相鄰的墊板部分的外周邊表面的多個固定帶。
7.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其中通過在所說的磁場校正墊板的每個墊板部分的外部表面的至少一部分和一個容納所述墊板部分的墊板空間的管狀腔內(nèi)壁之間的摩擦力而鎖定所說的每個墊板部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，其中在所說的屏蔽和所說的發(fā)射線圈之間的距離的公差最大為±0.5毫米。
9.一種磁共振成像裝置，該磁共振成像裝置包括兩個磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，這兩個線圈結(jié)構(gòu)在用于放置對象的空間上彼此面對設(shè)置，每個線圈結(jié)構(gòu)包括按這個順序?qū)盈B的主磁場產(chǎn)生磁體、梯度磁場產(chǎn)生線圈、屏蔽、磁場校正墊板和發(fā)射線圈，其特征在于至少所說的屏蔽和所說的發(fā)射線圈被與由包括玻璃纖維加固塑料FRP的材料制成的連接部分整體地形成，該連接部分在所述屏蔽和發(fā)射線圈之間保持恒定的距離。
專利摘要
為形成一種其中屏蔽和發(fā)射線圈之間的距離的公差被降低從而降低頻移量的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)，在包括層疊的主磁場產(chǎn)生磁體(11)、梯度磁場產(chǎn)生線圈(12)、屏蔽(13)、磁場校正墊板(14；14a，14b，14c，…)和發(fā)射線圈(16)和封蓋(17)的磁共振成像線圈結(jié)構(gòu)(10)中，屏蔽(13)和發(fā)射線圈(16)與由FRP制成的連接部分(15)被整體地形成，該連接部分在屏蔽(13)和發(fā)射線圈(16)之間保持距離恒定。
文檔編號G01R33/422GKCN1220470SQ02119162
公開日2005年9月28日 申請日期2002年5月10日
發(fā)明者佐藤健志 申請人:Ge醫(yī)療系統(tǒng)環(huán)球技術(shù)有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan