專利名稱：電磁波源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電磁波源，特別指的是一種中、短焦距電磁波源。
背景技術(shù)：
體外沖擊波治療設(shè)備包括體外沖擊波碎石機(jī)、沖擊波骨科治療機(jī)、沖擊波理療儀等產(chǎn)品。涉及沖擊波骨科治療機(jī)、沖擊波理療儀的波源是沖擊波產(chǎn)品的核心零件，現(xiàn)有的這些產(chǎn)品的波源主要是從體外沖擊波碎石機(jī)波源引入的，由于碎石機(jī)的使用對象不同、使用條件不同，例如要求口徑大，一般廠家碎石機(jī)波源有效輸出口徑都在直徑150mm以上，焦距長，國家標(biāo)準(zhǔn)要求大于110mm，而用于骨科治療和理療的沖擊波焦距通常只有20 80mm，另外，口徑大了操作起來非常不方便。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種電磁波源，它口徑較小、焦距較短，特別適用于碎石機(jī)以外的沖擊波其它產(chǎn)品。為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型由以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)。一種電磁波源，包括外殼、水囊、水囊壓蓋、水管、壓環(huán)、電磁盤座和電磁盤，外殼上部連接水囊，水囊利用水囊壓蓋固定在外殼上部，水囊連接水管，其特征在于水囊下部設(shè)置凹面聚焦的電磁盤，電磁盤下部設(shè)置電磁盤座，電磁盤座利用壓環(huán)固定，壓環(huán)連接外殼。所述的電磁盤包括金屬振膜、絕緣膜和線圈，線圈與電磁盤座接觸，線圈與金屬振膜之間設(shè)有絕緣膜。所述的壓環(huán)內(nèi)表面設(shè)有絕緣襯套。所述的壓環(huán)與外殼間設(shè)有連接環(huán)。所述的電磁盤與水囊下部設(shè)有密封圈。所述的電磁波源外徑小于或等于120mm。所述的電磁波源焦距長度小于或等于80mm。本實(shí)用新型有益效果在于，采用上述結(jié)構(gòu)的電磁波源，它口徑較小、焦距較短，特別適用于碎石機(jī)以外的沖擊波其它產(chǎn)品。
圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)剖面示意圖圖2為圖IA部結(jié)構(gòu)放大示意圖
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)地描述。如圖1、圖2所示的一種電磁波源，包括外殼1、水囊2、水囊壓蓋3、水管4、壓環(huán)5、 電磁盤座6和電磁盤7，外殼1上部連接水囊2，水囊2利用水囊壓蓋3固定在外殼1上部，水囊2連接水管4，水管4用于調(diào)節(jié)水囊2充盈度，從而調(diào)節(jié)焦距長度。本實(shí)用新型的水囊 2下部設(shè)置凹面聚焦的電磁盤7，電磁盤7下部設(shè)置電磁盤座6，電磁盤座6利用壓環(huán)5固定，壓環(huán)5連接外殼1。電磁盤7采用無透鏡直射式聚焦方式，由凹面聚焦。請結(jié)合圖2所示，本實(shí)用新型的電磁盤7包括金屬振膜71、絕緣膜72和線圈73， 線圈73與電磁盤座6接觸，線圈73與金屬振膜71之間設(shè)有絕緣膜72，金屬振膜71可采用招合金月旲ο如圖1、圖2所示的一種電磁波源，本實(shí)用新型的壓環(huán)5內(nèi)表面設(shè)有絕緣襯套51， 本實(shí)用新型的壓環(huán)5與外殼1間設(shè)有連接環(huán)52，連接環(huán)52用于與儀器的操作臂連接，本實(shí)用新型的電磁盤7與水囊2下部設(shè)有密封圈21。本實(shí)用新型的電磁波源外徑小于或等于 120mm，本實(shí)用新型的電磁波源焦距長度小于或等于80mm。
權(quán)利要求1.一種電磁波源，包括外殼、水囊、水囊壓蓋、水管、壓環(huán)、電磁盤座和電磁盤，外殼上部連接水囊，水囊利用水囊壓蓋固定在外殼上部，水囊連接水管，其特征在于水囊下部設(shè)置凹面聚焦的電磁盤，電磁盤下部設(shè)置電磁盤座，電磁盤座利用壓環(huán)固定，壓環(huán)連接外殼。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波源，其特征在于所述的電磁盤包括金屬振膜、絕緣膜和線圈，線圈與電磁盤座接觸，線圈與金屬振膜之間設(shè)有絕緣膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波源，其特征在于所述的壓環(huán)內(nèi)表面設(shè)有絕緣襯套。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波源，其特征在于所述的壓環(huán)與外殼間設(shè)有連接環(huán)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁波源，其特征在于所述的電磁盤與水囊下部設(shè)有密封圈。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的電磁波源，其特征在于所述的電磁波源外徑小于或等于120mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的電磁波源，其特征在于所述的電磁波源焦距長度小于或等于80mm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種電磁波源，包括外殼、水囊、水囊壓蓋、水管、壓環(huán)、電磁盤座和電磁盤，外殼上部連接水囊，水囊利用水囊壓蓋固定在外殼上部，水囊連接水管，水囊下部設(shè)置凹面聚焦的電磁盤，電磁盤下部設(shè)置電磁盤座，電磁盤座利用壓環(huán)固定，壓環(huán)連接外殼。它口徑較小、焦距較短，特別適用于碎石機(jī)以外的沖擊波其它產(chǎn)品。
文檔編號A61N5/00GK202052210SQ201120070029
公開日2011年11月30日 申請日期2011年3月14日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月14日
發(fā)明者陳文韜 申請人:陳文韜