敷抹裝置制造方法
                            
            
                            
            文檔序號：636848閱讀：299來源：國知局
            
                            
                        
            
                        
            
                        
            
                            敷抹裝置制造方法
            
【專利摘要】本發(fā)明涉及用于把活性劑敷抹到材料上的敷抹裝置，它具有一個外殼，該外殼中設置有用于存儲所述活性劑的儲存空間（10），且該敷抹裝置具有用于把所述活性劑敷抹到被置于一個敷抹空間（12）中的所述材料上的敷抹器（8）。為了進行可靠和直接的敷抹，所述敷抹器具有敷抹空間、以一種梳狀方式排列并帶有上壁和下壁的多個空心齒（22）、以及設置在這些齒之間的用于把所述材料引入所述敷抹空間（12）的間隙（24），其中在所述上壁與下壁之間設置有敷抹空間（12）的至少一部分。
            
【專利說明】敷抹裝置
            
【技術領域】
            
[0001]本發(fā)明涉及用于把活性劑施加到材料上的一種敷抹裝置，該材料特別是諸如頭發(fā)、動物皮毛、毛發(fā)蓬松的織物等的纖維狀材料。
            

            【發(fā)明內容】

            
[0002]特別地，本發(fā)明是基于這樣的目的，即提供一種敷抹裝置，借助該敷抹裝置，能夠以容易而可靠的方式把活性劑施加到諸如纖維狀材料上。
            
[0003]為了解決這種問題，提出了給該敷抹裝置提供一個外殼，該外殼包括用于存儲所述活性劑的一個儲存空間和用于施加位于一個敷抹空間中的所述活性劑到諸如纖維狀材料上的一個敷抹器。該敷抹器可被拉過所述材料且活性劑可被施加到該材料上。
            
[0004]根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例，敷抹器具有一個敷抹空間，多個空心齒被設置成帶有一個上壁和一個下壁的梳的形式，而所述敷抹空間的至少一部分位于所述上壁與下壁之間，且在這些齒之間有用于把纖維材料弓I入所述敷抹空間的間隙。通過該間隙，纖維材料能夠被方便地弓I入敷抹空間，并被所述活性劑潤濕。
            
[0005]圖6中示例定義了頂、底、前、后和橫向的方向。一般地，可以說齒向前排列且相應地具有一個頂側和一個底側，而所述齒的空心體積位于該頂側和底側之間。上壁至少部分地位于所述空心體積之上，且下壁至少部分地位于下壁之下，這些總是從其中齒指向前方的一個位置看的。
            
[0006]應該避免的是，活性劑意外泄漏到所述敷抹器之外。為此，所述間隙有利地與敷抹劑的形式、尺寸和材料相配合，從而實現(xiàn)所希望的敷抹密封性。在此，非常希望的是，沒有活性劑從敷抹器向頂部排出。為此，本發(fā)明提出了，在所述上壁的所述間隙比在所述下壁的間隙小。小是相對于間隙的寬度即間隙在兩個齒之間的橫向延伸而說的。間隙的該寬度可以是平均間隙寬度。優(yōu)選地，它是最寬的間隙寬度。
            
[0007]如果下壁沿著一個向前的區(qū)域的縱向延伸方向具有平坦的厚度，對接近根部的毛發(fā)的著色會更加容易。厚度指的是沿著頂部/底部方向的深度，而它與前/后的方向有關，特別是垂直直立在其上。該前/后方向不是一個絕對的方向，而是與一個間隙的縱向延伸有關，或者，在本發(fā)明的這個細節(jié)中，與下壁的縱向延伸有關。
            
[0008]優(yōu)選地，該均勻的厚度小于2mm，特別是在大于至少5mm的一個長度上，從而使該長度相對均勻厚度的偏離優(yōu)選地小于20%，特別是小于10%。
            
[0009]如果下壁的頂側在均勻厚度的距離之后向上彎曲，就能夠實現(xiàn)向后部的良好敷抹密封性。有利地，該彎曲的角度是15°，特別是至少20°，且進一步特別地是25°，且有利地是在最大3mm的一個距離上。
            
[0010]為了使毛發(fā)被活性劑良好地潤濕，下壁具有一個限制所述敷抹空間的內側是有利的，其沿著向前方向相對于敷抹器的下支撐表面有一個向后的角度，該角度加大至至少70。。
            
[0011]該下壁的內表面位于內側上。優(yōu)選地，該支撐表面是下壁的一個外側。[0012]優(yōu)選地，該角度是通過所述下壁的角度，即在一個橫向橫截面中與間隙平行。它可以是內側上的切向與平行于所述間隙的支撐表面之間的角度。
            
[0013]在一個可替換或附加的定義中，該角度可相對于在內表面的一個點處的支撐表面而在內表面上被如下定義:與觀察點的內表面處的一個相鄰間隙平行的一個切線包括了這樣的角度，即與內側的觀察點最接近的點處的支撐表面上的間隙平行的切線處于該角度。
            
[0014]以下，點之間的距離的這種定義可被用作相應的通道的基礎。在一個表面上的一個起點得到考慮，且在一個相應表面上(例如在一個相對的表面上)尋找一個相應的點?；蛘?，在一個起點考慮至一個表面的一條切線，且在一個相應的點尋找至一個相應表面的另一條切線。該相應的點就是最接近起點的相應表面上的那個點。
            
[0015]為了良好的潤濕，如果內側與繃緊地且最深地被引導通過所述敷抹空間的毛發(fā)成至少60°且特別是至少80°的一個角度，則也是優(yōu)選的。特別地，如果該角度>90°，從而后壁持續(xù)地與毛發(fā)垂直。
            
[0016]當敷抹空間的后部區(qū)域的內側在一個最大IOmm的區(qū)域中具有一個凹的鼓出部且該鼓出部具有至少70°的鼓出部圓周時，會得到相同的優(yōu)點。
            
[0017]當在其后段中的該內側與上壁一起使敷抹空間向著頂部漸細時，可實現(xiàn)大的敷抹長度和緊湊的設計。
            
[0018]當下壁的區(qū)域中的至少一個間隙具有一個后間隙出口且該出口從所述敷抹器的一個下支撐表面延伸至支撐表面上的一個凹槽中時，活性劑從毛發(fā)上的意外脫離可得到避免。特別地，間隙出口從前部向后部的延伸與支撐表面具有至少70°的角度。如果角度更大，特別是在90°與120°之間，則上述優(yōu)點將能夠與纖維可被特別良好地拉入敷抹器的進一步的優(yōu)點結合在一起。根據(jù)活性劑的不同，如果間隙出口的延伸有120°至150°之間的一個角度，則是更為有利的。
            
[0019]當凹槽形成一個橫向漸寬的間隙，會產生同樣的優(yōu)點，其中間隙沿著橫向變寬且把被導向的纖維釋放到間隙之外。特別地，凹槽的寬度，隨著離間隙出口的距離的加大且其深度的減小，而向著后部增大。
            
[0020]當若干個間隙的后部的間隙出口結束于作為一個凹槽的一個單個腔時，對潤濕的毛發(fā)或纖維的良好集束來說是有利的。特別地，若干間隙結束于一個單個的歸結間隙。
            
[0021]當腔向著后部橫向漸細，從而腔使被向著后部引導的毛發(fā)集束時，獲得了同樣的優(yōu)點。優(yōu)選地，腔向著后部變得更加平整。
            
[0022]當腔具有橫向墊片且該墊片總是把敷抹器在間隙出口的區(qū)域中的一個下支撐表面保持在離一個纖維基底頭皮至少0.5mm的距離時，能夠實現(xiàn)集束的毛發(fā)的良好引導。
            
[0023]特別地，為了給小縷著色，間隙優(yōu)選地被設置成至少兩個間隙組，在這兩個組之間有一個無間隙的旁路區(qū)，該旁路區(qū)的尺寸是間隙組之一的相對最外間隙的間隙距離的至少兩倍。
            
[0024]進一步提出了，敷抹空間的下壁具有限制所述敷抹空間的一個內側，該內側沿著從前部向后部的方向延伸，先是與敷抹器的一個下支撐表面平行然后進一步向著后部(就象間隙從前部向著后部的逐漸退出一樣)相對于接觸表面成至少70°的一個角度，從而下壁的段中的多個間隙比上壁中的寬，且它們的后部間隙出口結束于作為一個腔的單個的凹槽中。[0025]本發(fā)明還涉及包括多個敷抹裝置的一個體系。這些敷抹裝置優(yōu)選地被如上設計且彼此之間在至少一個幾何細節(jié)上有所不同。
            
[0026]如果這些敷抹裝置被設計成具有相同的儲存部和不同的敷抹器，則該系統(tǒng)能夠以成本有效的方式得到制造。
            
[0027]根據(jù)活性劑的類型，有各種優(yōu)選的間隙幾何設置，而總是能夠實現(xiàn)一種所希望的敷抹密封性。在此，優(yōu)選的是，一個第一敷抹裝置的下壁的區(qū)域中具有在0.45mm與0.8mm之間的間隙寬度和在0.9mm與1.5mm之間的間隙深度的間隙并存儲粘度120±35Pa*s的活性齊U，且一個第二敷抹裝置的下壁區(qū)域中具有0.05mm與0.45mm之間的間隙寬度和0.1mm與
            
0.9mm之間的間隙深度的間隙并存儲粘度50±35Pa*s的活性劑。
            
[0028]還優(yōu)選的是，一個第一敷抹裝置具有平均寬度在1.5mm與2.5mm之間的齒并存儲有粘度在5Pa*s與30Pa*s之間的敷用劑，且一個第二敷抹裝置具有平均寬度在0.4與
            
1.2mm之間的齒并存儲有粘度在30Pa*s與120Pa*s之間的活性劑。
            
[0029]當一個第一敷抹裝置在敷抹空間的前端具有角度在7°與20°之間的一個斜角并存儲粘度<45Pa*s的活性劑，且一個第二敷抹裝置在敷抹空間的前端具有20°與40°之間的一個斜角并存儲粘度>45Pa*s的活性劑時，活性劑在敷抹空間之外的泄漏和不希望的回流能夠得到避免。
            
[0030]進一步地，本發(fā)明提供了一種敷抹方法，用于把活性劑敷抹到纖維材料上，特別是毛發(fā)上，其中敷抹裝置的一個敷抹器的至少一部分被移過纖維材料，從而使活性劑被所述敷抹器施加到纖維材料上。
            
[0031]當所述敷抹器包圍一個敷抹空間且纖維材料被拉過所述敷抹空間時，能夠實現(xiàn)活性劑至所述纖維材料的有效和可靠的敷抹。
            
[0032]本發(fā)明可被應用于若干種不同設計的敷抹裝置。附圖中顯示了這樣的敷抹裝置的幾個例子。另外，以下描述了本發(fā)明的許多細節(jié)，這些細節(jié)能夠以多種方式相互結合。為了更好地進行說明，本發(fā)明的這些細節(jié)結合附圖得到了描述，然而，本發(fā)明不限于這些附圖所描述的情況，也不限于這些附圖所顯示的特征的結合。
            
[0033]示例性的實施例不僅用于說明本發(fā)明的某些具體實施例，而且用于說明本發(fā)明的一般細節(jié)以對后者有更好的理解，這些一般細節(jié)不僅與本發(fā)明的這些例子的細節(jié)有關。因而，所描述的本發(fā)明的細節(jié)有可能與具體的示例性實施例相結合，但它們不僅與具體的示例性實施例相關。因此，各示例性實施例中的適當特征也可以是獨立的，可以從一個示例性實施例中被移出，并被插入到一個不同的示例性實施例中以對后者進行補充，或者彼此結合，或者與一個獨立的方案相結合。在此，應該理解的是，本發(fā)明的不同模式或結構單元的細節(jié)可被結合起來，從而從它們的結合獲得本發(fā)明的特殊優(yōu)點。
            
【專利附圖】
            

            
【附圖說明】
            
[0034]圖1顯示了一個敷抹裝置的示意主視圖，該敷抹裝置具有一個存儲空間和一個敷抹空間。
            
[0035]圖2顯示了具有一種類似設置的不同敷抹裝置。
            
[0036]圖3顯示了具有這樣的設置的另一種敷抹裝置。
            
[0037]圖4顯示了一種敷抹裝置的一個梳的頂視圖。[0038]圖5顯示了該梳從正面看的立體圖。
            
[0039]圖6顯示了一個敷抹裝置的通過敷抹器的一個橫截面圖。
            
[0040]圖7顯示了一個敷抹器，其帶有向頂部開放的一個敷抹空間。
            
[0041]圖8顯示了一個敷抹裝置，其帶有所有側面都閉合的一個敷抹空間。
            
[0042]圖9顯示了一個滴形敷抹裝置的立體圖。
            
[0043]圖10顯示了該敷抹裝置的從頂部傾斜的立體圖，它帶有用于把活性劑注入儲存空間的一個填補開口。
            
[0044]圖11顯示了帶有一個透明窗口的敷抹裝置的外部外殼部件。
            
[0045]圖12顯示了一個內部外殼部件，它帶有用于擠壓出一個活性劑容器的一個裝置。
            
[0046]圖13顯示了一個外部外殼部件的儲存空間和到敷抹空間的過渡空間的立體圖。
            
[0047]圖14顯示了處于一個交付位置的敷抹裝置的正視圖。
            
[0048]圖15顯示了該敷抹裝置的正視橫截面圖。
            
[0049]圖16和17顯示了處于填充位置的敷抹裝置。
            
[0050]圖18和19顯示了處于一個混合位置的敷抹裝置。
            
[0051]圖20和21顯示了處于一個敷抹位置的敷抹裝置。
            
[0052]圖22顯示了帶有一個插入的活性劑容器的儲存空間的正視橫截面圖。
            
[0053]圖23顯示了夾持在內部和外部外殼部件之間的活性劑容器。
            
[0054]圖24顯示了圖22的部分，其帶有用于把活性劑容器固定在所述外部外殼部件上的一個連接部件。
            
[0055]圖25顯示了圖22的局部放大，其帶有用于把活性劑容器固定在所述外部外殼部件上的一個連接部件。
            
[0056]圖26顯示了帶有一個可插入的敷抹器的一個敷抹裝置的截面圖。
            
[0057]圖27顯示了帶有一個可被打開的一個敷抹器的一個敷抹裝置的截面圖。
            
[0058]圖28顯示了一個敷抹器的齒端部的各種頭線。
            
[0059]圖29顯示了一個敷抹器在一個纖維基底上的運動過程。
            
[0060]圖30顯示了毛發(fā)到所述敷抹器中的引入過程。
            
[0061]圖31顯示了一個敷抹器的角度信息。
            
[0062]圖32顯示了一個敷抹器的長度信息。
            
[0063]圖33至35顯示了敷抹器的各種齒。
            
[0064]圖36至38顯示了三種不同的敷抹器的區(qū)域的組織。
            
[0065]圖39顯示了一個敷抹器從外側看的立體圖。
            
[0066]圖40顯示了該敷抹器的敷抹空間內部的立體圖。
            
[0067]圖41顯示了另一敷抹器的敷抹空間內部的立體圖。
            
[0068]圖42顯示了該敷抹器的從下方看的立體圖。
            
[0069]圖43顯示了另一敷抹器的一個立體圖。
            
[0070]圖44顯示了該敷抹器的從下方看的立體圖。
            
[0071]圖45顯示了該敷抹器的下部的正視圖。
            
[0072]圖46顯示了一個敷抹空間的示意圖。
            
[0073]圖47和48顯示了一個敷抹器從正面穿過齒看的示意圖。[0074]圖49至51顯示了三種不同的敷抹器的區(qū)域設置。
            
[0075]圖52至54顯示了三種不同的敷抹器的正視橫截面圖。
            
[0076]圖55顯示了一種圓化的齒基部。
            
[0077]圖56和57顯示了一個敷抹空間的正視和示意立體圖。
            
[0078]圖58顯示了在一個敷抹空間或過渡空間中的回流阻擋部。
            
[0079]圖59顯示了向后部鼓出的一個敷抹空間。
            
[0080]圖60顯示了帶有用于不同的活性劑的兩個腔的一個敷抹裝置。
            
[0081]圖61顯示了一個大理石花紋裝置的五個排放腔的從下方看的立體圖。
            
[0082]圖62顯示了圖61的從下方看的裁剪局部。
            
[0083]圖63顯示了一個熒光筆的小縷形成腔的從下方看的視圖。
            
[0084]圖64至66顯示了各種敷抹裝置中的三種不同的泵。
            
[0085]圖67至69顯示了一個敷抹器梳中的間隙排列的變形。
            
[0086]圖70和71顯示了帶有外部儲存空間的敷抹器。
            
[0087]圖72和73顯示了旁路的各種變形。
            
[0088]圖74和75顯示了根據(jù)本發(fā)明的敷抹裝置的進一步的示例性實施例的歸納，這些敷抹裝置的顯示沒有按照比例。
            
【具體實施方式】
            
[0089]優(yōu)選地，一個敷抹裝置具有帶有一個儲存空間的一個儲存部和具有敷抹空間的一個敷抹器。圖1顯示了一個這樣的例子的總體圖，其中顯示了具有一個外殼4的一個敷抹裝置2、具有一個儲存空間10的一個儲存部6、以及具有一個敷抹空間12的一個敷抹器8。
            
[0090]儲存部與敷抹器之間的劃分和儲存空間與敷抹空間之間的劃分，在空間和功能上都不必是嚴格的；可以有例如圖1中用儲存部6和敷抹器8周圍的虛線圓所表示的過渡區(qū)域，以及一個中介空間14。過渡區(qū)域可以是例如在圖1中表示的儲存空間10與敷抹空間12之間的一個漸細部分，或者是兩個空間之間的一個連續(xù)過渡。儲存空間8與敷抹空間12之間的過渡區(qū)域可被表示為中介空間14，例如作為圖1中用和儲存空間10和敷抹空間12一樣的細虛線表不的抽取空間。
            
[0091]優(yōu)選地，該敷抹器中的敷抹空間被這樣地設置，即:使得從一側向相對一側通過敷抹器的纖維或毛發(fā)因而(特別是從底部向頂部)通過敷抹空間，即從底部進入并從頂部離開。這在圖1中得到顯示。毛發(fā)16從下側向頂側延伸通過敷抹器8，從而穿過敷抹空間12，而敷抹空間12中可包含活性劑，而毛發(fā)被拉過活性劑并被其所潤濕。
            
[0092]優(yōu)選地，外殼圍繞著儲存空間。該外殼可限制儲存部與外界的連接。外殼還可以圍繞所述敷抹空間并還形成了敷抹器的外部外殼。
            
[0093]優(yōu)選地，敷抹空間的尺寸小于儲存空間的尺寸。因此，可以實現(xiàn)敷抹空間的特別安全的填充。優(yōu)選地，該敷抹空間最大為儲存空間的一半。
            
[0094]與各種敷抹裝置的配置無關地，儲存部與敷抹器的功能組織總是可得到保持。圖2和3中用儲存部6與敷抹器8周圍的虛線表示了這種情況的一個例子。在此，重要的是，總是有一個敷抹空間，纖維材料可被拉過該敷抹空間以用活性劑潤濕之。為了簡化而又不構成任何限制，以下總是稱為毛發(fā)而不是更為一般的“纖維材料”。[0095]在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，敷抹裝置包括一個梳，該梳具有至少一行齒。圖1至3中示意顯示了帶有齒22和之間的間隙24的梳20，且在圖4和6中的示例性實施例中也顯示了該梳。
            
[0096]在這些圖的顯示中，標號之后的字母表示各種示例性實施例。沒有字母的標號表示對幾個示例性實施例的共同描述。如果沒有表示標號，則就是在進行一般的描述，而不是結合不例性實施例的描述。
            
[0097]圖4顯不了 個例子的梳20c的頂視圖，圖5顯不了另個例子的梳20d的從下方看的立體圖，且圖6顯示了又一個例子的梳20e的正視橫截面圖。
            
[0098]一般地，一個梳可具有一或多行的齒。一行的齒可以是相同的也可以是不同的；例如，它們可被分成不同的齒組。兩個齒之間可形成一個間隙，該間隙由兩個相鄰的齒所限定。如果一個齒的兩側各有一個間隙，則該齒可被用作兩個間隙之間的分離元件。
            
[0099]例如,如圖4至6所示,齒22具有在前部的一個齒端26,借助該齒端可確定從齒端26延伸至齒端26的一個頭線30。在圖4至6的不例性實施例中，頭線30是直的,而一般情況下，也可以有具有其他形狀的頭線，例如向后彎曲的或向前彎曲的、和/或向上或向下彎曲的頭線。
            
[0100]以下，采用如下的方向定義:梳20的一個寬度32與齒22的方向相交地延伸，如圖4所示。相應地，“橫向”的方向沿著寬度方向。向前的方向由齒端26的方向確定，向后的方向與齒端的方向相反，如在例如圖6中用水平的雙箭頭所表示的。長度34被相應地定義。一個齒的向前和向后的方向，特別是長度，也可沿著敷抹器的下支撐表面的方向同時轉動，該下支撐表面在例如圖6中用36表示，如在圖6中用長的虛線雙箭頭所表示的。
            
[0101]深度38的頂部和底部被與前部和后部相交地定義，且與寬度也是類似地定義。深度38也可隨著支撐表面36或敷抹器8的頂側40的上凹表面轉動，如圖6中用短的虛線雙箭頭表不的。
            
[0102]各種配置
            
[0103]梳的齒的類型可顯著變化。圖7和8用于顯示其例子。圖7顯示了帶有一個外殼4f、一個儲存部6f和一個敷抹器8f的一個敷抹裝置2f。敷抹器8f包括一行齒22f，其在圖7的正視橫截面圖中得到顯示，與圖6中的顯示類似。齒22f (除了最外的齒22f之外)因而各自成對地形成了它們之間的間隙24f。
            
[0104]齒22f以這樣的方式彎曲，即它們形成了作為敷抹空間12f的一個內部腔。活性劑18可從儲存空間IOf通過一個中介空間(未顯示)而被引入敷抹空間12f，如圖7所示。活性劑18現(xiàn)在處于齒22f上的敷抹空間12f或腔中。齒22f和它們之間的、由齒22f形成的間隙24f現(xiàn)在具有這樣的尺寸，即活性劑18保持在它們上且不通過間隙24f泄漏到外界，因而不泄漏或滴落到敷抹器8f之外。相應的尺寸與活性劑18的流動性質相配合，如以下在對阻擋寬度的描述中所討論的。
            
[0105]一般地，這些間隙的尺寸是這樣的，即活性劑停在梳的齒上至少30秒而不向下穿過間隙。該時間適用于高至5cm的活性劑柱加在梳上的一個壓力。
            
[0106]一般地，用于用活性劑潤濕毛發(fā)的敷抹器的一個梳能夠以這樣的方式被引導通過毛發(fā)，即使得毛發(fā)被該梳所梳理。相應地，毛發(fā)通過該梳，如圖7所示例顯示的。在此，它們經過敷抹器的含有活性劑的敷抹空間。敷抹器借助其支撐表面可在諸如頭皮的一個基表面上得到引導，如圖7和8中所示，從而使毛發(fā)相繼地通過敷抹空間并從而通過活性劑。在為這樣的潤濕的準備中，活性劑可從儲存空間被引入到敷抹空間中。為此，活性劑被引導通過諸如一個中介空間的一個過渡空間，該過渡空間由所述外殼形成，或者由敷抹裝置的另一部件形成。
            
[0107]活性劑向毛發(fā)上的這種施加，可借助圖7和8的示例性實施例以及所有其他示例性實施例進行，而所描述的操作原理總是相同的?；钚詣┲潦岬囊牖驈氖岬氖┘?，可以是不同的。
            
[0108]在圖7和8所示的示例性實施例中，通道是這樣形成的，即活性劑18從通道排放到梳20f、g上?；钚詣?8的這種運動可通過加大儲存空間10f、g中的壓強，例如借助儲存空間IOb周圍的一個例如可手動壓縮的彈性外殼4f、g，而得到支持。
            
[0109]在多數(shù)情況下，梳20形成了一個內部空間，從而使流出梳20的活性劑18實際上流入了梳20。梳20圍繞的內空間可形成或作為敷抹空間12。敷抹空間12總是被間隙24向著外界開放，從而使毛發(fā)16能夠被從外界引入敷抹空間12。一個敷抹器8的敷抹空間12或內空間是否不僅通過間隙24而且還通過一個較大的開口(例如圖7所示的)而向上開放，取決于本發(fā)明的實施例。在圖7的例子中，為了包圍內空間或敷抹空間12f，可以把橫向包圍部件42設置在梳20f處，如圖7中用虛線表示的。
            
[0110]圖8顯示了敷抹裝置2g的一個進一步的示例性實施例，其中敷抹空間12g向著頂部閉合或在所有側面上閉合，當然除了間隙24g所形成的開口。操作原理是相同的，即，使活性劑18流出儲存空間IOg并進入敷抹空間12g，并位于敷抹空間12g中的梳20g之上或之中，從而使被拉過敷抹空間12的毛發(fā)16也通過活性劑18。一般地，齒22可如圖7或8所示地彎曲，具有角度，或者在一個平面中是直的。重要的是，活性劑18可被置于梳20之上或之中，從而使毛發(fā)16可通過被拉過敷抹空間12而通過活性劑18。
            
[0111]根據(jù)本發(fā)明的敷抹裝置，作為例如毛發(fā)著色裝置、毛發(fā)漂白裝置和/或毛發(fā)定形裝置的毛發(fā)護理裝置，是特別優(yōu)選的。優(yōu)選地，該敷抹裝置是
            
[0112]-用于對發(fā)根著色的發(fā)根著色裝置-例如在離頭皮Imm距離處開始，特別是在離頭皮不到0.5mm處開始，
            
[0113]-強調器，用于對小縷進行染色并留下縷之間的毛發(fā)不被染色，和/或
            
[0114]-毛發(fā)大理石花紋裝置，用于以這樣的方式給毛發(fā)上大理石花紋，即被敷抹器梳理的毛發(fā)中只有不到1/4的毛發(fā)被染色，而其他被梳理的毛發(fā)保持不被染色。
            
[0115]相應地，也可被描述為敷用劑的、將要被施加到毛發(fā)上的活性劑，可以是流體、糊、或粉末劑，該活性劑將要尤其是作為毛發(fā)染色劑、毛發(fā)護理劑、毛發(fā)光澤劑、分散劑、結構改變劑和/或藥用毛發(fā)護理劑，而被施加。一般地活性劑可是單成分劑或多成分劑?！皢纬煞謩敝傅氖谴鎯υ趦Υ婵臻g中待用的劑?！岸喑煞謩敝傅氖瞧渲性谑┘又爸辽僖粋€成分被加到另一成分中的劑，特別是一種劑，其具有兩個單獨存儲的成分，這兩種成分將要被混合以進行施加。
            
[0116]外殼
            
[0117]在本發(fā)明的一種優(yōu)選的設計中，敷抹裝置具有一種滴狀的輪廓，其中在儲存空間周圍設計了具有大體上象水滴一樣圓的一個外殼部分，而敷抹器被設計為滴的端部。圖9中以例子的形式顯示了這樣的一個設計，其中顯示了一個敷抹裝置2h的從外側看的立體圖。
            
[0118]為了便利敷抹裝置的生產，該滴形輪廓的滴狀形狀優(yōu)選地是兩維設計的，從而使滴的圓形部分大體是柱形的或柱形段的形狀的，且滴的端部被設計成具有橫向的、至少基本上均勻的輪廓。
            
[0119]柱形的部分優(yōu)選地由儲存部6構成。它優(yōu)選地容納了儲存空間。優(yōu)選地，敷抹器8由滴的端部形成。它優(yōu)選地容納了敷抹空間。這可在圖9中結合顯示了相同的實施例的圖6看到。具有儲存空間IOe的柱形部分用虛線表示。敷抹空間12e位于沿著徑向的外側且在滴的端部的區(qū)域中。優(yōu)選地，該外殼部分以這樣的方式被形成在儲存空間的周圍，即在一個橫截面中它具有至少180°特別是至少270°的圓形外部輪廓。
            
[0120]如果敷抹空間的內部壓強相對于敷抹器外部的壓強不上升到一個指定的水平之上，對活性劑通過間隙的泄漏的特別可靠的防護可得到實現(xiàn)。如果該外殼是柔性的，則可通過向外殼施加壓力來加大內部壓強，因而存在有一定的泄漏危險。另一方面，如果儲存空間周圍的外殼部分對于在兩側上5N的相對壓力(分布在至少Imm2上)是硬的，特別是對于兩側上Imm2面積上的ION的力是硬的，它在任何位置的最大變形是這樣的:即儲存空間的減小不超過5%，優(yōu)選地不超過2%，且特別優(yōu)選地不超過0.5%，則活性劑從敷抹空間到周圍環(huán)境的排放可被阻止。上述百分比是體積百分比。
            
[0121]在活性劑可被引入到敷抹空間中之前，一般需要把活性劑從閉合的容器中取出，并通過例如將其注入儲存空間，或者通過打開處于儲存空間的一個容器，而使活性劑處于在儲存空間中的可自由取用的狀態(tài)。為了便利和監(jiān)測這種過程，優(yōu)選的是，儲存空間周圍的外殼部分是透明的，使得位于儲存空間中的活性劑在例如用于閱讀的正常照明下可從外界被看到。
            
[0122]為了對毛發(fā)進行染色或護理，該敷抹裝置被用一只手握持并被引導通過毛發(fā)。這是容易做到的，因為敷抹器具有帶有一行齒的梳且外殼的形狀使得它能夠用母指和食指以這樣的方式夾持，即:該行齒與母指和食指的指端之間的線相平行。大至15°的偏離可被視為處于平行的范圍之內。
            
[0123]為了對用手以夾緊的方式穩(wěn)定握住的外殼進行定位，優(yōu)選的是，外殼具有這樣的形狀，即當它被握住時，它的底部可受到中指的側表面的支撐。在此，優(yōu)選的是，對于毛發(fā)的符合人體工程學的護理，該側表面位于與敷抹器相對的位置。
            
[0124]當該敷抹裝置被握在手中時，方便的情況是，它不因為其自身的重量而傾向于在手中轉動。為此，優(yōu)選的是該外殼具有這樣的形狀，即:母指與食指之間的連線通過儲存空間的重心延伸。同樣理由，外殼具有這樣的形狀是優(yōu)選的，即:儲存空間的重心位于母指與食指之間的中心處。該重心指的是外殼本身的，不包括活性劑。
            
[0125]把敷抹裝置保持在手中的一種方便的方式，是外殼的后部具有一種圓化的形狀，該形狀象圍繞著母指與食指之間的連線的一段圓弧。
            
[0126]為了實現(xiàn)良好的染色結果或敷抹結果，重要的是一方面在敷抹裝置的標準使用中即當敷抹器的梳以標準方式被引導通過毛發(fā)時手要保持放松，另一方面在一個寬的角度范圍中要保持柔性。當母指與食指之間的連線與梳的齒的端部的縱向方向處于90° ±20°的角度范圍內時，這是能夠實現(xiàn)的。例如，在圖6中以標號為34的雙箭頭顯示了該縱向方向。[0127]當母指與食指之間的連線與梳的頭線處于0° ±20°的角度范圍時，實現(xiàn)了同樣優(yōu)點。
            
[0128]當母指與食指之間的連線與梳的頭線相距70mm±20mm的距離范圍時，能夠實現(xiàn)敷抹裝置的良好手動引導。
            
[0129]在本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例中，儲存空間周圍的外殼部分具有兩個相對的把手凹槽。優(yōu)選地，該把手凹槽是橫向相對的，從而使橫向方向以與相對圖7提供的定義相似的方式對準。圖9和10中顯示了把手凹槽43。
            
[0130]當母指和食指處于該把手凹槽中時，對敷抹裝置提供了上述有關母指和食指的有利位置細節(jié)。優(yōu)選地，把手凹槽以這樣的方式位于儲存空間周圍，即:當母指被置于一個把手凹槽中且食指被置于相對的把手凹槽中時，母指與食指之間的連線在至少一個細節(jié)上且特別是在若干細節(jié)上優(yōu)選地符合該連線的上述所有細節(jié)。
            
[0131]當把手凹槽被設計成伸入儲存空間的模制部件時，是特別優(yōu)選的。結果，能夠產生圍繞把手凹槽的一個沿著徑向的外部部分，它在橫向上比所述把手凹槽的中心區(qū)更寬。該附加的區(qū)特別適合于設置一個活性劑容器，該活性劑容器由于該把手凹槽的區(qū)域的橫向漸細而能夠被牢固地定位在儲存空間中。
            
[0132]當敷抹裝置的最長尺寸小于12cm時，能夠更好地獲得良好的手動引導。
            
[0133]當外殼的尺寸是這樣的:即一個普通成年人的手能夠從與敷抹器相對的一側達到外殼周圍并沿著敷抹器的方向延伸到周邊的至少80%的面積上時，獲得了同樣的優(yōu)點。
            
[0134]為了使敷抹裝置處于待使用的狀態(tài)，液體、粘性或糊狀活性劑需要以這樣的方式出現(xiàn)在儲存空間中，即它能夠進入到敷抹空間中且毛發(fā)能夠在敷抹空間中通過該活性劑。使活性劑以這種形式處于儲存空間中的一種簡單的可能方式，是在敷抹裝置上提供一個填充開口。為此，儲存空間周圍的一個外殼部分優(yōu)選地包括用于把活性劑從外界填充到所述儲存空間中的一個填充開口。這樣的一個填充開口 44例如在圖10中得到顯示，該圖中顯示了圖9中的敷抹裝置2h從另一側看的視圖。
            
[0135]優(yōu)選地，該填充開口具有一個關閉裝置，使該填充開口能夠被關閉，從而使填充開口被鎖定而防止活性劑流向外側。關閉裝置46的一個例子在圖10中得到顯示，它是一個附加的外殼部分所構成的一個部件，并以可移動的方式對著具有填充開口 44的外殼部分安裝。結果，填充開口 44可通過兩個外殼部分相對彼此的相對運動而被打開和再次關閉。優(yōu)選地，該關閉裝置是外殼的一部分，而該外殼以打開和關閉的狀態(tài)圍繞所述儲存空間。
            
[0136]該關閉裝置也可以是一個可以與外殼分離的部件，例如是能夠連接到所述外殼上的一個彈性或固定的瓶子。也可采用止動器式的關閉裝置。
            
[0137]另外，優(yōu)選的是敷抹裝置能夠被牢固地設置在一個平坦表面上。特別是當敷抹裝置具有帶有一行齒的一個梳，且敷抹裝置能夠牢固地站立在一個平坦的基底上，且敷抹裝置被該行齒支撐在所述基底上，并優(yōu)選地在該行齒的整個長度范圍上延伸時，這是可以實現(xiàn)。
            
[0138]這也以例子的方式被顯示在圖10中。牢固的基底由下邊的一條直線表示，而敷抹器8h的頭線30立在該直線上。類似地，敷抹器2h通過儲存部6h而站立在水平的基底上，從而使敷抹裝置2h在該水平基底上實現(xiàn)了在兩條線上的支撐。當然，也可以只提供點狀的支撐而不是線狀的支撐，例如在頭線向內凹進彎曲的情況下。[0139]當填充開口在一個站立位置朝向上方時，能夠實現(xiàn)活性劑至儲存空間的一種特別簡單方式的填充。這也以例子的方式被顯示在圖10中。敷抹裝置2h牢固地站立在基底上，且填充開口 44朝向上方，從而使活性劑能夠從頂部到底部地被填充到儲存空間IOh中。
            
[0140]當使用敷抹裝置時，填充開口應該被牢固地關閉，以在使用敷抹裝置時可靠地防止從儲存空間的活性劑排出。在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，這能夠得到實現(xiàn)，即敷抹裝置被提供了一個關閉裝置，該關閉裝置用于關閉填充開口和相對于儲存空間封閉被敷抹器所圍繞的一個敷抹空間。
            
[0141]該關閉裝置優(yōu)選地被這樣設計，即:它具有一個凹槽，該凹槽被這樣定位，即使得當該凹槽允許從儲存空間至敷抹空間的連通時所述填充開口關閉。這當關閉裝置具有用于該連通的一個凹槽和用于填充開口的另一個凹槽時能夠得到實現(xiàn)，而這兩個凹槽相對彼此以這樣的方式定位，即:通道或填充開口之一被打開。在一種不同的實現(xiàn)方式中，該關閉部件只有一個凹槽，該凹槽可被設置在通道或填充開口的上游，從而它釋放填充開口或從儲存空間至敷抹空間的通道以使活性劑通過。該關閉裝置因而強行關閉填充開口或從儲存空間至敷抹空間的通道之一。優(yōu)選地，還有一個位置，在該位置關閉裝置把兩個開口即填充開口和通道都關閉了。
            
[0142]本發(fā)明的該細節(jié)在圖11和12中顯示。顯示了敷抹裝置2的兩個外殼部件52h、54i，而外殼部件52h是一個外部外殼部件且外殼部件54i是一個內部外殼部件。外殼部件52h、54i能夠以這樣的方式彼此疊置，即使得儲存空間IOh被外殼部件52h、54i所包圍，而使活性劑不能到達外界。兩個外殼部件52h、54i可被用在一個敷抹裝置2h中，或者被用在不同的敷抹裝置2h、i中。
            
[0143]圖12的示例性實施例中的標號包含小寫的字母i，而圖11的示例性實施例中包含字母h。原則上，它們是兩個不同的示例性實施例，但以下的描述中有所不同，其中內部外殼部件54i也能夠與外部外殼部件52h —起使用。就此，所有內部外殼部件都能夠與外部外殼部件相結合。
            
[0144]圖11顯示了填充開口 44和儲存空間IOh至敷抹器8h中的敷抹空間的通道48。外殼部件52h、54i優(yōu)選地處于疊置狀態(tài)并能夠相對彼此移動，特別是相對彼此轉動，而活性劑不能通過。
            
[0145]還優(yōu)選的是，當在活性劑不能通過的一種組裝狀態(tài)時，外殼部件之一，特別是內部外殼部件，具有一個能夠相對另一外殼部件移動的凹槽。這在圖12中以例子的形式得到了顯示。內部外殼部件上的槽50i被設計為槽口，該槽口在兩個外殼部件52h、54i的組裝狀態(tài)下與外部外殼部件52h上的通道48相對準。在此狀態(tài)下，活性劑能夠從儲存空間10h、i通過槽口 50i和通道48而進入敷抹空間。
            
[0146]圖11和12顯示了內部外殼部件54i關閉填充開口 44的情況。而內部外殼部件54i能夠以這樣的方式在外部外殼部件52h中轉動，即使得槽口 50i覆蓋填充開口 44從而使活性劑能夠從外界通過填充開口 44和槽口 50i而填充到儲存空間10h、i中。但在兩個外殼部件52h、54i的這種位置，通過內部外殼部件54i的通道48是關閉的，因而活性劑不能從儲存空間10h、i流入敷抹空間。
            
[0147]外殼元件
            
[0148]在本發(fā)明的一種優(yōu)選設計中，夕卜殼包括圍繞儲存空間的一個外殼部分。該外殼部分優(yōu)選地包括至少兩個外殼元件，該兩個外殼元件可向著彼此移動并共同圍繞和優(yōu)選地形成了儲存空間。優(yōu)選地，這兩個外殼元件可被插入彼此，從而它們首先是彼此分開的，隨后被彼此疊置并在疊置狀態(tài)下彼此嚙合。在圖12和11中以例子的形式顯示了這些細節(jié)。
            
[0149]優(yōu)選地，這些外殼元件能夠向著彼此轉動，特別是圍繞一個共同的軸線轉動。因此，這兩個外殼元件優(yōu)選地至少部分地具有柱形或部分柱形的形狀。優(yōu)選地，外部外殼元件帶有一個外部轉動表面元件，它圍繞著內部外殼元件的一個內部轉動表面元件。
            
[0150]在圖11和12中以例子的方式顯示了這些類型的轉動表面元件56h、58i。轉動表面元件56h、58i被設計成柱形的，且處于平行對準的兩個外殼元件52h、54i的疊置狀態(tài)下。當兩個外殼元件52h、54i轉動時，轉動表面元件56h、58i彼此平行地移動。
            
[0151]在本發(fā)明的一個進一步的優(yōu)選實施例中，轉動表面元件中的至少一個具有肋，這些肋與另一轉動表面元件對準。這些肋優(yōu)選地與轉動方向垂直地對準。這在圖12中以例子的方式得到顯示，且圖12中顯示了，內部外殼元件54i的若干肋60i抵靠在其轉動表面元件58i上。
            
[0152]這些肋能夠實現(xiàn)以下功能中的一或多個:
            
[0153]對于第一個功能，肋優(yōu)選地被設計成沿著轉動方向反對稱，并形成了用于與位于另一外殼元件上的一個相對的掛鉤裝置相互鎖定的掛鉤裝置。在圖13中顯示了這種設置的一個例子，其中掛鉤裝置62i位于外部外殼元件2i上。
            
[0154]外殼元件2h、2i是具有例如不同的敷抹器8h、8i的不同示例性實施例。但兩個敷抹器8h、8i和顯示的其他所有敷抹器8可根據(jù)需要互換。一個進一步的不同是掛鉤裝置62i，它可被安裝在敷抹裝置2h或其外殼元件52h上。
            
[0155]—般地,外殼兀件52、54上的肋60，與另一外殼兀件52h、54i上的掛鉤裝置62相結合，使兩個外殼元件52h、54i能夠沿著一個方向向著彼此轉動，并阻止沿著另一個方向相對彼此的轉動。結果，兩個外殼元件52h、54i只能沿著一個正確的方向在幾個功能位置向著彼此接近。
            
[0156]優(yōu)選地，這些肋被設計成具有與該兩個外殼元件的相對轉動方向相反的一個方向的橫向齒形。結果獲得了更為可靠的抓取功能。
            
[0157]肋的另一功能，是兩個外殼元件52h、54i相對彼此的墊片功能。這在圖12的示例性實施例中進行了示例顯示。一或多個肋64i (在圖12中顯示了兩個平行的肋641、h)被設計成這樣的方式，即它們在此例52h、i中在相對的外殼元件52h、54i處鄰接。由于槽口50i，從儲存空間10h、i排放到敷抹空間12h、i中的活性劑被肋64h阻止進入到兩個外殼元件52h、54i之間。
            
[0158]優(yōu)選地，至少兩個肋被彼此平行地設置，且特別是彼此相距小于5mm的間隔，且特別是在它們的整個長度上延伸。由于這樣的雙肋設置，活性劑膜的毛細現(xiàn)象連接可被破壞，從而使這兩個外殼元件之間的墊片效果更好。
            
[0159]第三個功能是保持一個距離。為此，這些肋優(yōu)選地位于該兩個外殼元件中的內部外殼元件上。如下所述，一個活性劑容器，特別是用一種彈性膜制成的，可被拉入到該兩個外殼元件的兩個轉動表面元件之間。由此，該活性劑容器相對于該兩個外殼元件中的至少一個移動，特別是相對于該兩個外殼元件中內部的一個移動。因此，它沿著這個外殼元件滑行。由于活性劑容器可能在一定程度上被在外面的活性劑所潤濕，活性劑容器可粘貼在引導著它的內部外殼元件上。以此方式，在活性劑容器與它沿著滑行的外殼元件之間能夠產生高的摩擦力。該摩擦力可被作為墊片的肋所減小，因為活性劑容器此時與該外殼的至少一個表面有一定的距離。因此，該兩個外殼元件能夠更容易相對彼此轉動。
            
[0160]優(yōu)選地，這些肋彼此相距一個恒定的距離地延伸在轉動表面元件的至少一個區(qū)域上，且優(yōu)選地延伸在轉動元件的圓周的至少四分之一范圍上，即沿著轉動表面元件至少延伸90°。這種規(guī)則性不必與每一個肋有關，因為肋可以兩個一組或按照其他的數(shù)目分組，從而使這些組分別以恒定的彼此距離設置。特別地，至少四個肋，或者四組肋，具有一個恒定的距離，特別是沿著兩個外殼元件向著彼此轉動的方向具有一個距離。在圖12中顯示了一種示例性的配置。肋60i以彼此相距Icm的距離在轉動表面元件58i的整個外表面上延伸。
            
[0161]特別地，為了在兩個外殼元件相對彼此的位移期間實現(xiàn)兩個外殼元件之間的摩擦力的減小，優(yōu)選的是這些肋具有這樣的高度，即:在這些肋與相對的外殼元件之間保持一個間隙。在圖12顯示的示例性實施例中，該間隙大約0.5mm寬，因而這些肋離外部外殼元件52h、i有該距離。
            
[0162]在本發(fā)明的一個進一步的實施例中，外殼元件中的至少一個是透明的，例如至少其一部分或某些區(qū)域是透明的，從而能夠通過該透明部分而讀取該部分之后的書寫內容。結果，能夠從外部讀諸如操作指令的書寫內容，從而使敷抹裝置的操作更為方便。
            
[0163]優(yōu)選地，透明只限于外殼的一或若干個區(qū)域，特別是在外部外殼元件上，從而在兩個外殼元件向著彼此的運動期間，內部外殼元件的運動使不同的文字被看到或被掩蓋。以此方式，例如，隨著兩個外殼元件的相對運動，處理指令可得到顯示并再次被掩蓋。
            
[0164]圖11中顯示了這樣的實施例的一個例子。外部外殼元件52h包含一個透明區(qū)域66,它被非透明材料所圍繞,從而區(qū)域66形成了外殼兀件52h上的一個窗口。當外殼兀件52h、54i相對彼此轉動時，內部外殼兀件54i上的不同部分變?yōu)榭梢?或者,在兩個外殼兀件52h、54i之間的一個活性劑容器的情況下，可印有操作指令的該活性劑容器變得可見。
            
[0165]在本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例中，該兩個外殼元件被插入彼此并相互鎖定。優(yōu)選地，這種相互鎖定阻止了外殼元件的分離即該兩個外殼元件的再次彼此分離。為再次分離，這種相互鎖定必然先得到釋放。優(yōu)選地，該相互鎖定是通過該兩個外殼元件中的至少一個的彈性變形而建立的，從而使得沿著松弛的起始位置的方向的彈性扣合產生了該兩個外殼元件的一種連接，該連接阻擋了該兩個外殼元件的分離。
            
[0166]優(yōu)選地，該相互鎖定被這樣地設計，即:內部外殼元件被彈性地向內推并沿著徑向向外地扣合到相互鎖定中。這可通過圖11和12中顯示的示例性實施例而得到說明。外部外殼元件52h帶有一個槽68，一個內部外殼元件54i的一個前緣70被插入到槽68中。槽68的徑向內側具有一個輕微的底切部分且前緣70有一個小的、珠狀的、向內模制的部件，后者與該底切部分在疊置狀態(tài)嚙合。當內部外殼元件54i被插入時，前緣70首先在一定程度上被壓開并因此而彈性變形，這由于槽口 50i而容易實現(xiàn)。當在前緣70的內部模制部件與槽68的內底切部分完全嚙合時，前緣70向內向回扣合，并形成了與槽68或外部外殼元件52i的扣合相互鎖定。
            
[0167]優(yōu)選地，該相互鎖定使兩個外殼元件彼此連接，它們隨后不能從外部分開，除非破壞它們。由此，能夠防止意外的分開，并防止敷抹裝置的非法重新使用。[0168]還優(yōu)選的是，所述外殼元件，通過以阻止向外的泄漏的方式密封儲存空間的一個墊片，而彼此連接在相互鎖定的位置。圖11和12的示例性實施例可作為本發(fā)明的該細節(jié)的例子，其中內部外殼元件54i具有一個槽72，而外部外殼元件的一個環(huán)狀模制部件74與槽72嚙合。槽72和模制部件74形成了一個槽-彈簧閉合，它借助一種環(huán)形壓配連接而形成了儲存空間10h、i的一個向外的墊片。
            
[0169]優(yōu)選地，該墊片被設計成由于一個相互鎖定扣合的過程而被鎖定。
            
[0170]還提出了，該兩個外殼元件(如以上已經顯示的)可相對彼此轉動。優(yōu)選地，該兩個外殼元件包括限制這兩個外殼元件沿著一個轉動方向向著彼此的轉動的掛鉤裝置。例如，借助圖12和13，用肋60i和掛鉤裝置62i，對此進行了說明。
            
[0171]功能位置
            
[0172]還優(yōu)選的是兩個外殼元件中的至少一個具有一個阻擋部件；該阻擋部件在沿著一個轉動方向的轉動之后阻擋兩個外殼元件的進一步轉動。優(yōu)選地，該阻擋部件把兩個外殼元件阻擋在一個位置或若干個相繼的位置。該阻擋部件可位于兩個外殼元件之一上，從而另一個外殼元件優(yōu)選地具有一個對應部件，該對應部件在兩個外殼元件達到相對彼此的功能位置時抵在該阻擋部件上。這樣的功能位置可以是一個分送位置、一個填充位置、一個混合位置和/或一個敷抹位置。
            
[0173]圖11中顯示了阻擋部件76的一個例子。它位于外部外殼元件52h上且在該示例性實施例中被設計成一個三角形模制部件。在圖14至19中顯示了另一外殼元件上的一個對應部件或一個不同的阻擋部件的例子。
            
[0174]圖14至21顯示了處于分別從前到后的四個不同功能位置上的敷抹裝置2j。這些功能位置是分送位置(圖14和15)、填充位置(圖16和17)、混合位置(圖18和19)以及敷抹位置(圖22和21)。圖14、16、18和20顯示了敷抹裝置2 j的從外側向內部外殼元件54j看的視圖。圖15、17、19和21顯不了敷抹裝置2j的從另一側看的橫截面圖，因而內部外殼元件54j、外部外殼元件52j和敷抹器8j是可見的。
            
[0175]優(yōu)選地，內部外殼元件具有一個把手部件，其形狀與敷抹器的輪廓相適配。只要該把手部件沿著橫向位于敷抹器旁邊，從而該把手部件形成了敷抹器的一個橫向繼續(xù)，并因而具有從側面看上去至少大體相同于敷抹器的輪廓時，這種適配就會發(fā)生。
            
[0176]這在圖20和21中以例子的形式得到了顯示。在圖20的橫向視圖中，把手部件78掩蓋著敷抹器8j ;而當從相反的橫向側看時敷抹器8j掩蓋著把手部件78，如圖21所示。
            
[0177]在圖14和15所示的分送位置，兩個外殼元件優(yōu)選地被一個掛鉤裝置阻止了與定向轉動或敷抹器的轉動方向相反的相對轉動，并沿著敷抹器的轉動方向被一個阻擋部件所阻擋，因而該分送位置被固定。這可從圖14和15看出。
            
[0178]圖14顯示了三個阻擋部件80、82、84，它們優(yōu)選地被模制在一個外殼元件中。在此示例性實施例中，這是內部外殼元件54j。阻擋部件80、82、84分別具有預定的脫離點，它們在兩個外殼元件52h、54i相對彼此強迫轉動時彼此脫離，從而使相應的阻擋部件80、82、84與外殼兀件54j脫離。在圖14和15中，轉動方向86用一個箭頭標出。轉動方向86是米用敷抹裝置的敷抹的敷抹轉動方向。轉動方向86與外殼元件之一相關，在該示例性實施例中，是與內部外殼兀件54j相關，內部外殼兀件54j將要沿著轉動方向86相對于另一外殼元件52j從一個功能位置轉動到任何其他的功能位置。[0179]為了使敷抹裝置從分送位置進入下一個功能位置，例如填充位置，兩個外殼元件必然相對于彼此轉動。如果這被強行進行，阻擋部件脫離并釋放沿著轉動方向86的轉動。在圖14和15所示的示例性實施例中，這是阻擋部件80，它在分送位置與相對的阻擋部件76相抵，且當兩個外殼元件52j、54i轉動時，從內部外殼元件54j上脫離。外殼元件沿著轉動方向86的轉動現(xiàn)在被釋放，優(yōu)選地是直到一個隨后的阻擋部件82與一個相對的阻擋部件80鄰接。這在圖16和17中的例子所顯示。該隨后的阻擋部件82與靜止的阻擋部件76相抵，其結果是使沿著轉動方向86的繼續(xù)轉動再次被阻擋。第一個阻擋部件80已經脫離。
            
[0180]如果要使用敷抹裝置，則它優(yōu)選地被從一個第一功能位置，例如一個分送位置，被置入一個相鄰的功能位置，例如一個填充位置。這在從圖14的功能位置至圖16的功能位置的過渡的例子中得到了顯示。
            
[0181]圖16和17顯示了處于填充位置的敷抹裝置2j。在此示例性實施例中，不僅外部外殼元件52j具有一個填充開口 44j，而且內部外殼元件54j也具有一個填充開口 88j。填充開口 88 j與內部外殼元件54 j的槽口 50 j相分開且其尺寸與外填充開口 44 j相適配，特別是被設計成與其相同。
            
[0182]兩個填充開口 44、88，或者在另一示例性實施例中的填充開口 44和槽口 50，在填充位置覆蓋，從而提供了從外界至儲存空間IOj的一個通道。通過該通道，活性劑能夠從外界被填充到儲存空間IOj中。
            
[0183]在填充位置，從儲存空間至敷抹空間的通道總是關閉的，不允許流體通過，從而使已經被填充到儲存空間中的活性劑不能達到敷抹空間。
            
[0184]為了使敷抹裝置的填充更容易，敷抹裝置優(yōu)選地被這樣設計，即:它牢固地站立在一個平坦基底上，且在此穩(wěn)定的站立位置填充開口指向上方。在圖16和17中以例子的形式顯示了這種情況。敷抹裝置2j與其敷抹器8j鄰接-在此示例性實施例即與頭線即敷抹器2j的齒的端部鄰接在水平線所表示的電平支撐表面上。這與圖10中的示例性實施例類似，從而在圖16和17中的示例性實施例中實現(xiàn)了一個額外的優(yōu)點。
            
[0185]一般地說，在填充位置的把手部件相對于敷抹器以這樣的方式被定位，即:敷抹器阻擋了沿著一個方向的傾倒，且該把手部件阻止了敷抹裝置沿著另一方向的傾倒，或者至少阻擋了這種傾倒。
            
[0186]這可在圖17中見到。填充開口 44j指向上方且敷抹器8j阻止了任何逆時針方向的傾斜，且把手部件78阻止了填充開口 44j或者整個敷抹器2 j沿著順時針方向的傾斜。由此，實現(xiàn)了敷抹裝置2j在一個水平基底上的非常牢固的站立。
            
[0187]在圖18和19中顯示了一種進一步的功能位置。該功能位置是一個混合位置。為了使兩個外殼元件都從填充位置進入混合位置，必須再次克服一個阻擋部件。這在圖16和18中得到了顯示。當內部外殼元件54j沿著轉動方向86繼續(xù)轉動到混合位置之外時，阻擋部件82與阻擋部件76脫離并釋放沿著轉動方向86的轉動。外殼元件52j、54i都能被置于圖18中顯示的相鄰的混合位置。在該混合位置，在阻擋部件76處再次有一個阻止轉動的阻擋部件，在所示的示例性實施例中是阻擋部件84，從而使通過混合位置進入隨后的敷抹位置的意外繼續(xù)轉動得到了阻止。
            
[0188]在混合位置，儲存空間被完全對外關閉，從而使活性劑不能到達外界，即使是儲存空間被劇烈搖動時，而且也不能到達敷抹空間?？赡艽嬖诘奶畛溟_口被關閉，且從儲存空間至敷抹空間的通道也被關閉。儲存空間中的活性劑現(xiàn)在可通過搖動敷抹裝置而被混合，以為使用或敷抹作好準備。
            
[0189]隨后的敷抹位置優(yōu)選地是用于把活性劑施加到毛發(fā)上的一個位置。即使在向該敷抹位置過渡期間，也必須克服一個阻擋部件，在所示的示例性實施例中這是阻擋部件84，它在圖20和21中的示例顯示的敷抹位置上脫離。在該敷抹位置，從儲存空間至敷抹空間的通道被釋放，從而使活性劑能夠從儲存空間流入敷抹空間。
            
[0190]在圖21中顯示的示例性實施例中，一個金屬球形式的泵元件90位于通道48中，通過它敷用劑可從儲存空間IOj被泵送到敷抹空間12j中。
            
[0191]優(yōu)選地，兩個外殼元件可在各種位置沿著轉動方向彼此互鎖。特別地，它們可在這些功能位置被鎖定。當外殼元件沿著轉動方向相對彼此轉動時，該外殼元件在各種功能位置鎖定到彼此之中。相反的轉動，即外殼元件與該轉動方向相反的轉動被這種相互鎖定所阻止。
            
[0192]—個分送位置可被兩個外殼兀件彼此的相互鎖定位置所表征，其中兩個外殼兀件的儲存空間都對外界和敷抹空間關閉，使敷用劑不能通過。一個敷抹位置可被一個相互鎖定位置所表征，其中兩個外殼元件的儲存空間都向外界關閉而使敷用劑不能通過，并向敷抹空間開放。墊片
            
[0193]如以上描述的，優(yōu)選的是向內哨合的外殼兀件具有一個開口或凹槽，它在外殼兀件相對彼此的一個相應位置，連接儲存空間與被敷抹器所圍繞的敷抹空間。為了防止活性劑從儲存空間到敷抹空間的不希望的轉移，進一步優(yōu)選的是在兩個外殼元件之間有一個墊片，它在兩個外殼元件相對彼此且儲存空間對敷抹空間關閉的一個位置上使凹槽對敷抹空間封閉，而使活性劑不能通過，從而使進入開口的活性劑不能到達敷抹空間。這種墊片在圖12的示例性實施例中以肋的形式實現(xiàn)，但其他類型的墊片也是可能和優(yōu)選的。圖15、17、19和21也顯示了這樣的墊片64j。
            
[0194]還優(yōu)選的是墊片的一個墊片元件是用于阻擋兩個外殼元件的反向轉動的一個掛鉤裝置。由此，墊片元件可起到雙重作用。這在圖19中被示例顯示。掛鉤裝置62j與墊片或肋64j B齒合,從而使內部外殼兀件54j與轉動方向86 (68)相反的轉動被阻止。
            
[0195]在這種示例性實施例中，墊片64j有肋或唇形式的兩個墊片元件，它們都起到掛鉤裝置和與掛鉤裝置62 j相對的部件的作用。由于該墊片與掛鉤裝置62 j鄰接，實現(xiàn)了一個附加的優(yōu)點，即在敷用劑在儲存空間中被強行前后運動的敏感的混合位置，在掛鉤裝置62j上實現(xiàn)了墊片64j的大的支撐表面，從而實現(xiàn)了大的墊片效果。這是由于墊片不僅在外部外殼元件52j處向外沿徑向鄰接，而且在掛鉤裝置62j處阻擋著轉動方向。
            
[0196]優(yōu)選地，該墊片包括在內部外殼元件外側的至少一個唇形模制部件，如圖19中示例性顯示的。在此，墊片64j也與墊片64i類似地被設計成肋，就象肋60i。
            
[0197]當墊片具有至少兩個唇形模制部件，且在它們之間在內部外殼元件外側有一個加深部分時，能夠實現(xiàn)特別大的墊片效果。由此，連續(xù)的毛細現(xiàn)象層可被阻斷，從而即使是小的活性劑流也被阻止。這也可見于圖15、17、19和21。
            
[0198]活性劑容器
            
[0199]多數(shù)情況下，優(yōu)選的是，活性劑不直接存儲在儲存空間中，而是存儲在適配于活性劑的一個活性劑容器中。以此方式，在運輸或上架銷售期間，活性劑能夠以特別防止泄漏的方式被存儲在敷抹裝置中。由此，優(yōu)選的是，活性劑容器已經被裝在外殼中，從而避免了例如購買者需要把活性劑容器插入到外殼中。
            
[0200]優(yōu)選地，活性劑容器以這樣的方式盛放活性劑，即:敷用劑不對儲存空間的壁造成潤濕。因此，該活性劑容器是這樣的容器，即:它不僅可以在外殼中，也可以在儲存空間中。
            
[0201]特別優(yōu)選的是，活性劑容器是一個柔性袋，特別是一個塑料袋。根據(jù)活性劑的類型和活性劑的量，在儲存空間中可以有若干個活性劑袋，或者活性劑容器可具有若干個腔。
            
[0202]優(yōu)選地，敷抹裝置包括一個連接裝置，通過它活性劑容器在儲存空間內連接到一個外殼元件。圖22中顯示了這種情況的的示例?；钚詣┤萜?2是一個塑料袋，它通過例如粘合而連接到一個連接裝置96的一個連接部件94。連接部件94能夠以形式配合的方式被插入外殼元件之一中，如外部外殼元件52k中。
            
[0203]在圖22顯示的示例性實施例中，連接部件94是柱形的，例如由木材或塑料制成的小袋，并被插入外部外殼元件52k的柱形切去部分98中。切去部分98和連接部件94是連接裝置96的部件。
            
[0204]圖24顯示了外部外殼元件52k的圍繞連接部件94的切去部分；連接部件94被設計成塑料構成的柱形條的的形式。連接部件94被插入柱形切去部分98。活性劑容器92被設計成塑料袋，它在圖24中在一端逆時針地繞在連接部件94上，并通過粘合連接到連接部件94上。只有活性劑容器92的一個邊100繞在連接部件94周圍，從而包含活性劑的活性劑容器92的一個內部腔在邊100封閉。在該示例性實施例中，邊100通過一個焊接接縫102與活性劑容器92的內部腔部分分離。
            
[0205]還優(yōu)選的是外殼具有延伸到儲存空間內的至少一個內部模制部件，活性劑容器沿著該內部模制部件被導向，且該內部模制部件減小了儲存空間的橫向尺寸，從而使活性劑容器由于其尺寸而不能在不扣緊的情況下通過內部模制部件。這種內部模制部件104的例子在圖22和23中得到了顯示。優(yōu)選地，該內部模制部件是如以上例如特別結合圖9和10描述的把手凹槽。由于內部模制部件到達了儲存空間內，活性劑容器能夠被比較均勻地被置于儲存空間或外殼的外部內輪廓上，且不會折成例如之字形的折疊。這對于以小的摩擦力擠出活性劑是有利的，如以下要進一步描述的。內部模制部件優(yōu)選地分別橫向延伸到儲存空間內至少3mm,特別是至少5mm。
            
[0206]優(yōu)選地，在內部模制部件的區(qū)域內，活性劑容器比儲存空間的寬度寬?；钚詣┤萜饕馔饣^內部模制部件的情況可被消除，從而使活性劑容器保持在儲存空間中的圓化的位置并與內部外殼元件相連。優(yōu)選地，內部模制部件形成了活性劑容器的一個導向部，特別是以這樣的方式，即:活性劑容器由于扣緊而只能以與柱形軸相交的方式通過內部模制部件。
            
[0207]優(yōu)選地，活性劑容器包括一個預定的打開位置，它在活性劑的預定內部壓強下自動打開。該內部壓強是相對于活性劑容器的環(huán)境的一個過壓強。打開可包括活性劑容器的壁的撕開，特別是在一個預定的打開位置。
            
[0208]優(yōu)選地，活性劑容器包括一個預定的打開位置，它在活性劑的一個預定內部壓強下自動打開。該內部壓強是相對于活性劑容器的環(huán)境的一個過壓強。
            
[0209]優(yōu)選地，儲存空間具有柱形形狀，且活性劑容器被插入儲存空間。在儲存空間的區(qū)域中，外殼特別是在柱軸的部分中具有至少一個把手凹槽，它作為一個向內的內部模制部件而到達儲存空間之內。優(yōu)選地，活性劑容器在把手凹槽周圍被導向。還優(yōu)選的是活性劑容器在內部模制部件的區(qū)域內比儲存空間的寬度寬，且內部模制部件形成了對活性劑容器的一個導向部。優(yōu)選地，填充有活性劑的活性劑容器被設計成具有這樣的尺寸，即:它只能通過扣緊而與內部模制部件的柱軸相交地通過。
            
[0210]在本發(fā)明的另一優(yōu)選實施例中，敷抹裝置具有向著彼此移動的至少兩個致動元件；其中的一個是與活性劑容器形式配合的，特別是牢固地連接到活性劑容器的；且另一個以這樣的方式被安裝，即:它的位移強行使優(yōu)選地位于儲存空間中的活性劑容器移動。由此，通過致動元件的致動，不可從外界進行操作的活性劑容器可在外殼內被移動，特別是在儲存空間內被移動。
            
[0211]理想地，敷抹裝置被這樣設計，即:當對著用戶的內部外殼元件相對于用戶沿著順時針方向相對于外部外殼元件轉動時，活性劑容器被排空。結果，對右手的人來說實現(xiàn)了優(yōu)化的處理。
            
[0212]優(yōu)選地，至少一個致動元件包括一個連接裝置，該連接裝置用于以這樣的方式連接活性劑容器，即:當致動元件相對彼此運動時，活性劑容器與該連接裝置被強迫跟隨致動元件。優(yōu)選地，活性劑容器具有圍繞致動元件的一個部件，特別是圍繞致動元件至少一圈和/或至少5mm。優(yōu)選地,該致動元件是容納敷抹裝置的外殼元件。這在圖22中得到示例顯示?；钚詣┤萜?2連接到連接部件94，而后者又連接到外部外殼元件52k。如果兩個外殼元件52k、54k相對彼此運動，活性劑容器92被強迫與外連接元件52k —起運動。
            
[0213]還優(yōu)選的是，另一連接元件被這樣設置，即:其運動壓縮了活性劑容器。在圖22和23中顯示了本發(fā)明的這個細節(jié)。當內部外殼元件54k，基于圖22中顯示的其位置，相對于外部外殼元件52k沿著逆時針方向運動時，它與活性劑容器92相抵并使后者在儲存空間IOk中移動。在進一步的轉動時，內部外殼元件54k的前珠在切去部分98上滑動，從而使活性劑容器92直接伸出切去部分98的部分在兩個外殼元件52k、54k之間受到壓縮。這樣，活性劑容器92的這部分由于被壓縮而被排空。
            
[0214]在內部外殼元件54k相對外部外殼元件52k進一步轉動時，活性劑容器92的越來越大的部分在兩個外殼元件52k、54k之間受到壓縮，換言之，基于靜止的內部外殼元件54k和相對它移動的外部外殼元件52k，在兩個外殼元件52j、54i向著彼此持續(xù)轉動時，活性劑容器92被逐漸或更深地拉入兩個外殼元件52k、54k之間。由此，活性劑容器92被壓縮且其內部體積減小，從而它被至少大體上排空。
            
[0215]優(yōu)選地，致動元件與活性劑容器以這樣的方式相連，即:它們相對彼此的移動在處于外殼內的活性劑容器上施加了一個打開力。這也可見于圖22和23。由于對活性劑容器92的壓縮和伴隨的內部壓強的加大，特別是通過包含在活性劑容器92中的活性劑，一個打開力被加到活性劑容器上，在該打開力的作用下活性劑容器92最終例如破裂打開。
            
[0216]這可借助活性劑容器92上的一個預定的破裂點的設置，而得到加快；該破裂點在圖22中被示例顯示為預定的破裂點106。在該預定破裂點106，活性劑容器的壁108以這樣的方式相對彼此連接，即:活性劑存在于連接位置即預定破裂點106的四周。這從所有方向使連接位置分開，從而壁108最終在預定破裂點106撕開。預定破裂點106也能夠被設計成這樣的方式，即:活性劑并不出現(xiàn)在它的整個四周，而是只出現(xiàn)在預定破裂點106的周圍至少270°的角度范圍上。[0217]優(yōu)選地，致動元件相對彼此以這樣的方式設置，且至少一個致動元件相對活性劑容器以這樣的方式設置，即:活性劑容器被移動，例如在兩個致動元件的一種相對運動(特別是轉動)中在致動元件之間被拉動。優(yōu)選地，活性劑容器在致動元件之間被完全移動，從而它在兩維上處于這些致動元件之間。
            
[0218]這在圖23中得到了示例顯示?；钚詣┤萜?2完全在致動元件(在此示例性實施例中即兩個外殼元件52k、54k)之間被拉動。它因此完全移出了儲存空間10k。
            
[0219]在本發(fā)明的一個進一步的優(yōu)選實施例中提出了，至少一個致動元件具有一個壓力裝置，它用于當兩個致動元件向著彼此移動(例如這兩個致動元件向著彼此的轉動)時把活性劑容器壓到另一元件上。這也在圖22中得到了示例顯示。壓力裝置110在此示例性實施例中被設計成在槽口 50k的邊緣處的一個珠，它把活性劑容器92壓在外部外殼元件52k上。
            
[0220]優(yōu)選地，該壓力裝置用于把活性劑壓出活性劑容器，特別是至少大部分活性劑，優(yōu)選地是盛在活性劑容器中的至少90%的活性劑。在圖23顯示的示例性實施例中，壓力裝置110具有幾乎排空的活性劑容器92，從而現(xiàn)在在從儲存空間IOk自由獲得活性劑，且活性劑容器是空的并位于儲存空間之外，在此示例性實施例中即處于兩個外殼元件52k、54k之間。
            
[0221]優(yōu)選地，壓力裝置包括致動元件的一個加強部。該加強部可被設計成例如一個珠的形狀，它優(yōu)選地至少在活性劑容器的寬度范圍上延伸。本發(fā)明的該實施例也被顯示在圖22和23中。該珠或壓力裝置110在圖22和23中只以橫截面圖進行了顯示，它在被顯示為與這些圖所在平面相垂直的一個寬度上延伸，并延伸了大于儲存空間IOk中的活性劑容器92的平均寬度且特別是大于其最大寬度的一個距離。特別地，壓力裝置110的寬度在儲存空間IOk的整個寬度上延伸。
            
[0222]如圖14至21所示例顯示的，直到敷抹裝置從一個分送位置過渡到一個敷抹狀態(tài)，會需要若干個步驟。為了使操作者對敷抹裝置的使用更加容易，優(yōu)選的是它具有可視指令，例如告訴操作者如何進行致動步驟的圖形或文字。借助一個透明部分或一個透明區(qū)，象圖11中的區(qū)66，這樣的信息是可視的，這能夠以一種特別有利的方式實施。
            
[0223]當致動元件相對于彼此并相對于活性劑容器被適當設置，從而當致動元件向著彼此移動時使活性劑容器被壓在外殼的壁上時，這是特別優(yōu)選的?，F(xiàn)在，它能夠兩維地依靠在內側上的透明區(qū)上，從而能夠從外側看到優(yōu)選地印刷在活性劑容器上的信息。優(yōu)選地，外殼的壁是圍繞儲存空間的外殼的壁。優(yōu)選地，活性劑容器將以兩維的方式被壓在該壁上。
            
[0224]該信息可以是能夠從外殼之外看到的視覺符號，特別是在適合閱讀的正常照明下看到的視覺符號，例如致動符號、箭頭、線段、文字等等。
            
[0225]還優(yōu)選的是，活性劑容器相對外部外殼元件被移動，且當致動元件移動時該外殼元件沿著活性劑容器被導向。由此，各種信息部分可被置于透明區(qū)上，從而根據(jù)致動元件或外殼元件的位置，不同的信息在透明區(qū)中變?yōu)榭梢暋?br>
[0226]還優(yōu)選的是，活性劑容器的被壓在外殼壁上的部分是活性劑容器的被擠壓的部分。由此，被擠壓的活性劑容器能夠兩維且平滑地鄰接在外殼的壁上。
            
[0227]如上所述，優(yōu)選的是，儲存空間周圍的外殼部分具有彼此嚙合的兩個外殼元件，特別是共同圍繞儲存空間的兩個外殼元件，且該外殼元件是致動元件。這在圖11至24中被示例地顯示。
            
[0228]優(yōu)選地，這兩個外殼元件可在若干個不同的位置被相互鎖定，從而使活性劑容器相對外殼元件以這樣的方式被設置并具有這樣的形狀，即:一個嚙合位置保持活性劑容器而不從外界施加壓力，且兩個外殼元件(特別是在活性劑容器已經被完全擠壓之后)在下一個嚙合位置相互鎖定，特別是以阻擋了向回進入擠出運動的相對運動的方向的方式。
            
[0229]還優(yōu)選的是，外殼元件被設計成這樣，即:活性劑容器在外殼元件相對彼此從一個分送位置轉動到一個混合位置時被擠壓。
            
[0230]在本發(fā)明的一個進一步的優(yōu)選實施例中，敷抹裝置具有把活性劑容器擠壓在一個壁上的壓力裝置。優(yōu)選地，該擠壓發(fā)生在壓力裝置沿著該壁滑動且優(yōu)選地還相對活性劑容器移動并沿著活性劑容器滑動時。當壓力裝置沿著活性劑容器滑動時，它把活性劑容器壓在該壁上，從而使活性劑容器至少部分地被擠出。
            
[0231]優(yōu)選地，該壓力裝置包括一個驅趕元件和位于其后的一個體積膨脹部分，從而使活性劑容器的將要被驅趕的區(qū)域被壓過位于該驅趕元件處的一個窄點并能夠隨后在所述體積膨脹部分中再次膨脹。
            
[0232]該細節(jié)在圖25中被示例顯示。圖25顯示了圖22中的敷抹裝置2k的放大的切去部分?？煽吹皆诓劭?50k的邊緣處帶有壓力裝置110的內部外殼元件54k。在其徑向外側，壓力裝置110具有一個驅趕元件112，在壓力裝置110的松弛狀態(tài)下驅趕元件112優(yōu)選地位于距外部外殼元件52k至少Imm的短距離處。在驅趕元件112之后，術語“前”和“后”應該被理解為壓力裝置110向著驅趕活性劑容器92的運動方向，如果在一個體積擴張部分114的區(qū)域中壓力裝置110沿著徑向向外沒有達到象驅趕元件112 —樣遠，活性劑容器92被壓過驅趕元件112處的窄點，從而它能夠在體積擴張部分114中再次擴張。這具有這樣的優(yōu)點，即:活性劑容器92與壓力裝置110之間的摩擦力被減小，從而外殼元件或致動元件的致動更加容易。
            
[0233]優(yōu)選地，體積擴張部分在驅趕元件之后開始于壓力裝置的驅趕側的一個底切部。該底切部116在圖25中有顯示。它是驅趕元件112之后的一個沿徑向向內的凹槽，體積擴張部分114由此開始。由此，裝置從前向后啟動，從而在底切部116之后形成了體積膨脹部分并從底切部116向后延伸。
            
[0234]另外，優(yōu)選的是，該底切部形成了與一個掛鉤裝置嚙合的凹槽。由此能夠實現(xiàn)兩個致動元件或外殼元件的扭轉安全。該掛鉤裝置優(yōu)選地用于使壓力裝置發(fā)生彈性變形，從而扣合到一個嚙合位置中。
            
[0235]圖25中顯示的示例性實施例中顯示了本發(fā)明的這個細節(jié)。掛鉤裝置62k在底切部116從背后嚙合，從而阻止了內部外殼元件54與轉動方向86相反的逆向轉動。在沿著轉動方向86轉動時，當驅趕元件112在圖25中沿逆時針方向被導向通過掛鉤裝置62k時，壓力裝置110或內部外殼元件54k向內變形。當附加的掛鉤裝置60k被導向通過可以是例如肋的掛鉤裝置62k時，情況也是一樣。
            
[0236]在本發(fā)明的另一個優(yōu)選實施例中，致動元件被設計成這樣，即:它們在被啟動時把活性劑容器置于它們之間。本發(fā)明的該實施例被顯示在圖23中。
            
[0237]優(yōu)選地，沿徑向的內致動元件包括墊片，而活性劑容器?？吭谠搲|片上。對這些墊片已經結合圖12進行了描述，且在圖12的示例性實施例中它們是肋。然而，其他的非肋形的設計也是可以的，即沿著轉動方向且不象如圖12中所示那樣與轉動方向相交的扁平墊片。優(yōu)選地，活性劑容器?？吭趬|片上，而該墊片把活性劑容器保持在內致動元件的外表面的最大部分的一個徑向距離處。由此，活性劑容器相對致動元件的摩擦阻力可被保持為低。
            
[0238]優(yōu)選地，驅趕元件至少比墊片的占有優(yōu)勢的的部分沿著徑向更加向外伸出。這在圖25中得到了示例顯示。驅趕元件112沿徑向伸出得并墊片60k更向外。設置在更加向后的位置的墊片和圖25中未顯示的墊片，類似地沿著徑向向外伸出，就象顯示的墊片60k一樣。
            
[0239]對于活性劑容器的開口，本發(fā)明的以下變形實施例是優(yōu)選的。優(yōu)選地，活性劑容器包括一個閉合部分，且致動元件中的至少一個具有一個打開裝置，該打開裝置被設計成在致動元件相對彼此移動時打開該閉合部分。例如，這可以這樣實現(xiàn)，即:活性劑容器在致動元件相對彼此移動時破裂，從而被拉開。由此，該打開裝置將是活性劑容器在致動元件處的一個附件，從而活性劑容器被牢固地連接在例如兩個致動元件上。該閉合部分將有一個位置，優(yōu)選地是一個破裂點，活性劑容器在該位置撕開。其他閉合部分也是可以的，例如，一個閥、被該閉合部分所封閉并在打開時被打開的一個開口、或者一種其他的設計。因此，該閉合部分可以是例如在下方的一個定做的撕開元件，用于撕出一個開口。類似優(yōu)選的是，該閉合部分包括在一個撕開層上的一個膜。
            
[0240]還可以和優(yōu)選的是，在外殼中存儲多個活性劑容器，這些活性劑容器以不同的方式被打開。因此，例如，包含一種液體的一個活性劑容器可以如圖22和23中描述的方式被打開。包含粒料的一個類似地設置的容器可例如如上所述地被撕開。兩個過程可用相同的致動元件觸發(fā)。
            
[0241]以上的描述說明了，通過壓縮在一個外殼內的一個活性劑容器而打開該活性劑容器的想法，對于敷抹裝置以外的應用，也是可行的。借助本發(fā)明，活性劑容器能夠在不被觸及的情況下被打開。
            
[0242]因此，本發(fā)明還涉及用于打開一個活性劑容器的打開機構。該打開機構包括可相對彼此移動的兩個元件，而活性劑容器與這些元件中的至少一個相連接，從而使它在這兩個元件相對彼此運動時相對另一元件移動。
            
[0243]優(yōu)選地,這些元件中的至少一個是一個外殼元件,特別地，兩個元件都是外殼元件。
            
[0244]這些相對運動優(yōu)選地是這兩個元件向著彼此的轉動。
            
[0245]還優(yōu)選地，上述和下述與活性劑容器有關的一或多個或所有特征，以及用于打開活性劑容器的特征，能夠與該想法單獨或以任何組合相結合。特別地，諸如敷抹裝置的裝置被要求得到保護，即:雖然它有兩個元件，但它不需要是為了向纖維材料施加活性劑，也不需要包含用于把包含在一個敷抹空間中的活性劑敷抹到纖維材料上的一個敷抹器。
            
[0246]該裝置特別適合于與一種活性劑容器一起使用，用于特別是與用來進行毛發(fā)護理的一種活性劑一起進行例如染色、漂白、毛發(fā)護理、毛發(fā)去除，尤其是通過施加例如磨砂膏(其通過毛細現(xiàn)象穿入根部或者用于毛發(fā)的機械去除)、蠟或粘合劑的表面活性劑。
            
[0247]該裝置特別適合與一種活性劑容器一起用于一種活性劑，該活性劑可以是一種藥用產品、一種醫(yī)用產品和/或一種美容產品。
            
[0248]進一步地，該裝置特別適合于與一種活性劑容器一起用于一種活性劑，該活性劑由若干必須分別存儲且必須在使用之前制備和混合的活性劑組分組成，諸如漆、例如泡沫和/或鼠灰色的發(fā)泡物質、樹脂、例如塑膠的密封物、硅樹脂、油灰、粘合劑、例如控制雜草或害蟲的農藥，等等。
            
[0249]該活性劑也可以是一種清洗劑、一種清潔劑、例如乳霜、奶、露的一種美容產品、諸如用于護膚、地板、汽車的護理產品、等等。也可以是諸如湯、醬、汁或諸如維生素的食品添加劑、例如混合飲料或碳酸飲料的飲料，或者是活性劑、保鮮劑等等。
            
[0250]該裝置的一個優(yōu)選實施例具有一個敷抹器，用于把活性劑敷抹到例如纖維、水平表面等的對象上。該敷抹器可被設計成所述用于敷抹裝置的形式，或者它可具有用于敷抹活性劑的一個輥、一個刷、一片織物或一個網(wǎng)；該織物或網(wǎng)例如是諸如潤濕布、蒙巾、抹布的布，甚至水洗套毛也是可以和優(yōu)選的。
            
[0251]敷抹器
            
[0252]關于敷抹裝置，在本發(fā)明的另一個優(yōu)選的變形實施例中，敷抹器圍繞敷抹空間并具有用于把纖維材料的纖維或毛發(fā)引入該敷抹空間的引入裝置。優(yōu)選地，該引入裝置具有間隙，毛發(fā)被引導通過這些間隙，且這種引導是這樣進行的，即:位于間隙中的毛發(fā)通過敷抹空間。
            
[0253]當敷抹器具有用于在特別是頭皮的一個纖維基底上的兩維支撐的下支撐表面時，毛發(fā)至敷抹空間中的引入能夠得到便利。在圖5至10中示例顯示了這樣的支撐表面36。
            
[0254]該敷抹器能夠以各種方式制造并能夠與儲存部相連。因此，引入裝置，或者還有整個敷抹器，能夠整體連接到儲存部或敷抹裝置的外殼。在圖9中示例顯示了這樣的整體連接，其中引入裝置118、敷抹器8h和儲存部6h用一件塑料制成。
            
[0255]另一種方案是把引入裝置或敷抹器與圍繞儲存空間的一個外殼元件相連。為此，該敷抹器或引入裝置能夠與外殼部分相分離地制成。圖26顯示的示例性實施例顯示了這種情況。引入裝置1181與圍繞儲存空間101的外殼部分1201完全分離地制成。為了連接引入裝置1181和外殼部分1201，設置了連接裝置，借助該連接裝置引入裝置1181和外殼部分1201能夠以這樣的方式彼此相連，即:在連接點處沒有活性劑受到驅趕。在圖26所示的示例性實施例中，連接裝置122具有掛鉤裝置124 ;掛鉤裝置124分別與外殼部分1201的一個凹槽126嚙合，并牢固地嚙合在那里從而使引入裝置1181與外殼部分1201牢固連接。
            
[0256]在另一實施例中，敷抹器通過一個可移動兀件與圍繞儲存空間的一個外殼部分相連。可移動元件可以是活頁，例如一個整體活頁。圖27中顯示了本發(fā)明的這種設計的一個示例性實施例。一個引入裝置118m經過一個可移動元件128 (在此示例性實施例中是一個整體活頁)與另一外殼部分120m相連。一般地，可移動元件被這樣理解，即:引入裝置在與外殼部分相連的狀態(tài)下，能夠相對外殼部分移動，如圖27示例顯示的。通過采用掛鉤裝置122m，兩個元件118m、120m能夠彼此連接。
            
[0257]在本發(fā)明的一個優(yōu)選的改進中，敷抹器具有一個梳，該梳帶有多個齒和一個頂側和一個底側，從而該底側形成了用于在特別是一塊頭皮的纖維基底上進行兩維支撐的一個支撐表面。優(yōu)選地，該梳的齒端形成了一條直線，它也被稱為頭線?；蛘?，梳的齒端或頭線也可形成曲線，即特別是至少部分地向下彎曲的，特別是凹的。另外，或者可替換地，一個至少部分向前凹的曲線是優(yōu)選的。這些細節(jié)類型在圖28中被示例顯示。作為直線頭線30i的替代，具有向上開放的凹形的凹頭線30ii也是可以的，或者，具有向下開放的凹形的頭線30iii也是可以的。同樣可以的，是向前開放的凹形(頭線30iv)或帶有一個向前凸出的弧(頭線30v)。在圖28中，弧的方向用向上和向下或向前和向后的雙箭頭表示。當然，也可以把兩個或更多的這些彎曲變形結合起來并在頭線30中提供多個曲線。
            
[0258]對于敷抹器的外形，優(yōu)選的是敷抹器的支撐表面或底側是凸的，特別是沿著通過纖維或毛發(fā)的拖拉方向。還優(yōu)選的是，頂側是向上凹的。優(yōu)選地，該曲線是從側面看的一個曲線。圖29和30中顯示了與此有關的一個優(yōu)選實施例。支撐表面36η的底側，以及頂側40η被設計成凸或凹的曲線。
            
[0259]該兩個彎曲表面優(yōu)選地相對彼此被這樣設置，即:位于齒的縱向方向并被拉過該齒的一個纖維，由于摩擦的減小，被自動拉到齒的更深處和敷抹空間中。圖29和圖30中的示例性實施例顯示了毛發(fā)16是如何被齒26η的梳狀端部所拾取并被導向到齒22η之間的間隙24η中。
            
[0260]在圖29顯示的情況下，毛發(fā)16剛好達到敷抹空間12η的前端。由于毛發(fā)16只是在一端與頭皮128相連，且毛發(fā)的其他部分能夠自由移動，毛發(fā)16傾向于向下落到間隙24η之外，從而它不或幾乎不被導向通過敷抹空間12η。但敷抹器8η的外形具有這樣的效果，即毛發(fā)16如圖29中的彎曲箭頭所表示的那樣被拉入間隙24η并因而被拉入敷抹空間12b。發(fā)生這樣的情況是因為，當毛發(fā)16在敷抹器Sn中直立時，它在延伸一個更短的距離的狀態(tài)被引導通過敷抹器8n。因此，敷抹器中的毛發(fā)16的摩擦力在直立毛發(fā)16通過敷抹器Sn時減小得更多。由于纖維或毛發(fā)尋求通過敷抹器Sn的阻力最小的路徑的物理原理，毛發(fā)16直立并因而被進一步拉入敷抹器Sn或敷抹空間12η又一段距離。
            
[0261]即使敷抹器Sn向前移動因而毛發(fā)16看起來相對敷抹器Sn向后移動，這種過程也發(fā)生。由于毛發(fā)16能夠自由前移，毛發(fā)將跟隨敷抹器的運動并在沒有上述效果的情況下不更深地穿入間隙24η。只有頂側和底側的兩個曲線導致上述效果，特別是與梳的角度有關，這將在以下描述。
            
[0262]為了盡可能地把毛發(fā)拉入敷抹器，優(yōu)選的是兩個齒之間的間隙隨著毛發(fā)的穿入深度的加大而長度縮短。這在圖30中被示例顯示。由于間隙的下端的返回元件130，例如，相對于支撐表面36η，間隙24η的深度隨著毛發(fā)16的穿入深度的加大而變得更短。
            
[0263]優(yōu)選地，敷抹器在頂側與底側之間形成一個梳角，它向后連續(xù)增大至少15mm，特別是至少20mm。圖31對理解梳角是有用的。所顯示的是在梳20η的前端的示例性的梳角132，且梳角132在此之后略微大于Icm處。在前部，梳角132大約為12°，而一般地，7°和20°特別是10°和15°之間的一個角度是優(yōu)選的。還優(yōu)選的是，在梳的端部之后的第一個5mm內，梳角不超過20°。另外,優(yōu)選的是,梳角在梳的端部之后的第一個IOmm之內不超過45°。由于這樣的梳角設計，能夠實現(xiàn)毛發(fā)在其通過間隙的運動期間這樣程度的自動直立，即:它落到間隙之外的運動基本上被阻止了。
            
[0264]梳角132向著后部連續(xù)增大，如圖31示例顯示的。在后部的位置，它為大約35°，并向著后部繼續(xù)增大。在圖31所示的示例性實施例中，梳角132持續(xù)增大且在任何位置都不減小。但這不是絕對必需的。
            
[0265]優(yōu)選的是，梳角持續(xù)增大，至少在間隙的區(qū)域中如此。當定義間隙角度時，描述間隙角度的直線是否適用于敷抹器的頂側或底側是重要的。接觸點可由接觸點相對彼此的最小距尚來定乂。這在圖31中用雙ftf頭134顯不。如果，例如，指定了 個上接觸點_圖31中雙箭頭134的上端的點-則尋找支撐表面與該上接觸點有最小距離的點。第二條想象的直線被置于該下點上，從而形成了梳角。
            
[0266]另外，優(yōu)選的是，在敷抹器的梳角達到至少60°，特別是在敷抹空間的區(qū)域中。由此，毛發(fā)至間隙中的明確的引入長度能夠得到確定，因為當梳角大時，毛發(fā)傾向于沿向著更小的梳角的方向移動。
            
[0267]根據(jù)本發(fā)明的另一個優(yōu)選的變形實施例，在敷抹空間的前端之后5mm處，敷抹器具有垂直于支撐表面的最大8mm的高度，特別是最大6mm的高度。對本發(fā)明的該細節(jié)的一個說明參見圖32。敷抹空間12η的前端的位置由下方且最前的箭頭表示。下方的箭頭指向之后5mm的距離。在此示例性實施例中，與支撐表面36η垂直的高度136為大約5.5mm。
            
[0268]還優(yōu)選的是，敷抹器在敷抹空間的前端之后IOmm處具有最大9mm且特別是最大7_的敷抹器厚度。與此有關的說明結合圖32給出?；谠谙轮伪砻嫔系闹付c，敷抹器厚度138也與敷抹器的最小厚度有關-就象圖31中用雙箭頭134所說明的。在本發(fā)明的該細節(jié)中，該指定點位于敷抹空間12η的前端之后IOmm處。該位置由指向最右的下方箭頭表示。在此位置，敷抹器厚度138用兩個點箭頭表示。在此示例性實施例中，它是7_。
            
[0269]借助具有上述范圍內的尺寸的敷抹器，毛發(fā)至間隙的引入可容易地實現(xiàn)，且毛發(fā)不會被向下拉。
            
[0270]齒
            
[0271]如上所述，敷抹器優(yōu)選地具有帶有齒的梳，從而它能夠象梳一樣被拉過纖維材料或毛發(fā)。由此，這些齒優(yōu)選地至少是部分地形成了敷抹器的下側或支撐表面。優(yōu)選地，齒用塑料制成，從而能夠實現(xiàn)特別容易且成本有效的制造。另一方面，當齒是金屬齒時，能夠更好地形成特別準確的間隙尺寸，特別是非常窄的間隙。這些優(yōu)選地被用在敷抹器的后部，其優(yōu)選地主要用塑料制成。
            
[0272]在本發(fā)明的一種優(yōu)選的改進方案中，齒由疊置的板形成。這在圖33中被示例顯示。多個板140被彼此疊置成疊層并由在圖33中只是示意表示的連接元件142保持在一起，并用鉚釘、螺釘保持在一起，或者被設計成其他方式。
            
[0273]在圖33中，顯示了兩種板140、144。顯示不同的類型只是為了澄清的目的，而疊層通常只由一種板140或144構成。上方的板具有前部缺口，通過它分別形成了間隙240。下方的板沒有缺口，而間隙24ο是由位于兩個板144之間的后部的一個墊片元件146建立的。間隙24c的寬度可隨著墊片元件146的厚度而調節(jié)。各墊片元件146分別形成了一個間隙24ο的一個齒基。在它們之間，板通過分別形成一個下壁150和一個上壁148ο的一部分而形成了敷抹空間12ο。因此，敷抹空間12ο向上受到上壁148ο的限制，且向下受到下壁150ο的限制。各齒240ο形成了下壁150ο和上壁148ο的一部分。
            
[0274]如果齒是由板的疊層形成的，它們能夠借助一個整體活頁而彼此連接。為了能夠使注入模的壁更厚，這些板相對彼此被這樣展開，即相鄰的板分別釋放相鄰板的側面以留出工具元件的空間。在注入模制過程之后，展開的板以這樣的方式相對彼此轉動，即:產生了如圖33所示的均勻疊層。整體活頁優(yōu)選地被設置在齒端26，并可在疊層被牢固保持之后馬上被除去。
            
[0275]為了生產，板元件可象手風琴一樣被拉開，并隨后在被推在一起的同時被安裝，以進行裝配。[0276]疊層的生產的另一實施例是利用螺旋，它優(yōu)選地在一種展開形式下制成并隨后被形成齒形并在被推在一起時被安裝。
            
[0277]或者，優(yōu)選的是，齒至少部分地由彎曲的金屬板材形成，該板材在彎曲的邊緣處有切口。這在圖34中被示例詳細顯示。一個金屬板材元件152被這樣彎曲，即產生了一個前彎曲邊緣。優(yōu)選地，金屬板材152與敷抹器的一個后部相連，例如膠合、扣合、擠進或其他連接方式。金屬板材元件152在圖34中被顯示為很薄，而在實際中可具有幾毫米的厚度。由此，優(yōu)選的是，在齒基的金屬板材比在轉向邊緣或彎曲邊緣處具有更大的金屬板材厚度。由此，能夠實現(xiàn)敷抹空間中的活性劑到間隙中的有利的排放行為。優(yōu)選地，金屬板材在齒基處的頂部以及底部分別比在彎曲邊緣154附近更厚。
            
[0278]形成齒的另一優(yōu)選方案是，齒由兩個敷抹器腿形成，這兩個腿在前部彼此相連并向后部開放。這在圖35中作了示例顯示。兩個敷抹器腿156以漸細的方式向前延伸并在前部彼此相連。上敷抹器腿156形成了一個上壁且下腿形成了一個下壁，從而在它們之間形成了敷抹空間12q。在圖35中，齒22q的齒基158q用兩條虛線表示。類似表示的有一個中介空間14q，它形成了從敷抹空間12q至未顯示的一個儲存空間的連接。這兩個敷抹器腿156可被設計成一件或幾件式，且優(yōu)選的是，它們被牢固連接在后部。在圖35中，在前部的連接被示例顯示為例如上敷抹器腿156至下敷抹器腿156中的插入。然而，一種不同的正向裝配，且特別是例如通過膠合的材料連接，是可行且優(yōu)選的。下壁的至少一部分可被繃緊的平行纖維所取代。
            
[0279]當齒端之后的Imm特別是1.5mm且更特別是2mm的齒具有小于Imm的齒高度時，借助敷抹器能夠實現(xiàn)毛發(fā)的良好梳理和分離。齒端之后0.5mm,齒具有小于0.5mm2的前部橫截面時，能夠提供相同的優(yōu)點。這些細節(jié)被顯示在圖31和32中，特別是結合圖5。
            
[0280]另外，優(yōu)選的是，齒的齒端被圓化。為了敷抹裝置能夠在頭皮上進行舒適和準確的導向，齒的下側形成一個支撐表面是有利的，該下側以一種平滑的曲面過渡成為圍繞儲存空間的外殼部分的一個凸出的外表面。這在圖10中被不例顯不。
            
[0281]為了方便敷抹裝置的操作，有利的是梳具有50mm的最大梳寬度，特別是最大40_。優(yōu)選地,梳的寬度是從梳的第一個端部至最后一個端部的寬度。
            
[0282]對本發(fā)明的這些附加細節(jié)的步驟，得到了圖36至44中概括顯示的幾個示例性實施例的實質支持。這三個示例性實施例是從許多不同的敷抹裝置中選出的，以使示例性實施例的數(shù)目保持合理，并使描述能夠被理解。然而，本發(fā)明當然不限于這些示例性實施例，而且本發(fā)明也不限于上述的示例性實施例。所描述的細節(jié)不是專門為它們的描述所結合的示例性實施例設置的。特別地，沒有標號的所述本發(fā)明細節(jié)是一般化的，并被視為能夠以任何方式互換的。
            
[0283]圖36至38分別顯示了敷抹器8r、8s、8t的橫向橫截面圖，從而敷抹空間12r、12s、12t能夠在梳20r、20s、20t中被看到。敷抹器8以及敷抹空間12因而可被認為是被分成了不同的區(qū)域。所有三個示例性實施例都具有一個端部區(qū)160，它被設計成沒有任何敷抹空間。該端部區(qū)160因此從敷抹空間的前端向前延伸，并在圖36至38中由虛線(I)之前的區(qū)域表示。
            
[0284]在敷抹空間12的前端開始，一個前敷抹區(qū)162向后延伸，并向著后部被一個主敷抹區(qū)164所跟隨。敷抹器8的前敷抹區(qū)162與主敷抹區(qū)164之間的一個邊界在圖36至38中被虛線(2)所顯示。在該前敷抹區(qū)，下壁的頂側與支撐表面36平行地延伸。前敷抹區(qū)162與主敷抹區(qū)164之間的邊界線，可通過頂側移離下壁的下側的點而畫出，例如在下壁150的頂側的一個彎曲部分中。從此點，該邊界線能夠延伸至頂側40，從而該方向由至頂側的最短連接表示，如例如結合圖31所描述的。在圖38所示的示例性實施例中，該邊界由下壁的頂側上的一個不同的連續(xù)部分表示，在此情況下是一個凸的彎曲部分。
            
[0285]在所示的優(yōu)選示例性實施例中，敷抹空間向上向著一個前底側彎曲，該底側與支撐部分平行-敷抹空間的下側是下壁的頂側。下壁的內表面因而首先與支撐表面平行地延伸并隨后向上彎曲。
            
[0286]前敷抹區(qū)162和主敷抹區(qū)164形成了敷抹器8的敷抹區(qū)。該敷抹區(qū)的后端由也是間隙基部的齒基158確定。間隙基部和齒基158因而沿著橫向方向是平行的。
            
[0287]在圖36和37中，個后敷抹區(qū)166跟隨著王敷抹區(qū)164向著后部。由此確定的是，其后間隙出口 168位于支撐表面36的一個凹槽中。間隙出口 168因此向后離開支撐表面36而進入敷抹器8的內部。即使后敷抹區(qū)166也是整個敷抹區(qū)的一部分。
            
[0288]在圖36中以橫截面圖顯示的敷抹器8r在圖39和40中用立體圖顯示。圖39顯示了從前方并從底部橫向看的敷抹器Sr，而圖40顯示了從敷抹器Sr或其敷抹空間12r的內側向外外殼部分52r中看的視圖?？梢钥吹?，間隙24r在與支撐表面36垂直的一個平面內平行延伸。所有間隙都是等間隔的并具有相同的寬度。齒端的前部是圓化的，從而它們形成了一個漏斗形的間隙入口。該實施例特別適于對毛發(fā)根部進行染色，并因而也可被稱為毛發(fā)根部染色裝置。
            
[0289]敷抹器8的第二示例性實施例在圖41和42中以立體圖的形式顯示。圖41與圖40類似，圖42顯示了從底部沿著橫向即與支撐表面36傾斜的方向看的敷抹器8s。敷抹器8s與敷抹器Sr不同，因為它具有各間隙24s之間的、不到達敷抹空間12s的旁路間隙170s
            
[0290]旁路間隙170s是用于梳理毛發(fā)的。由于毛發(fā)會有交叉且有些凌亂，直接在間隙24s之前的毛發(fā)也與在旁路間隙170s之前的毛發(fā)略微有些糾纏。在沒有旁路間隙170s時，這些毛發(fā)將被壓在敷抹器8s之下，從而這些毛發(fā)和在間隙24s之前的糾纏的毛發(fā)會被下壓。由此，把這些毛發(fā)引入間隙24s會更困難。
            
[0291]然而，由于旁路間隙170s，這些毛發(fā)得到梳理并且也從底部向著頂部地通過敷抹器。以此方式，即使間隙24s之前的毛發(fā)也被保持向上，從而使它們能夠更容易地進入間隙24s從而被引導通過敷抹空間12s。具有至少一個旁路的一種實施例特別適于給毛發(fā)上大理石花紋，因為被梳理的毛發(fā)總是只有相對小的一部分被引入敷抹空間12s并在那里與活性劑(在此情況下是毛發(fā)染色劑)接觸。
            
[0292]本發(fā)明的該實施例的一個進一步的特征，在于后敷抹區(qū)166s中，或在于支撐表面36s中的切去部分172s中；在支撐表面36中間隙出口 168s結束。這些切去部分172s或間隙出口 168s至敷抹器8s的內部的引入，使得在間隙長度增加時間隙深度不增加，或者最大處于一個比值，該比值最大為間隙長度每增加3mm間隙深度增加1mm。這在圖37中得到了顯示。沿著虛線(3)的間隙深度沿向著齒基158s的方向只有略微的增加，且在齒基158s的附近，因為通過敷抹空間12s的過渡區(qū)而變得更陡因而更長。敷抹器8的這種設計的優(yōu)點是，間隙24s中的毛發(fā)沿向著間隙基部158s的方向略微向后滑動，從而牢固地保持在間隙24s中。以此方式，單獨的毛發(fā)或者只包含少量毛發(fā)的小束能夠在大的長度上可靠且均勻地被染色，這對上大理石花紋是有利的。
            
[0293]圖38和42至44中顯示的第三實施例特別適于對小縷進行染色。與上大理石花紋的染色裝置2s類似地，縷染色裝置2t具有位于染色間隙24t之間的旁路間隙170t。在此同樣地，不是所有被梳理的毛發(fā)都被染色，而只是更小的部分即在此情況下的小縷被染色。染色間隙24t被分成若干個間隙24t組成的組-在此示例性實施例中這些組分別有四個間隙24t，在這些組之間設置有一組旁路間隙170t。一般地，旁路間隙170不達到敷抹空間12中。通過旁路間隙170梳理的毛發(fā)因而不與活性劑接觸。
            
[0294]敷抹器8t的一個進一步的特征，是后敷抹區(qū)166t，或浸在敷抹器8t中的間隙出口168t。優(yōu)選地，用于小縷的一個組的若干且特別是所有染色間隙24t進入到切去部分172t，從而在這些間隙24t中的毛發(fā)能夠在切去部分172t中被結合。從支撐表面36t向外伸出的導向表面174，與切去部分的外表面相配合，優(yōu)選地把從一個間隙組出來的若干且特別是所有毛發(fā)集成一縷。由于縷的染色通常包括漂白或上光，其中活性劑必須作用在毛發(fā)上一段時間，若干間隙24t組成的毛發(fā)縷的形成使得被活性劑潤濕的毛發(fā)被壓在一起并形成了單個的縷。這種縷被活性劑所包圍和穿入，從而使活性劑的意外脫離得到了避免。活性劑保持在毛發(fā)長的時間，并在長時間里起作用。
            
[0295]導向表面174在圖44中被從側面顯示，從而它們從支撐表面沿徑向向外或向下的伸出能夠被看到。
            
[0296]特別優(yōu)選的是，毛發(fā)出口開口或毛發(fā)出口間隙的與頭線平行地測量的寬度小于3_，而且小于2_的寬度是優(yōu)選的。毛發(fā)出口開口或毛發(fā)出口間隙被設計成V形的加深部分也是可行的，從而表面彼此之間的角度小于90°，而小于60°的角度是特別優(yōu)選的。把一個分離單元獲取的至少某些毛發(fā)形成縷的、其橫截面表面小于直徑3mm的一個圓的其他形狀和尺寸，也是可行的。
            
[0297]具有幾個分離單元的實施例也是可行的，其中例如為不同的顏色設置了不同的敷抹裝置。由此，在多個分離的儲存空間和敷抹空間中設置了不同的敷抹裝置。
            
[0298]毛發(fā)出口開口指的是一個區(qū)域，當毛發(fā)繃緊時，從該區(qū)域通過切去部分172和/或導向表面174的橫向表面的橫向導向是不能進行的。
            
[0299]為了同時實現(xiàn)毛發(fā)的良好潤濕和不被潤濕的毛發(fā)的良好導向，一個旁路部分的至少一個旁路間隙可被設計得特別長。這種情況的一個例子被顯示在圖72中。旁路間隙170的適當長度240在敷抹間隙24的最大間隙長度的0.15倍至1.2倍的范圍，特別適合的是在0.3倍與1.2倍之間的范圍，尤其是在0.5倍與1.12倍之間。敷抹間隙24的長度與從頭線30至上間隙基部186的距離有關。旁路深度24ο與頭線30與旁路間隙的后端之間的距尚有關。
            
[0300]為了實現(xiàn)毛發(fā)內或通過毛發(fā)的優(yōu)選送入和拉過，一或多個旁路間隙170可被配置有比敷抹間隙24更大的深度和更大的間隙寬度。由此，實現(xiàn)了未被染色的毛發(fā)至敷抹器的更均勻的引入，就象弓I入敷抹間隙24中的毛發(fā)一樣。
            
[0301]在長的旁路間隙長度的情況下，特別是當該長度比相鄰的敷抹間隙的長度長時，向前的敷抹空間不再沿橫向繼續(xù)，因為旁路間隙不要達到敷抹空間。因此，敷抹空間能夠具有向著一個或一組敷抹間隙的向前的袋。當敷抹裝置被使用時，這些袋將要被可靠地填充。影響填充的尺寸特別是敷抹空間的斜角194和袋或敷抹空間的通道寬度242(圖72和73)。整個敷抹空間的整個通道寬度被一個深的尖銳旁路所分割。通過該通道寬度，敷抹空間的袋的尺寸和所需的填充壓強能夠得到控制。通道越寬，敷抹空間越大且所需的填充壓強越小。
            
[0302]在圖72和73中，顯示了由旁路的外齒22的通道寬度角244所限定的通道寬度。一個適當?shù)慕?44在5°與45°之間，更好是在10°與45°之間，且特別好是在15°與45°之間。10° C與35°之間的角度也被顯示為是非常適當?shù)摹?br>
[0303]在齒腔空間區(qū)域中的敷抹空間因而被設計成這樣，即:袋使得在低饋送壓強下活性劑能夠向這些袋中流動，并阻止了敷抹器在一個仰位上轉動時活性劑的回流，至少在敷抹空間向前的6mm,更好是8mm,且最好是12mm。
            
[0304]圖72和73顯示的變形敷抹器8在一或幾個敷抹間隙24之間包括剛好一個旁路間隙170。具有幾個旁路齒的變形實施例，例如圖41和圖42中顯示的例子，也一樣是可行的。旁路齒可延伸到頭線之外或者更短。
            
[0305]優(yōu)選地，敷抹器包括設置成梳狀的、其間有間隙的若干空心齒。這些齒形成了一個上壁、一個下壁和在上壁與下壁之間的一個齒腔空間。該齒腔空間是敷抹空間的一部分。該敷抹空間包括齒的齒腔空間以及特別是齒之間的間隙的空間的至少一部分。特別地，敷抹空間包括齒的齒腔空間齒之間的間隙的空間。
            
[0306]這在圖46中得到了示例顯示，其中顯示了若干齒22r的立體圖。在上壁148r與下壁150r之間，齒具有一個腔，該腔有齒22r的寬度并被描述為齒腔空間。該齒腔空間是敷抹空間12r的一部分。
            
[0307]還優(yōu)選的是，上壁的壁厚度是下壁的壁厚度的至少1.1倍，特別是至少1.3倍，這些厚度分別是在距敷抹空間的前端相同的距離處測量的。這在圖47中被示例顯示，其中顯示了沿著圖36的虛線通過敷抹器Sr的橫截面。與該虛線對應，該橫截面中上壁1481 和下壁150r與敷抹空間12r的前·端是等距離的。上壁148r的壁厚度176在此位置是1.2mm。該壁厚度是沿著間隙24r的深度的方向測量的。在此位置，下壁150r的相應壁厚度是0.8mm,因而上壁148r的壁厚度是下壁150r的壁厚度的1.5倍。
            
[0308]該實施例具有這樣的優(yōu)點，即:敷抹器對活性劑通過間隙向上的排放的密封比對向下的排放的封閉好很多，從而活性劑更容易向底部排放。這具有這樣的優(yōu)點，即:活性劑更容易被向下或向著后部退出的毛發(fā)所攜帶。這種實施例對頂部或底部或前部和后部上的相等間隙寬度是特別有利的，如圖46所示。當間隙向著底部或后部比向著頂部或前部寬時獲得同樣目的所要采取的步驟將在以下討論。上壁或下壁的厚度指的是壁的有效厚度。在通過壁的厚度的間隙開口的情況下，壁的厚度可以從那個平面測量，即間隙處于直到該平面的最窄值，在該平面處間隙寬度是該窄點的尺寸的1.5倍。
            
[0309]還優(yōu)選的是，壁深度除以上壁的最窄間隙寬度的比值是下壁的該比值的至少1.1倍，特別是至少1.5倍。在圖46的示例性實施例中，壁深度除以上壁的的最窄間隙寬度的比值是1.2mm除以0.6mm = 2。另一方面,在下壁的情況下,該比值是0.8mm的壁深度除以0.6mm的間隙寬度=1.33。上壁的該比值因而是下壁的該比值的1.5倍。優(yōu)選地，在該計算中也采用了有效壁厚度。
            
[0310]在一個進一步的實施例中，齒之間的下壁間隙向著敷抹空間開放成漏斗形。由此，活性劑的不希望的脫離，可被通過下壁上的間隙從敷抹空間退出的毛發(fā)所抵消。[0311]還優(yōu)選的是，對著敷抹空間的下壁的齒邊緣是沿向著敷抹空間的橫向方向凸出圓化的。由此，至少0.3_特別是至少0.5_的曲率半徑是特別有利的。在圖48中顯示了這些細節(jié)的一個實施例。各齒22r’的下壁150r’在向著敷抹空間的兩側上都是圓化的，且上壁148r’在向著頂部即向外的兩側上也是圓化的。圓化的半徑是0.5mm。結果，齒22r’之間的下壁間隙向著敷抹空間12r’開放成漏斗形。
            
[0312]如圖46中所示，還通常優(yōu)選的是，齒之間的上壁間隙向上開放成漏斗形，特別是具有上述的圓化。由此，從上方把毛發(fā)引入間隙變得更容易。優(yōu)選地，漏斗寬度是在兩側上的間隙寬度的至少10%，特別是至少20%。在圖48中，它是大約40%。
            
[0313]旁路
            
[0314]在本發(fā)明的一個進一步的變形實施例中，與一個間隙直接相鄰的齒具有間隙齒端，位于一個旁路中的齒具有旁路齒端，且/或，一個間隙與一個旁路之間的齒具有過渡端。這可借助圖41和43而進行示例說明。兩個變形實施例都具有一或兩個旁路178，它們分別帶有旁路齒180和旁路間隙170。在染色間隙24與旁路178之間，分別設置有過渡齒182，后者被設計成與旁路齒180和間隙齒22不同，而圖41中的變形實施例沒有設置在間隙24之間的間隙齒22。由于各種齒22、180、182的不同設計，毛發(fā)能夠與所希望的敷抹相應地被有利地導向，例如，它可被引入一個染色間隙24或一個旁路間隙170。
            
[0315]優(yōu)選地，旁路齒端的長度等于間隙齒端和過渡齒端的長度。由此，能夠實現(xiàn)直線的頭線，這對于梳理和敷抹裝置的操作方便是有利的。
            
[0316]還優(yōu)選的是，旁路齒端比間隙齒端和/或過渡齒端更寬。這在圖41中顯示，其便利了卷曲的毛發(fā)的梳理。另外，優(yōu)選的是在一個旁路中有多個旁路齒。由此，旁路可被設計成寬的且毛發(fā)能夠被徹底梳理，從而能夠避免毛發(fā)由于某些毛發(fā)粘貼在一起而滑出染色間隙的問題。
            
[0317]當旁路總是位于兩個染色間隙之間時，能夠獲得大理石花紋染色的良好效果。由此，能夠實現(xiàn)特別均勻的大理石花紋效果，因為每次敷抹器被拉過毛發(fā)，只有相對少量的毛發(fā)被引導通過敷抹空間并因而被染色。
            
[0318]與此相對比的是，對于小縷的染色，當若干直接相鄰的染色間隙形成一個間隙組且在兩個這樣的間隙組之間設置有一個旁路時，能夠實現(xiàn)特別好的效果。由于與大理石花紋不同，縷是要被強調的，當染色小縷時，毛發(fā)需要在比大理石花紋染色時更大的組中進行染色。因此，提供由多個(尤其是那些直接彼此相鄰地設置的)染色間隙組成的染色間隙組是有利的。在兩個間隙組之間分別設置了一個旁路，它使小縷之間的毛發(fā)不被染色但被梳理。
            
[0319]特別地，在染色小縷的情況下，優(yōu)選的是在間隙組中每毫米至少0.6個間隙，特別是每毫米至少0.8個間隙。在此，該毫米規(guī)范涉及寬度。為實現(xiàn)用非常高粘度的，即堅硬的敷用劑，對毛發(fā)進行適當潤濕，特別是為了在把毛發(fā)染成金色時實現(xiàn)良好的效果，需要染色的毛發(fā)縷應該被展開。較寬的小縷間隙因而不如一組窄的、相連的小縷間隙適合。由于一個組中的若干單個的間隙和毛發(fā)至各間隙中的展開，實現(xiàn)了比單個且更厚的縷的情況下總體上明顯更大的毛發(fā)相對敷抹裝置的接觸表面。由此，實現(xiàn)了更好的染色或更好的毛發(fā)金色染色效果。
            
[0320]另外，優(yōu)選的是，一個間隙組的敷抹寬度是最大15_，以實現(xiàn)時尚的外觀。特別優(yōu)選地，該敷抹寬度小于10_，而小于6_的敷抹寬度是特別優(yōu)選的。敷抹裝置具有至少一個間隙組，借助它各縷毛發(fā)都能夠被染色。
            
[0321]在具有多個間隙組的敷抹裝置中，各間隙組分別被一個旁路分開。因此，實現(xiàn)了在一次敷抹通過中同時產生多個縷。旁路的寬度之和可小于間隙組的和，但優(yōu)選地是大于后者，特別優(yōu)選的是，旁路的和至少兩倍大。
            
[0322]優(yōu)選地，一個間隙組由至少三個染色間隙形成，這些分別相鄰的染色間隙被分開至少0.8mm且至多3.0mm。
            
[0323]為了更好區(qū)分旁路間隙，術語“染色間隙” 一般被用于延伸至敷抹空間的間隙，它引導被拉過它的毛發(fā)通過敷抹空間。術語“染色”可指纖維或毛發(fā)的任何顏色改變過程。
            
[0324]優(yōu)選地，弓丨入裝置具有梳狀齒之間的、過渡到敷抹空間中的間隙。
            
[0325]優(yōu)選地，多個間隙形成了一個具有外和內間隙的間隙組，從而當毛發(fā)被最大程度地引入間隙時毛發(fā)在間隙中所處于其上的間隙長度，在外間隙中比在一個內間隙中要短。
            
[0326]為了用敷抹裝置實現(xiàn)好的毛發(fā)處理，活性劑必須不會意外流出敷抹空間并通過間隙流到外界。因此，敷抹器應該被這樣制造，即:使得敷用劑被保持在敷抹空間中而不會意外泄漏出，并能夠把毛發(fā)從外界引導過間隙并通過敷抹空間以用活性劑潤濕。由此，間隙必須保證敷抹空間向外界的完美非滲透性。當敷抹裝置停靠在桌子上時例如向下的緩慢泄漏，是可接受的。但應該避免活性劑在毛發(fā)的敷抹護理期間意外的向下滴漏。
            
[0327]這樣的相對非滲透性在以下作為敷抹密封性而得到描述；在這樣的相對非滲透性中，活性劑保持在例如敷抹空間中預定的時間，且如果需要的話，會保持在間隙空間中且不會意外泄漏到敷抹器之外。
            
[0328]影響敷抹密封性的各種參數(shù)包括:
            
[0329]1、活性劑的粘度和表面張力
            
[0330]2、活性劑的流動限制
            
[0331 ] 3、敷抹器的間隙的寬度，它建立了從敷抹空間至外界的連接
            
[0332]4、間隙或敷抹空間的向著外界的間隙的深度
            
[0333]5、活性劑從敷抹空間施加到間隙中的壓強
            
[0334]6、間隙區(qū)域中的齒的表面一致性。
            
[0335]顯然敷抹密封性取決于設計，特別是敷抹器的配置，以及活性劑的性質。在此意義上，優(yōu)選的是敷抹器的配置與所用的活性劑相適配。換言之，使用幾種活性劑時，優(yōu)選地是采用不同的多個敷抹器，或者具有單獨設置的多個敷抹空間和不同的敷抹器特征的一個敷抹器。
            
[0336]與活性劑的不同物理性質和敷抹器的不同配置對應，可采用不同的敷抹密封性定義。一種特別簡單的選擇，是只在活性劑在例如I小時的長時間里不通過間隙從充滿的敷抹空間中泄漏出的情況下，才認為敷抹密封性成立。但這要求流動限制，即活性劑只有當存在觸發(fā)流動的一定的最小剪切應力時才具有流動的性質。在這種最小剪切應力以下是沒有流動的，因而敷抹空間中的活性劑繼續(xù)保持在間隙中且不通過它們泄漏。
            
[0337]如果沒有流動限制或只有低的流動限制，活性劑能夠在一定的時間之后泄漏到敷抹空間之外并通過間隙向下泄漏。活性劑因而將流過間隙，在間隙下方的支撐表面上匯集并最終滴落。當活性劑只在預定的時間之后在間隙的至少一個位置從完全充滿的敷抹空間泄漏出，并達到了下側即支撐表面時，則將是適合于毛發(fā)護理的一種充分的敷抹密封性。合理的預定時間是20秒，特別是30秒，特別優(yōu)選的是I分鐘。
            
[0338]敷抹密封性的一種比較弱的定義與上述定義類似，其中活性劑可更快地穿過間隙，然而，它在預定的時間中不會從自由擺動的敷抹器向下滴落。該活性劑因而在預定時間過去之前匯集在支撐表面上，即它因此已經更早地通過至少一個間隙泄漏并隨著時間在那里形成了下落。
            
[0339]如果不考慮充滿活性劑的敷抹空間的參數(shù)，可以考慮壓強被活性劑加在間隙上，例如5cm特別是IOcm的活性劑柱。對于敷抹裝置的常規(guī)使用，以下的定義是合理的，它假定敷抹空間填充有活性劑且在一個過渡空間中的加到敷抹空間的附加預定壓強。一個合理的壓強是5毫巴(mbar)，特別是10毫巴，且在特殊裝載的情況下，可以是20毫巴。
            
[0340]這種定義考慮到敷抹空間的配置，且特別還考慮到從敷抹空間的后部至前部的路徑中的活性劑造成抵消壓力的摩擦阻力的情況。這些摩擦力越大，即向前的敷抹空間越窄，來自后部的壓強就可以越大，而仍然繼續(xù)保持敷抹密封性。
            
[0341]在敷抹密封性的該定義下，應該區(qū)分閑置狀態(tài)下的敷抹密封性和使用中即活性劑至毛發(fā)的敷抹期間的敷抹密封性。在以下，敷抹密封性的基礎總是指在閑置狀態(tài)下的密封性，除非另外指明。
            
[0342]最終采用哪種敷抹密封性定義基本上取決于敷抹裝置的目標使用。在以下提到的敷抹密封性中，上述所有定義都可被采用，或者可選出一種合理的定義，它優(yōu)選地對敷抹裝置的計劃應用是最佳的，且特別是適配于活性劑的。
            
[0343]為了實現(xiàn)毛發(fā)被活性劑的良好潤濕，優(yōu)選的是敷抹空間的體積比較大，從而使活性劑在毛發(fā)被連續(xù)拉過敷抹空間時活性劑不會變得不足。另外，用活性劑填充敷抹空間應該比較容易，從而敷抹空間不會意外變空。當至少敷抹空間的最大部分由空心的齒空間形成時，所有這些都能夠方便地實現(xiàn)。敷抹空間因而能夠形成一個連續(xù)的腔，它能夠方便地填充并具有足夠的體積。特別地，間隙具有上壁和下壁，在它們之間至少設置有敷抹空間的最大部分。
            
[0344]進一步地，對于實現(xiàn)敷抹密封性來說優(yōu)選的是，間隙(特別是在一個下壁的區(qū)域中)具有至少在0.05mm與0.3mm且優(yōu)選地在0.05與0.2mm之間且特別優(yōu)選地是在0.05與0.15_之間的間隙寬度，尤其是與至少在在0.05mm與4.0mm之間的間隙深度相結合。這些尺寸對存儲在儲存空間并送進敷抹空間并具有0.4至4.0Pa*s的粘度的活性劑的使用是特別優(yōu)選的。
            
[0345]在提供了同樣優(yōu)點的情況下，特別是在一個下壁的區(qū)域中的間隙具有這樣的間隙寬度，即該間隙寬度在至少0.05_與1.5_之間，優(yōu)選地在0.1和1.0mm之間，且特別優(yōu)選地在0.1與0.7_之間，尤其是與在至少0.05_與4.0mm之間的間隙深度相結合。這些尺寸對于存儲在儲存空間中并被送進敷抹空間并具有40至100Pa*s之間的粘度的活性劑的使用是特別優(yōu)選的。
            
[0346]特別地，當采用具有4和40Pa*s之間的粘度的活性劑時，優(yōu)選的是特別是在一個下壁的區(qū)域中的間隙具有至少在0.05mm與1.0mm之間且優(yōu)選地在0.1mm與0.7mm且特別優(yōu)選地在0.1與0.4_之間的間隙寬度，并尤其與至少0.05mm與4.0mm之間的間隙深度相
            
結合 ?[0347]上述尺寸在附圖中沒有直接顯示出。但圖47和48能夠被方便地修正，從而使它們對應于這些尺寸。
            
[0348]如圖36至38所示例顯示的，敷抹器8以及與它一起的敷抹空間12能夠被分成一個前敷抹區(qū)162、一個主敷抹區(qū)164以及必要時的一個后敷抹區(qū)166。相應地，下壁可被分成下壁的一個前部和下壁的一個后部，從而該后部包括主敷抹區(qū)164并也許還包括后敷抹區(qū)166。同樣的定義也可被用于上壁的一個前部和一個后部。
            
[0349]優(yōu)選地，下壁的前部具有敷抹空間的長度的至少30%。
            
[0350]為了在已經在最低區(qū)域即非常接近毛發(fā)根部的區(qū)域用活性劑進行毛發(fā)的潤濕，優(yōu)選的是下壁的深度，至少在其前區(qū)的一個部分中，是0.5_至1.5_。敷抹空間由此被設置得與支撐表面非常接近，從而活性劑在支撐表面與頭皮鄰接時能夠被置于與毛發(fā)根非常接近的部位。優(yōu)選地，前部的下壁具有均勻的厚度。這顯著地便利了以可靠的方式把活性劑置于接近毛發(fā)根的部位的操作。特別地，該厚度是0.35mm與0.95mm之間，且特別是在0.6mm與0.8mm之間。下壁的均勻厚度在整個前區(qū)上優(yōu)選地均勻延伸。但下壁的間隙深度也可不變地連續(xù)延伸或者是不連續(xù)的。
            
[0351]借助能夠適配纖維材料的彈性齒22，把活性劑敷抹到接近毛發(fā)根部的位置的操作得到了附加的改善。在此，這些齒22是彈性的，它們在被敷抹器8施加了 0.5公斤的向下且特別是與頭線垂直的壓力時在一個足球大小的想象的堅硬球上與該球的凸的圓化部分相鄰接，從而一切齒都鄰接在該球上。
            
[0352]還優(yōu)選的是，前區(qū)中的下壁具有至少5mm且優(yōu)選地最大12mm的長度的均勻厚度部分。特別地，在前區(qū)之后的下壁的厚度繼續(xù)上升至3mm與IOmm之間的一個最大厚度。結果，能夠與接近根部的染色相結合地實現(xiàn)高度的敷抹密封性。
            
[0353]優(yōu)選地,下壁的深度在其后區(qū)中增大至至少4mm,特別是至至少5mm,更特別地是至至少6mm。由此,特別優(yōu)選的是,后區(qū)增加至至少4mm且前部的深度在0.05mm與0.5mm之間，特別地，當前區(qū)中的下壁的深度在0.2mm與0.7mm之間且后區(qū)中的深度增加至至少5mm,且尤其是前部中的深度在0.5mm與0.8mm之間且后部中的深度增加至至少6.0mm。
            
[0354]當齒具有其中間隙出口延伸至支撐表面的一個凹槽中的一個后敷抹區(qū)時，能夠實現(xiàn)活性劑對毛發(fā)的特別好的潤濕。優(yōu)選地，后間隙出口以相對各自最近的支撐表面區(qū)至少30°特別是至少60°且更特別地是至少80°的角度，向上延伸或延伸到支撐表面的上述凹槽中。
            
[0355]當毛發(fā)16由于支撐表面中的一個凹槽而能夠更深地穿入間隙出口的區(qū)域的敷抹空間中時，實現(xiàn)了好的潤濕。
            
[0356]優(yōu)選地，在后敷抹區(qū)中隨著至梳的端部的距離的增加，或者向著敷抹空間的前端，間隙深度減小。由此，毛發(fā)在后間隙區(qū)中的穿入摩擦可被減小，從而使毛發(fā)能夠優(yōu)選地在該區(qū)中被浸并以一種穩(wěn)定的方式被保持在那里。因而可以避免毛發(fā)滑出的情況且能夠實現(xiàn)好的染色結果。當間隙深度隨著間隙出口與支撐表面的距離的加大而減小時，產生了同樣的優(yōu)點。
            
[0357]特別優(yōu)選的是，當采用一種渦輪設置時，間隙的下壁，當從前向后看時，首先以基本恒定的間隙深度延伸至少15mm的距離。在一個后區(qū)，該下壁則可向上延伸，離開支撐表面，特別地，其下間隙出口向上至少5mm且特別是至少8mm，特別是其頂側和/或下側與支撐表面成65°與90°之間的一個角度。這在圖38中得到示例顯示，其中后敷抹區(qū)中的下壁向上彎曲，其頂側和其下側與支撐表面36t成大約90°角地延伸。
            
[0358]優(yōu)選地，間隙深度在彎曲的下壁的部分中也是基本恒定的。這也在圖38中被示例顯不O
            
[0359]上述間隙寬度的尺寸對于存儲在儲存空間中并流入敷抹空間且具有0.4Pa*s與120Pa*s之間且特別是0.4Pa*s與60Pa*s之間的粘度的活性劑來說是特別優(yōu)選的。
            
[0360]特別是在具有低粘度的活性劑的情況下，首先是對于那些沒有流動限制的活性齊U，建立一個令人滿意的敷抹密封性會是困難的。為了實現(xiàn)這點，優(yōu)選的是齒具有一種基部材料和朝向間隙的覆層。優(yōu)選地，這種覆層是這樣設計的，即:它比所述基部材料更能阻止活性劑穿過間隙。特別地，該覆層材料比所述基部材料更憎水。為此，覆層可以是這樣一種材料，它比基部材料更能夠減小活性劑的表面潤濕。
            
[0361]這樣的覆層也可被用在敷抹空間的區(qū)域中以改善活性劑的滑動或附著，具體取決于覆層的類型。
            
[0362]類似地，一種具有纖維的覆層阻止了活性劑的穿過。該覆層可具有從覆層伸出的不規(guī)則的纖維，或以一種有序的方式伸出覆層的纖維。
            
[0363]阻止活性劑穿過間隙的另一種方法，是用向著底部的封閉纖維把間隙覆蓋起來。該封閉纖維可被固定在基部材料或覆層中。它們能夠形成一種幕，該幕的方向與活性劑從敷抹空間通過間隙向周圍的流動方向相交。優(yōu)選地，該封閉纖維位于下壁的上半部中，即更向著敷抹空間，即向著支撐表面或間隙的下開口。當封閉纖維被集中在兩個端并特別是繃緊的時，能夠進一步實現(xiàn)間隙的高度封閉。為此，封閉纖維能夠與間隙相交并被固定在限定了間隙的齒上。該封閉纖維能夠彼此平行地設置以形成一種陣列。
            
[0364]敷抹裝置中的活性劑
            
[0365]本發(fā)明進一步涉及上述的一種敷抹裝置，在其外殼中特別是在儲存空間中存儲有活性劑。
            
[0366]優(yōu)選地，該活性劑和敷抹器的設計彼此協(xié)調，從而使敷抹裝置的敷抹是封閉的。
            
[0367]還優(yōu)選的是活性劑和間隙尺寸是彼此協(xié)調的，從而使活性劑當敷抹空間被完全充滿時自動流入間隙，且活性劑即使在敷抹空間被充滿至少一分鐘之后也不從間隙向下滴落。
            
[0368]為此特別優(yōu)選的是，間隙深度具有如上所述的尺寸，且敷抹器的阻擋部特征的尺寸通過調節(jié)間隙寬度而以這樣的方式被設定，即:實現(xiàn)了所希望的敷抹密封性，例如活性劑流入間隙但不向下滴落。由此，對于多數(shù)活性劑可認為間隙寬度的適當截面是一個非常小的截面，因為在間隙太小時活性劑不會進入間隙，而當間隙太大時它向下泄漏并從間隙滴落。根據(jù)活性劑，一個間隙太小和太大之間的范圍可以是0.05_與0.2_之間?；钚詣┑恼扯仍礁?，適當?shù)某叽缭酱蟆?br>
[0369]雖然調節(jié)適當?shù)拈g隙寬度以實現(xiàn)在敷抹裝置的閑置狀態(tài)下所希望的敷抹密封性是比較容易的，建立敷抹期間的敷抹密封性顯然更加復雜。
            
[0370]為了實現(xiàn)敷抹密封性，敷抹器的一或多個幾何細節(jié)被優(yōu)選地得到利用，根據(jù)敷抹的不同，這些細節(jié)各自或或它們的組合對于建立敷抹密封性是特別有效的。
            
[0371]對于用活性劑對毛發(fā)進行有效潤濕來說，優(yōu)選的是活性劑和間隙的間隙寬度以這樣的方式相互協(xié)調，即:活性劑在敷抹器的閑置狀態(tài)下穿入間隙一定的距離，例如最大Imm,優(yōu)選地是在例如20秒的預定時間內，且進一步地是在例如最大IOcm活性劑柱的預定壓強下。
            
[0372]實現(xiàn)所希望的敷抹密封性的另一種方法，是把活性劑的流動性和/或粘度減小至適當?shù)某潭取τ诖┻^間隙的能力來說，特別優(yōu)選的是向活性劑加入固體物，以下指彈性可變形材料，或者彈性體。
            
[0373]在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，活性劑包含小的桿狀顆粒。其長度優(yōu)選地使它們能夠沿著橫向位于間隙中，且它們具有使它們能夠通過間隙的寬度。活性劑穿過間隙的能力因而被顯著降低了，從而能夠建立起所希望的敷抹密封性。尤其是，活性劑可包含纖維。
            
[0374]當采用敷抹裝置用活性劑潤濕毛發(fā)時，經常不能避免的是，敷抹裝置被保持在這樣的狀態(tài)，即敷抹空間向儲存空間或向中介空間的開口指向下方。敷抹空間的幾何特征因而根據(jù)活性劑而以這樣的方式得到優(yōu)化調節(jié)，即:在敷抹裝置的各種位置下都有至少一個預定部分的活性劑被保持在敷抹空間中。優(yōu)選地，該預定部分是至少25%，尤其是至少50%。敷抹空間由此應該被視為齒的空心齒腔，它實際上包括了齒的空心區(qū)域范圍內的所有相鄰的間隙空間。
            
[0375]借助活性劑在敷抹空間的內壁上的附著，活性劑可保持在敷抹空間中。為此，該附著行為必然以這樣的方式與活性劑的重量相適配，即:活性劑的附著性在敷抹空間內的至少預定部分的持續(xù)時間內得到保持。一種進一步的方法是在儲存空間與敷抹空間之間提供一個限制，它阻止了活性劑以預定的方式離開敷抹空間。優(yōu)選地，該預定的部分在敷抹空間中保持一個預定的時間。優(yōu)選地，該時間是10秒，特別是20秒。
            
[0376]在本發(fā)明的另一個優(yōu)選實施例中，齒具有0.3mm與3.0mm之間，特別是0.5mm與
            
2.0mm之間，且特別是在0.6mm與1.5mm之間，且更特別是在0.9mm與1.2mm之間的平均寬度。該值的范圍越精確地適配上述在后的數(shù)值，均勻染色毛發(fā)的效果越好。為了實現(xiàn)均勻的染色，應該使被梳理的毛發(fā)的盡可能大的部分實際穿過敷抹空間。由于敷抹間隙的寬度不能任意加大，間隙的寬度和齒的寬度應該相互協(xié)調。當采用傳統(tǒng)的活性劑時，上述平均齒寬優(yōu)選的是適用于均勻的全染色結果的的。
            
[0377]為了具有一種特別均勻的染色結果，平均齒寬度應該與活性劑的粘度相適配。由此，以下的范圍已經被證明是特別優(yōu)選的。
            
[0378]在0.4Pa*s與4Pa*s之間的粘度下，平均齒寬度在0.4mm與4.0mm之間，優(yōu)選地在0.4mm與2.5mm之間，且特別優(yōu)選地在0.4mm與1.5mm之間。在4Pa*s與40Pa*s之間的粘度下，平均齒寬度在0.4mm與2.5_之間，優(yōu)選地在0.4mm與1.5mm之間，且特別優(yōu)選地在0.4與1.0mm之間。在大于40Pa*s的粘度下，平均齒寬度在0.4mm與2.0mm之間，優(yōu)選地在0.4與1.5mm之間，且特別優(yōu)選地在0.4mm與1.0mm之間。
            
[0379]染色體積是單個間隙在一個著色通過中能夠施加到以IOcm的長度通過該間隙的毛發(fā)上的活性劑的最大體積。該體積是通過把相關的間隙寬度與毛發(fā)在一個間隙中所能夠通過的穿過表面相乘而限定的。該相關間隙寬度可以是平均間隙加0.2_。這是為了考慮到活性劑在橫向流動中有所補充。適當?shù)娜旧w積是4mm3與IOOmm3之間,更好的是15mm3與75mm3之間，且特別好的是20mm3與50mm3之間。
            
[0380]另外，對于均勻的染色結果還優(yōu)選的是，至少梳中的最大部分的間隙，尤其所有間隙，都彼此等距離地設置，且間隙距離尤其是0.3mm與3mm之間。
            
[0381]與均勻的全染色相比，當染色小縷時，間隙應該處于間隙組中，各組之間有至少一個沒有染色間隙的旁路區(qū)。由此，被梳理的毛發(fā)的一部分被活性劑所潤濕，而另一部分被引導通過旁路區(qū)且沒有被潤濕。
            
[0382]間隙組的尺寸取決于所希望的染色結果。然而，已經得到證明的是，當無間隙的旁路區(qū)的寬度是間隙組中的間隙距離的至少三倍時，能夠實現(xiàn)好的強調效果。
            
[0383]在提供同樣的優(yōu)點的情況下，旁路區(qū)的橫向尺寸是間隙組中最遠的相對間隙的間隙距離的至少兩倍。
            
[0384]當毛發(fā)被引導通過敷抹空間時，毛發(fā)通過上壁進入敷抹空間并通過下壁退出敷抹空間。由此，優(yōu)選的是，毛發(fā)經過主敷抹區(qū)或后敷抹區(qū)退出敷抹空間。另一方面，如果毛發(fā)已經在前敷抹區(qū)退出了敷抹空間，毛發(fā)通過敷抹空間的過渡路徑比較短，因而它有不被適當潤濕的危險。另一個復雜化的因素是，敷抹空間的前區(qū)離儲存空間最遠，因而敷抹空間的前部中消耗的活性劑的再填充進行得最慢。在那里，活性劑可被耗盡，且毛發(fā)被拉過空的前敷抹空間。
            
[0385]為了盡可能避免所有這些，上和下壁被這樣設計，即:毛發(fā)盡可能滑行到敷抹器和敷抹空間中并向著后部滑動，并經過主敷抹區(qū)且優(yōu)選地經過后敷抹區(qū)(如果設置了的話)退出。通過敷抹空間的過渡路徑比較高，且這些部分相對敷抹空間離儲存空間比較近，能夠更容易地被再填充。
            
[0386]相應地，齒在四個不同的區(qū)域有四種不同的任務。除了對圖36至38中顯示的間隙進行分割之外，與本發(fā)明的以下細節(jié)有關地，以下的分割是方便的。第一區(qū)包括齒端，它梳理毛發(fā)并用于將毛發(fā)引導向間隙。第二個區(qū)包括上壁，而端區(qū)一般不被考慮。第三區(qū)包括下壁的前部，即在前敷抹區(qū)中的下壁，且第四區(qū)包括下壁的后部或中和后部，即在主敷抹區(qū)和后敷抹區(qū)(如果有的話)中的下壁。
            
[0387]這些區(qū)在圖49至51中借助圖36至38中的例子而得到了說明。作為一種改進方案，第四區(qū)被分成區(qū)4a和4b，毛發(fā)優(yōu)選地將要從區(qū)4b而非區(qū)4a的敷抹空間退出。然而，原則上，區(qū)4a和4b的間隙性質是相同的，或至少是非常類似的。
            
[0388]第一和第二區(qū)的任務是把毛發(fā)引入敷抹空間。第三區(qū)的任務是把活性劑引導至盡可能接近纖維基底尤其是頭皮處。第四區(qū)的任務是把毛發(fā)導向離開敷抹空間。雖然優(yōu)選的是所有區(qū)在閑置狀態(tài)下都具有敷抹密封性，上述任務對這些區(qū)提出了額外和其他的要求，從而使這些區(qū)的幾何特征的相應適配成為優(yōu)選。
            
[0389]第二區(qū)引入敷抹空間的毛發(fā)的量與第四區(qū)導向離開敷抹空間的毛發(fā)量一樣。然而，在第二區(qū)中，毛發(fā)是干的，而在第四區(qū)中毛發(fā)被應該圍繞毛發(fā)的活性劑所潤濕。由此，包括活性劑的潤濕的毛發(fā)的直徑比在第二區(qū)中的毛發(fā)的大。在第四與第二區(qū)的間隙寬度比值為>1至5，且對適當?shù)臐櫇窠Y果是從>1至3.0，優(yōu)選的是潤濕結果是從>1至1.5，的情況下，可實現(xiàn)特別優(yōu)選的潤濕結果。
            
[0390]由于第三區(qū)的任務是把活性劑引導至接近頭皮處，其間隙深度相應地小。由于第三區(qū)不是為了把毛發(fā)引導離開敷抹空間，第三區(qū)中的間隙寬度可小于第四區(qū)中的間隙寬度?；蛘?，換言之，前敷抹區(qū)中的下壁中的間隙寬度優(yōu)選地小于主敷抹區(qū)和后敷抹區(qū)(如果有的話)中的間隙寬度。第三區(qū)的間隙至第四區(qū)中的開口所具有的進一步的優(yōu)點是，毛發(fā)主要保留在第四區(qū)中，且由于第三區(qū)中的較大摩擦力，漫游至第三區(qū)的后部而進入第四區(qū)。
            
[0391]為了即使在毛發(fā)被拉過敷抹空間時也實現(xiàn)敷抹密封性，優(yōu)選的是，第四區(qū)中的間隙具有比第二區(qū)中更大的平均深度。
            
[0392]由于這種任務分配，還特別優(yōu)選的是，第二區(qū)中的間隙的平均深度大于第三區(qū)中的間隙平均深度。如果后區(qū)4b存在，即位于后敷抹區(qū)中的下壁區(qū)，其任務是把該區(qū)中的毛發(fā)盡可能多地引導出敷抹空間，因為在該區(qū)中，進行了活性劑對毛發(fā)的可靠潤濕，由于此區(qū)中的敷抹空間離儲存空間最近且在此區(qū)中毛發(fā)被導向至支撐表面上的凹槽中因而尤其在強調器的情況下會形成縷，使毛發(fā)被活性劑充分地包圍，并穩(wěn)定地避免了活性劑從毛發(fā)的脫離。
            
[0393]為此，優(yōu)選的是區(qū)4b中的平均間隙寬度比區(qū)4a中的間隙寬度大。毛發(fā)傾向于滑入更寬的間隙中，因此達到了后部。
            
[0394]即使對于敷抹密封性，優(yōu)選的是，在具有更小的間隙深度的位置，間隙更窄。尤其，在區(qū)4a中，間隙深度從前向后增大。相應地，優(yōu)選的是，區(qū)4a中的間隙寬度從前向后增大，尤其在整個區(qū)中連續(xù)地增大。
            
[0395]四個區(qū)的任務在所有可能的敷抹器形式中是不一樣的。因此，例如在圖51中顯示的強調器并沒有對根部附近進行染色的重要任務。因此，第三區(qū)只是簡單地設置，或者甚至可以完全去掉。
            
[0396]如在圖49至51中可見，毛發(fā)通過敷抹空間的過渡路徑長度167在所有三個敷抹裝置8r、8s、8t中有不同的長度。這三個敷抹裝置形成了具有不同的過渡路徑長度167的敷抹裝置的體系。過渡路徑長度隨著所用的活性劑的粘度而增加。例如是根部染色設備的敷抹裝置2r最好被用于低粘度的活性劑，例如是大理石花紋施加設備的敷抹裝置2s最好被用于平均粘度的活性劑，且例如是強調器的敷抹裝置2t最好被用于高粘度的活性劑。優(yōu)選的過渡路徑長度167是5mm至10mm、6mm至15mm、以及大于15mm。
            
[0397]過渡路徑長度可在毛發(fā)線的最后位置處即進入間隙至最大程度的毛發(fā)處測量。在毛發(fā)線的最后位置之前2_處的一條毛發(fā)線也是可以的，因為對于優(yōu)化的潤濕，多數(shù)毛發(fā)位于間隙的最后5mm的區(qū)域中。
            
[0398]引入間隙的毛發(fā)的量也可在齒端被一個捕獲過濾器所影響。對于只在旁路之間有各個間隙的大理石花紋裝置來說這是特別優(yōu)選的。如果只有少量的毛發(fā)將要被引入間隙，優(yōu)選的是間隙沿著直到端部的一條線延伸，而沒有捕獲過濾器。但在背離染色間隙的齒的一側，優(yōu)選的是有一個傾斜，從而該齒本身具有一個端部。
            
[0399]優(yōu)選地，梳的至少某些齒具有在它們的齒端的一個加厚部分，該加厚部分使得齒端區(qū)的間隙比齒端區(qū)之后的區(qū)中的間隙小。
            
[0400]還優(yōu)選的是，在齒端區(qū)中，一個插入部被連接或插入，它關閉了前部中的某些間隙。借助這樣的插入部或頂部件，在每次梳理中被染色的毛發(fā)的量可被改變，從而使染色的圖案能夠與所希望的結果相一致。
            
[0401]第一區(qū)的任務包括把毛發(fā)引入和由此確定間隙中單位間隙長度和間隙寬度的毛發(fā)量。如果第一區(qū)引入了過多的毛發(fā)到間隙中，毛發(fā)在間隙中會過于緊密且不被適當潤濕。因此優(yōu)選的是只有能夠在敷抹區(qū)中被活性劑完全包圍并潤濕的毛發(fā)量被引入間隙，即該毛發(fā)不能太緊密。當?shù)谝粎^(qū)即端部區(qū)中的間隙比敷抹區(qū)中的窄時，這種優(yōu)點能夠被實現(xiàn)。尤其，在端部區(qū)中，間隙具有其最窄的寬度。
            
[0402]第一段中的約束可在敷抹器的生產中通過形成適當?shù)凝X而實現(xiàn)。毛發(fā)在敷抹區(qū)中成束太過緊密因此沒有被適當潤濕的問題則取決于活性劑的物理性質。原則上，優(yōu)選的是提供在第一區(qū)中具有不同的約束的多種敷抹裝置的一個系列，該約束即第一段中的各種寬度的約束。然而，這在制造上是昂貴的。因此優(yōu)選的是，提供即使在敷抹器被制成之后仍然能夠調節(jié)第一段中的間隙寬度的可能。這可通過齒的一個附件來實現(xiàn)，借助該附件第一區(qū)中的間隙寬度能夠得到調節(jié)。通過采用一個適當?shù)墓ぞ?，該附件能夠以這樣的方式被連接到端部上，即:各附件被置于各齒端上，從而使齒的寬度以所希望的方式被加寬。
            
[0403]類似地，也可以把一個插入部從內部通過敷抹空間滑動到第一區(qū)中，從而該插入部把間隙寬度減小至所希望的尺寸。
            
[0404]第二區(qū)即齒的上壁相對于敷抹密封性至少對活性劑的物理性質是敏感的，因為毛發(fā)是從頂部通過上壁引入敷抹器的，且活性劑因而推回到敷抹空間中且活性劑是向下而不是向上泄漏出間隙。即使這樣，對于各種活性劑，以下的間隙寬度被證明是特別有利的。
            
[0405]優(yōu)選地，間隙至少在它們的上壁處具有這樣的寬度:0.03mm與1.5mm之間，尤其是0.05mm與0.5mm之間，更尤其是0.05mm與0.35mm之間。
            
[0406]另外，優(yōu)選的是該間隙寬度在間隙長度上均勻延伸。
            
[0407]關于深度，上壁上的間隙的寬度能夠變化。因此，例如，從頂部向底部漸細的一個漏斗是優(yōu)選的，以把毛發(fā)特別良好地引入間隙。然而，間隙寬度也可以在上壁的整個深度上保持不變。
            
[0408]優(yōu)選地,上壁具有這樣的適當間隙深度:0.2mm與1.5mm之間，更好是在0.35mm與3.0mm之間，且特別好是在0.5mm與2.0mm之間。
            
[0409]優(yōu)選地，間隙在出口段比在引入段更寬。該引入段可以是在上壁上的段且出口段是在下壁上的一個區(qū)。間隙不應該在頂部釋放任何活性劑，因為這會由于毛發(fā)在被梳理時與染色間隙無關地吸收染色劑而導致不希望的染色效果。因而優(yōu)選的是，上壁的間隙對于它們的敷抹密封性比下壁的間隙更能夠阻止泄漏。優(yōu)選地，相對于它們的敷抹密封性，區(qū)4被設置得比區(qū)3更密封。
            
[0410]優(yōu)選地，出口段的間隙寬度是引入段的寬度的1.2倍至兩倍，尤其，當引入段中的間隙寬度大于0.2mm時。
            
[0411]還優(yōu)選的是，出口段中的間隙寬度比引入段中的間隙寬度寬2至4倍，尤其是當引入段中的間隙寬度小于0.2mm時。
            
[0412]進一步地，尤其是，出口段中的間隙寬度比引入段中的間隙寬度寬4至7倍，尤其是當引入段中的間隙寬度大至0.15mm時。
            
[0413]如上所述，敷抹器的間隙的間隙寬度優(yōu)選地應該與任務尤其是與活性劑相適配。這可通過在其他方面類似的敷抹器的各種實施例來實現(xiàn)。然而，特別優(yōu)選的是，敷抹器包括一個調節(jié)裝置，用于尤其是以這樣的方式手動調節(jié)間隙寬度，即:至少占優(yōu)勢的數(shù)目的可用間隙的寬度通過該調節(jié)工具的再調節(jié)而得到同步調節(jié)。
            
[0414]當齒在它們的齒基被彼此彈性連接時，這樣的調節(jié)更容易實現(xiàn)。在這種變形實施例中，該調節(jié)工具可具有改變齒相對彼此的排列的調節(jié)效果。因此，例如，齒端可向著彼此移動，且間隙因此被減小，或者齒端能夠離開彼此地移動且間隙寬度因而被加大。[0415]特別優(yōu)選的是，齒基是彈性的，從而使所有間隙的間隙寬度當齒被沿著橫向壓向一起時減小相同的量。這也使得間隙寬度的均勻調節(jié)能夠實現(xiàn)。
            
[0416]間隙的輪廓確定了毛發(fā)在敷抹器中的良好引導。在例如圖49至51中所示的橫向橫截面圖中間隙的輪廓得到了顯示。該輪廓由上壁的頂側、端部區(qū)的頂側、端部區(qū)的下側和敷抹區(qū)的下側確定，而當間隙出口浸在支撐表面的一個凹槽中時，該間隙輪廓偏離支撐表面的形狀或其輪廓。這在圖50和51被被示例顯示。
            
[0417]當間隙輪廓在其頂側具有一個半圓形凹形曲線時，毛發(fā)能夠被方便地拉入間隙，該曲線在間隙的頂側的至少80%尤其是間隙頂側的100%的長度上與一個圓的偏離，是該圓的半徑的最多20%，尤其是最多10%。
            
[0418]即使梳張開的一個角度也對把毛發(fā)引入間隙有正面的作用。優(yōu)選地，該梳角以這樣的方式向著后部加大，即:間隙輪廓在其底側最前部的2cm上偏離了直線最大5mm,尤其是最大3_。因此，如果把一條切線置于端部之后2cm的下輪廓上，該端部從該切線最大偏離上述毫米數(shù)。
            
[0419]特別優(yōu)選的是，在后敷抹區(qū)中在間隙的后側的間隙輪廓具有一個至少5mm長的段，該段具有最大Imm的偏離，并與上壁的頂側的最后的段平行地延伸。
            
[0420]尤其，在強調器的情況下，優(yōu)選的是，在間隙的下后端的間隙輪廓以向著上前端延伸的方式取向。這在例如圖51中被顯示，其中在區(qū)4b中的間隙出口向上向區(qū)2中的頂側延伸。
            
[0421 ] 在敷抹器的具有一個梳-該梳具有一行平行排列的齒和在齒之間的間隙-的實施例中，間隙優(yōu)選地向著間隙基部的后部結束，該間隙基部限制了間隙的長度。其一個例子在圖52至54中被顯示。間隙基部184由此分別從頂側40延伸至下支撐表面36，并能夠被敷抹空間12分成一個前間隙基部186和一個后間隙基部188。
            
[0422]優(yōu)選地，該間隙基部位于一條直線上，該直線沿著齒端的方向形成了 10°與30°之間的一個角度。這在圖52中被示例顯示。在此示例性實施例中，角190是17°。由此，前間隙基部186以及后間隙基部188能夠被包括在沿著齒端的相同的角190中，因而這兩個間隙基部186、188彼此平行，尤其是齊平對準。
            
[0423]然而，特別優(yōu)選的是，前間隙基部與后間隙基部處于一個角度。這在圖53中被示例顯示。前間隙基部186相對齒端的方向具有10°與30°之間的一個角度。后間隙基部188s與此成一個角度,它類似地與齒端的方向成一個角度,然而是在另一側的負角度-這取決于角度的定義。兩個間隙基部186s和188s由此能夠分別形成一個平面。由于前間隙基部相對后間隙基部的夾角，沿著整個間隙基部被拉動的毛發(fā)能夠以更小的摩擦力被引導通過敷抹器。
            
[0424]當下壁中的間隙基部即后間隙基部沿著向前方向圓化凸出到敷抹空間中時，提供了同樣的優(yōu)點。
            
[0425]為了簡化毛發(fā)至間隙中的引入，還優(yōu)選的是上壁中的間隙基部即前間隙基部在一個橫向輪廓中圓化凸出。
            
[0426]特別優(yōu)選的是，它沒有彎曲地進入敷抹器的頂側。本發(fā)明的這些細節(jié)被顯示在圖54中。后間隙基部188u向前圓化到敷抹空間中，從而避免了如圖53中所示的后間隙基部188s形成一個尖銳的邊緣。為了便利毛發(fā)沿著間隙基部的前緣的滑行，圖54中的前間隙基部186u也向著前部和向著頂部圓化。在此示例性實施例中，該間隙基部沒有彎曲地延伸到敷抹器8u的頂側40u中。由此，能夠避免前間隙基部186u的一個尖銳的前緣，從而使從頂部引入間隙的毛發(fā)能夠以非常小的摩擦力在該曲面被引入間隙。
            
[0427]在間隙的下端，被活性劑潤濕的毛發(fā)被引導出敷抹器。在此優(yōu)選的是，幾何特征被這樣設計，即:使得活性劑不脫離毛發(fā)，或者脫離毛發(fā)的活性劑盡可能地少。為了實現(xiàn)這點，下壁上的間隙基部向上向著后部凸出彎曲，且尤其是沒有彎曲地延伸到敷抹器的支撐表面中。這在圖55中被示例顯示。后間隙基部188v向上向著后部凸出彎曲，且在該示例性實施例中也沒有彎曲地延伸到支撐表面36v中，從而建立起從間隙基部188v至支撐表面36v的一個沒有任何彎曲的過渡。
            
[0428]敷抹空間優(yōu)選地是敷抹器的被活性劑填充且毛發(fā)被拉過的空間。優(yōu)選地，那些沒有活性劑流入和/或其中被引導通過敷抹器的繃緊毛發(fā)不能被浸的空間，都不是敷抹空間的部分。
            
[0429]在圖56和57中，顯示了兩個敷抹空間12的例子。圖56中的敷抹空間12u包括齒22u的空心齒空間，還有齒22u之間的間隙部分，其橫向輪廓與空心齒空間相同。在圖57的立體圖中，這被清楚地顯示。敷抹空間12r在四個齒的立體圖中被虛線顯示。它是連續(xù)通過多個齒的一個空間，尤其是具有至少延伸在若干個齒的范圍上的相同的橫向輪廓。優(yōu)選地，敷抹空間圍繞內空間，且該內空間與間隙平面垂直地連續(xù)延伸并至少通過梳的若干且尤其是所有空心齒空間。
            
[0430]這在圖57中被顯示。被顯示為虛線的敷抹空間121在四個齒上延伸，該敷抹空間12r包括了四個空心齒空間和在這四個齒之間的三個間隙24r的空間，這三個間隙的橫向輪廓與空心齒空間對應。
            
[0431]優(yōu)選地，敷抹空間延伸過敷抹器的帶有空心齒空間的所有齒。
            
[0432]以下，一個擴展的 敷抹空間可被這樣定義，即:它除了空心齒空間之外，還包括間隙的整個空間。當考慮到活性劑要穿入間隙以實現(xiàn)好的潤濕結果時，這種定義是特別優(yōu)選的。這種擴展的敷抹空間，在以下和前述部分中，也被描述為“敷抹空間”，因此為了簡化的目的，它包括了比在圖56和57中被示例顯示為敷抹空間12更大的空間。然而，兩種敷抹空間的共同之處是，空心齒空間的后緣被沿著間隙基部的繃緊毛發(fā)所限定。這可見于圖56中。雖然是在其下壁的內邊緣處，由于后間隙基部的向上彎曲，間隙向上到達的程度比沿著前和后間隙基部的繃緊毛發(fā)線所限定的程度更遠。但由于在該線之上的區(qū)域不能被繃緊的毛發(fā)所到達，位于上方的該區(qū)域不再被認為是所定義的敷抹空間的一部分。
            
[0433]敷抹空間優(yōu)選地被敷抹器的梳的齒所完全圍繞，而只有至儲存空間的過渡部分或通過齒的過渡空間保留開放。
            
[0434]優(yōu)選地，敷抹空間經過間隙沿徑向向著外界開放。結果，毛發(fā)能夠向內通過敷抹空間沿徑向被導向。
            
[0435]關于該空間的尺寸，至少兩個參數(shù)必須被考慮:太小的空間會被引導通過它的毛發(fā)過快地排空，從而毛發(fā)的端部可能不被活性劑充分潤濕。因此，大的敷抹空間是優(yōu)選的。然而，大的敷抹空間意味著大量的活性劑處于敷抹空間中，由于大的慣性，當敷抹器在使用中發(fā)生突然運動時它會以更高的壓強被壓到間隙中，所以大量的活性劑更容易導致泄漏。對于這種敷抹空間，一個好的妥協(xié)是，當敷抹空間在橫向輪廓(即與敷抹器的橫截面輪廓的間隙平面平行的輪廓)中其長度是其深度的至少兩倍。這在圖36和37中被示例顯示。圖38中的例子沒有顯示這種細節(jié)。這是由于圖38的例子特別適合于對小縷染色，其中活性劑是高粘度的因而很不容易穿過間隙進入外界。在此情況下，可容忍大量的活性劑而不產生任何泄漏。
            
[0436]為了獲得好的潤濕結果，有利的是向著前部即向著齒端的敷抹空間漸細成一個端部。毛發(fā)早已經浸在敷抹空間中，即在非常遠的前部，因而對根部的潤濕是有利的。
            
[0437]另外，優(yōu)選的是，敷抹空間在其縱向延伸范圍內是彎曲的，尤其是向上彎曲。這也在圖36至38中的示例性實施例中以各種彎曲圖案進行了顯示。
            
[0438]對接近根部的潤濕還優(yōu)選的是，敷抹空間向下達到離敷抹器的下側尤其是一個支撐表面不到2mm尤其是不到Imm且更尤其是不到0.7mm的位置。該優(yōu)選實施例尤其在圖49和50中被顯不在區(qū)(3)中。
            
[0439]特別是當對接近根部的部分進行染色時，還優(yōu)選的是敷抹器的端部是非常尖的且敷抹空間達到向前非常遠的地方，即進入具有低高度的區(qū)域。優(yōu)選地，敷抹空間達到敷抹器的最前端的區(qū)域，該區(qū)域具有最大3mm尤其是最大2mm的高度。由此，接近毛發(fā)根部的區(qū)被置于與剛好被引入梳的活性劑相接觸的狀態(tài)，而此時由于高度低，梳中的毛發(fā)的摩擦仍然很小。由此，由于摩擦很小，毛發(fā)向前彎曲的傾向很小，因而所有或基本上所有毛發(fā)都被俘獲并可在接近根部處被染色。
            
[0440]在一個進一步的優(yōu)選實施例中，敷抹空間在向下至少5mm的距離上與敷抹器的支撐表面平行地被導向，并具有在該平行區(qū)之前的一個端部區(qū)，該端部區(qū)與支撐表面即平行區(qū)更加接近。這在圖38中被示例顯示。下壁150t具有向著前敷抹區(qū)162t的前部的一個漸細部分，借助它敷抹空間被置于比在主敷抹區(qū)164t中的平行區(qū)中更接近支撐表面36t的位置。
            
[0441 ] 為了間隙的潤濕，還優(yōu)選的是，齒的一個上壁和的內側和一個下壁的內側在至少5mm尤其至少IOmm的一個敷抹空間長度上彼此平行地延伸。作為其一個例子，可參見圖36中的主敷抹區(qū)164r和圖37中的主敷抹區(qū)164s和后敷抹區(qū)166s。前敷抹區(qū)162r中的上壁也與主敷抹區(qū)164r、164s中的下壁的內側平行地延伸。在兩個示例性實施例中，在敷抹空間12的長度192上延伸的平行部分的長度大于10mm。
            
[0442]當敷抹裝置被保持在敷抹器指向下方的狀態(tài)時，且當敷抹空間被充有活性劑時，活性劑中的較大部分處于敷抹空間的前端，從而在那里產生了保證敷抹密封性的困難。這種困難可借助對敷抹空間的斜角角度的正確調節(jié)而得到克服。
            
[0443]該斜角是敷抹空間在其前端其上內側與其下內側之間向后部張開的角。優(yōu)選地，斜角具有7°與18°之間尤其是10°與15°之間的角度范圍。斜角194在圖58和59中被示例顯示。圖58中的斜角194w是12°且特別適合于低粘度的活性劑，尤其是用于對根部附近進行染色的染色活性劑。
            
[0444]斜角保證了，在敷抹空間的前端區(qū)中的活性劑量是小的。在此區(qū)中，梳優(yōu)選地具有薄的壁，以保證接近根部的染色。小量的活性劑的優(yōu)點是，較小的靜態(tài)壓強被加在間隙上。另外，相對于該體積，比較強的附著力作用在出現(xiàn)的活性劑上，因為單位體積的表面非常大。對于具有小于4Pa*s的粘度的活性劑，7°至18°的斜角是適當?shù)?，?0°與15°之間是特別適當?shù)?。[0445]另外，這樣的窄斜角保證了，活性劑借以從儲存空間被抽送到敷抹空間的抽送效果由于高摩擦而被降低。小的斜角角度只對填充造成問題，因為即使敷抹空間的最前區(qū)也應該被充滿活性劑。然而，由于活性劑的低粘度，即使前敷抹空間的尖的端部也能夠被充滿。小的斜角還有額外的優(yōu)點，即回流傾向由于與活性劑的量相比較大的附著力而被強烈地壓制了。這在其中敷抹器的端部指向上方的上方應用中是非常重要的。
            
[0446]還優(yōu)選的是，敷抹空間的斜角具有20°與40°之間尤其是22°與36°之間的一個角度。這樣的角度特別適合更大粘度、更牢固和粘的活性劑，這些活性劑可以是泡沫或漿狀的。尤其是，這樣的斜角適合于具有大于4Pa*s尤其是大于40Pa*s的粘度的活性劑。較大的斜角，對于可靠地用更粘的活性劑填充敷抹空間的端部，是優(yōu)選的。因為較低的流動性，封閉性和回流只是次要的問題。即使如此，該角度也應該被限于向著頂部以保證符合人體工程學的使用和在上方使用時防止敷抹空間中的活性劑的回流或泄漏。
            
[0447]在本發(fā)明的一個進一步的優(yōu)選實施例中，敷抹空間具有至少兩個空間部分，它們分別垂直于間隙平面連續(xù)延伸過多個空心齒空間，且在這些空間部分之間設置有一個分離元件。
            
[0448]該分離元件具有兩個功能。一個功能是它能夠把兩個空間部分相互分離而阻止活性劑通過。優(yōu)選地，該分離元件分離了與間隙平面垂直的、從一個空間部分至另一個空間部分的通道。本發(fā)明的這種細節(jié)在圖60中被示例顯示。圖60顯示了從前部看的敷抹器8y的立體圖，它具有其內部帶有兩個空間部分196、198的敷抹空間12y。一個分離元件200位于這些空間部分之間，它分離了兩個空間部分196、198而不讓活性劑通過。在此，不讓活性劑通過指的只是敷抹裝置的內部，從而活性劑當然能夠從一個空間部分穿過間隙并沿著敷抹裝置之外的一條路徑流動，并能夠由此通過間隙穿入另一空間部分，然而這樣的過程與常規(guī)敷抹無關。這種實施例特別適合強調器，例如當兩個小縷要用不同的顏色染色時。兩種不同的活性劑能夠同時被施加到毛發(fā)上，從而敷抹能夠被顯著地加快。
            
[0449]優(yōu)選地，分離單元從敷抹空間一直延伸到儲存空間中，從而兩種不同的活性劑能夠被單獨存儲，并且分離單元對儲存空間中的活性劑是不可滲透。這種細節(jié)被顯示在圖60中。分離元件200從敷抹空間12y —直延伸到儲存空間IOy中，從而使兩種不同的活性劑能夠在儲存空間中被存儲和各自流動。
            
[0450]優(yōu)選地，分離元件位于活性劑的旁路區(qū)中。在此兩個間隙組可被彼此分開而不允許活性劑滲透，當染色小縷時這是特別有利的。
            
[0451]第二種功能是充滿活性劑不需要的死空間。這在各自具有多個間隙的兩個間隙組之間的旁路區(qū)中是特別有利的。在此，分離元件200的下區(qū)可被用作填充元件202，而分離元件200的上部分可被去除。
            
[0452]優(yōu)選地，分離元件或填充元件填充空間部分之間的一個空間，該空間具有至少象間隙組的寬度一樣寬的寬度。由此，相對于一個空間部分通過敷抹空間通過到另一空間部分，敷抹空間的死空間可被減小。這對于在排空的敷抹器中有盡可能小的殘余量來說是優(yōu)選的。分離元件或填充元件與間隙組中的外間隙由此應該具有至少一個間隙寬度尤其至少兩個間隙寬度的距離。這有利于用活性劑進行潤濕，因為由此更多的活性劑能夠出現(xiàn)在外間隙中并用于長的染色長度。
            
[0453]這些細節(jié)也被顯示在圖60中。填充元件202比間隙組的寬度寬，即比四個間隙的寬度寬。另外，填充元件202位于與間隙組中兩個最外間隙相距間隙寬度三倍的位置，那些最外的間隙是間隙組中對著填充元件202的間隙。
            
[0454]在本發(fā)明的一個優(yōu)選改進方案中，敷抹空間具有帶有后壁的一個后部凸出部。這樣的凸出部204x在例如圖59中被顯示。術語凸出部可由此定義，敷抹空間的后壁當通過該凸出部時首先離開上壁，并在其進一步的部分中再次向著它延伸。這可借助圖59中的例子而看出。在其上端，后壁206x再次向上壁148x延伸，從而在后壁206x上有一個位置具有離上壁104x最大的距離。從此點開始，后壁206x再次沿著兩個方向向著上壁延伸。
            
[0455]當下后壁具有相對齒端的方向垂直的位置時，毛發(fā)在間隙中的保持能夠得到便利。梳端部的方向規(guī)定了梳通過毛發(fā)的運動，并因而基本規(guī)定了毛發(fā)在梳中和在敷抹空間中的位置。在所示的實施例中，毛發(fā)能夠被容易地保持在間隙中，且毛發(fā)能夠被潤濕得特別好，即使是用粘的活性劑。
            
[0456]當后壁在一個70°尤其至少90°的角度范圍內在最大1.5cm尤其是最大Icm的長度范圍上是圓腹的和彎曲的時，提供了同樣的優(yōu)點。如圖59中可見，在大約90°的一個角度范圍上延伸的凸出部204x的區(qū)域中，后壁206x是彎曲的。這發(fā)生在大約7mm的距離上。
            
[0457]在敷抹裝置的上方使用中，應該避免的是，活性劑從敷抹空間回流到儲存空間中。為了阻止這種回流，一種回流阻擋部是優(yōu)選的，它阻止了活性劑從敷抹空間至儲存空間中的回流。優(yōu)選地，該回流阻擋部位于敷抹空間與儲存空間之間的一個過渡區(qū)中。
            
[0458]還優(yōu)選的是，回流阻擋部在對著例如間隙的敷抹空間和/或過渡空間一個表面上具有表面不規(guī)則。該表面不規(guī)則至少Imm深并能夠被設計成肋狀或點狀。與從敷抹空間至儲存部的流動方向相交的肋和/或疊瓦構造是特別優(yōu)選的。
            
[0459]這些特征在圖58·中被示例顯示。回流阻擋部208?包括若干傾斜因而交向的肋，它們在敷抹空間12w與儲存空間IOw之間的中介空間14w中以某種疊瓦構造設置。這些肋是交向的肋，因為它們除了是傾斜的以外，還與從敷抹空間12w至儲存空間IOw的流動方向交向地取向。為了明確，在圖58中還顯示了，這樣的交向肋可被設置在上壁148w和/或下壁150?上，即直接在敷抹空間12w中。這些肋此時優(yōu)選地不掩蓋間隙，而只位于齒上并從齒與間隙平面平行地伸出到敷抹空間中。
            
[0460]優(yōu)選地，回流阻擋部具有一個斷開約束，它促進在敷抹空間處的具有抽吸效果的一部分活性劑的斷開。優(yōu)選地，該斷開約束位于儲存空間與敷抹空間之間的一個過渡空間中。在圖58中，這樣的一個窄位置或斷開約束被顯示在在兩側伸出到中介空間中最遠的疊瓦構造上。從一定的粘度開始，從敷抹空間流入儲存空間的活性劑的的斷開是所希望的，從而剩在敷抹空間中的活性劑不被回流到儲存空間中的活性劑所吸掉。
            
[0461]前述的間隙是從前到后和從上到下的水平間隙，它們因此處于一個平面中，尤其各橫向間隙表面位于一個平面中。進一步地，間隙與支撐表面垂直。
            
[0462]然而，為了阻止毛發(fā)從間隙掉落，優(yōu)選的是，間隙相對支撐表面尤其是還相對儲存部的橫向表面傾斜。這在圖67中被示例顯示。間隙24aa相對支撐表面的法線傾斜了 12°。特別優(yōu)選的是相對法線8°與25°之間的傾斜。被引入傾斜間隙的毛發(fā)傾向于倒向傾斜的方向，從而毛發(fā)此時不再沿著間隙方向定位因而更牢固地被保持在間隙中。
            
[0463]在本發(fā)明的一個進一步的優(yōu)選實施例中，間隙從頂部向下和/或從前部向后部彎曲。該實施例的一個例子在圖68中顯示。間隙24ab的方向從前部向后部振蕩。沿著從頂部向底部的方向，它們被設計在一條直線上，從而毛發(fā)可沿著直線引導通過間隙，其結果是間隙中的摩擦阻力保持在低水平。
            
[0464]特別優(yōu)選的是，間隙具有一個捕獲彎曲部，尤其是在其后部。由此，毛發(fā)可被特別穩(wěn)定地保持在一個捕獲區(qū)中，間隙的該捕獲區(qū)可在捕獲彎曲部之后延伸。在捕獲區(qū)中的齒有利地通過敷抹空間的最大通過長度，即通過了敷抹空間從頂部至底部的最長區(qū)。
            
[0465]該彎曲部不一定是明晰的，如圖68中示例顯示的。間隙24ac在它們的后半部中彎曲，雙重振蕩從而捕獲區(qū)228位于最后的三分之一，它直線向后延伸，也許有些傾斜，但這不是必需的。位于捕獲區(qū)228中的毛發(fā)被特別牢固地保持而不會掉出或滑出間隙24ac。
            
[0466]圖69顯示了帶有兩個間隙組的一個強調器。兩個組的間隙形狀是同樣的，然而，一個組中的間隙被設置成另一組中的間隙的鏡象。由此，在敷抹中敷抹裝置發(fā)生不希望的橫向偏移時，這樣的偏移可被抵消。該鏡象產生于與敷抹裝置的主方向平行設置的從前到后的一個鏡表面。
            
[0467]間隙出口
            
[0468]如圖39所示，在后部的間隙24r的下側可在沒有進入下支撐表面36的過渡的情況下結束，從而支撐表面36形成了一個平滑而連續(xù)的表面。然而，根據(jù)敷抹裝置的應用和不同的活性劑的使用，優(yōu)選的是，該間隙在位于其下后端的一個腔中結束。由此，可以區(qū)分兩種基本且不同的實施例。一個單個的間隙結束于一個腔中，從而每一個下后部的間隙出口都有一個腔。這在圖61和62中被不例顯不。在另一實施例中，多個后下間隙結束于一個單個的腔中，該腔因而起著匯集腔的作用。這在圖44、45和63中被示例顯示。第一個實施例特別適用于大理石花紋施加，即對大量毛發(fā)中的一小部分進行染色，第二個實施例特別適合于對包括比較大量的相鄰毛發(fā)的單個縷進行染色。
            
[0469]尤其對于第一個實施例，優(yōu)選的是間隙的后間隙出口加寬成一個腔。這在圖61和62中被示例顯示。一個大理石花紋施加設備的五個間隙24z各自分別結束于在它們的間隙出口 168z處的腔210z中，從而在帶有后出口 168z的各腔210z中只有一個間隙24z結束。然而，該腔不一定在敷抹器的下支撐表面上具有一個凹槽。圖44顯示了四個間隙24t是如何分別結束于由兩個墊片212t形成的一個單個的腔210中的。在圖43中所示的示例性實施例中，雖然腔210也降到了支撐表面36t中-這在圖38中可見，但這不是必需的。腔210t只由墊片212t形成，就足夠了。結合圖38、44和45，描述了墊片212t是引導和集束退出間隙24t的毛發(fā)的導向表面174t。這是一個特殊的實施例且不是必需的。墊片212t也可以距離間隙24t這樣的距離，即:它們不具有引導功能而只有腔形成功能。
            
[0470]優(yōu)選地，腔的寬度隨著離開間隙出口的距離的加大而加大。另外，優(yōu)選的是，腔的深度隨著離開間隙出口的距離的加大而減小。在圖61和62中可見這兩個細節(jié)。
            
[0471]為了避免活性劑在后間隙出口 168中的脫離，優(yōu)選的是在間隙出口處的間隙在進入腔中的一個連續(xù)加寬部分中結束。因此，可避免在間隙出口處的一個脫離邊緣。在圖62中示例顯示了這種實施例的一個例子。在間隙出口 168z，間隙24z的一個半徑214z加寬了至少5mm，從而形成了從間隙24z到腔210z中的一個非常柔和和連續(xù)的過渡。
            
[0472]尤其對于第二個實施例，優(yōu)選的是，墊片被設置在敷抹器的下側，從而在敷抹器在例如頭皮的纖維基底上進行接觸時，后間隙出口離纖維基底的距離是至少0.5mm，尤其是至少1.5_。由此，尤其對于第二個實施例，從間隙退出的毛發(fā)能夠在退出間隙出口之后被集束，而不在纖維基底與支撐表面之間被擠壓。優(yōu)選地，該墊片被設置在間隙出口周圍的兩側上。
            
[0473]還優(yōu)選的是，墊片是從敷抹器的支撐表面向下伸出的墊片導向器。
            
[0474]當墊片向著后部會聚時，能夠實現(xiàn)被活性劑潤濕的、退出間隙出口的毛發(fā)的良好集束。
            
[0475]優(yōu)選地，該墊片導向器形成了一個間隙，其中退出間隙出口并被引向后部的毛發(fā)能夠被集束。
            
[0476]還優(yōu)選的是，兩個墊片分別被設置在一組間隙出口的周圍兩側上。尤其是，在兩個這樣的組之間有一個沒有間隙的距離。
            
[0477]所有這些特征都可見于圖44、45和63中。四個間隙24t分別結束于腔210t中，腔210t的側面有起著導向元件174的作用的兩個墊片212t。墊片212t向著后部會聚，從而流出若干間隙24t的毛發(fā)在墊片212t之間被集束成一個縷。隨著腔210t向后部變得更為平坦，這種集束不僅沿著橫向發(fā)生，而且從頂部和底部發(fā)生-只要敷抹器接觸在例如頭皮的纖維基底上。
            
[0478]一般地，優(yōu)選的是，多個間隙出口結束于一個腔中，而在該腔中從間隙引導出的纖維被結合。尤其，腔是這樣形成的，即:來自若干間隙的纖維在腔中被結合成單個的縷。由此，能夠實現(xiàn)潤濕的毛發(fā)的捏合即使顏色分布或漂白劑的分布。另外，干燥被減慢，因而活性劑的所用持續(xù)時間被延長。進一步地，實現(xiàn)了這樣的優(yōu)點，即:潤濕和未潤濕的毛發(fā)或染色的和未染色的毛發(fā)的區(qū)分變得更容易，因為毛發(fā)被匯集成容易可見和潤濕的縷，并以容易被可視識別的方式被集束。
            
[0479]上述的本發(fā)明的某些細節(jié)可列出如下:敷抹裝置包括一個分離單元，該分離單元具有一個帶有至少兩個間隙的梳狀結構。間隙也可被描述為敷抹間隙。兩個間隙之間設置有至少一個分離元件，該分離元件被設計成例如齒形。至此，齒也可被描述為兩個間隙之間的分尚兀件。分尚兀件或齒優(yōu)選地由敷抹裝置的外殼的一部分形成，該外殼還尤其與分尚元件一起限定了敷抹空間。在分離元件之間形成的間隙優(yōu)選地過渡到該敷抹空間中。
            
[0480]特別優(yōu)選地，外殼包括在齒的至少一個區(qū)中的一個小于2mm的壁厚度。所有這些特征都被顯示在圖49和50的區(qū)域(3)中。
            
[0481]另外，優(yōu)選的是，其中壁厚度小于2mm的齒區(qū)域中的外殼形成了至少一個支撐表面，該支撐表面用于與由纖維材料構成的一個敷抹表面相接觸，該敷抹表面也可被描述為纖維基底。
            
[0482]特別優(yōu)選的是，外殼在支撐表面的至少一個區(qū)域中具有小于1.0mm的壁厚度。這些特征也見于圖49和50的示例性實施例中。
            
[0483]優(yōu)選地，在沿著一個敷抹方向的至少一個區(qū)域中，外殼壁的厚度減小。該敷抹方向是從后向前的一個方向，而敷抹器在敷抹期間沿著該方向移動。
            
[0484]為了阻止泄漏，優(yōu)選的是，間隙具有小于一個障礙寬度的寬度，而從該障礙寬度開始活性劑從敷抹間隙自動排放。優(yōu)選地，至少在支撐表面的一個區(qū)域中的間隙的寬度顯著地小于一個障礙寬度，而從該障礙寬度開始活性劑從間隙自動排放。
            
[0485]對于尺寸，優(yōu)選的是，至少一個齒具有小于4mm的平均寬度。另外，優(yōu)選的是，間隙分別具有一個大于4mm3并小于40mm3的單個間隙體積(染色體積)。由此，能夠與敷抹密封性相結合地獲得好的染色結果。
            
[0486]對于毛發(fā)在間隙中的良好導向，優(yōu)選的是，間隙具有一個基部表面，即尤其是包括與支撐表面的一個銳角的間隙基部。
            
[0487]為了限制活性劑從一個上壁的泄漏，優(yōu)選的是在上壁的至少一個敷抹間隙具有比沿著支撐表面更深的深度。這特別適用于上壁和下壁的最接近的相對點。因此，例如，在上壁上的任何點都可被指定，且在下壁上的相應點是下壁上與上壁上的該點最接近的那個點。
            
[0488]優(yōu)選地，頂側具有小于支撐表面上的平均曲率半徑的平均曲率半徑。
            
[0489]優(yōu)選的，支撐表面的平均曲率半徑和/或敷抹器的頂側的平均曲率半徑在15_與80mm之間尤其是20mm與65mm之間且特別優(yōu)選的是25mm與55mm之間的范圍內。
            
[0490]對于間隙出口，優(yōu)選的是，多個間隙分別在它們的間隙出口處結束于一個單個的腔中，該單個的腔優(yōu)選地被設計成支撐表面上的一個凹槽。纖維因此能夠被作為梳的齒端所展開并被分布到多個間隙中，并在退出時，即在已經被活性劑所潤濕之后，被結合成一個緊湊的縷。腔可包括集束毛發(fā)的引導表面。該引導表面可相對支撐表面移動、轉動或固定。如果它們是柔性的，一種被調節(jié)的設置能夠優(yōu)選地例如通過把引導表面夾持在一個部件上而得到鎖定。泵
            
[0491]一般地，儲存空間顯著地大于敷抹空間，以能夠提供足夠的活性劑，從而使一個人頭上的大量毛發(fā)能夠被活性劑所潤濕。這使得來自儲存空間的活性劑必須進入一個約束部分以達到敷抹空間。特別是在高粘度活性劑的情況下，這不會自動或單純通過重力實現(xiàn)。因此優(yōu)選的是，敷抹裝置具有用于把活性劑從儲存空間泵送到敷抹空間中的一個泵。
            
[0492]這種泵送使得在儲存空間中或儲存空間上的一個彈性元件被壓，從而加大了儲存空間中的壓強并由此驅動活性劑進入敷抹空間。由于儲存空間的通常顯著大于敷抹空間的尺寸，這樣的泵送難于控制泵送量，從而容易發(fā)生活性劑被泵送得太強并意外泄漏到了間隙以外。當泵被設置在儲存空間與敷抹空間之間時，這種問題能夠被克服。在此，泵送量可被設定在小的水平，從而例如在一個泵送沖程中相對小量的活性劑進入敷抹空間。意外的強泵送能夠容易地被阻止。
            
[0493]任何適當?shù)谋盟脱b置都可被采用。當泵具有產生泵輸出的一個泵元件，且該泵元件能夠通過活性劑移動時，能夠實現(xiàn)特別好的量控制和容易的生產。由此，優(yōu)選地實現(xiàn)了泵輸出，其中泵元件在通過活性劑移動的同時移動了至少一部分活性劑，且這些活性劑因為這種移動而被壓入敷抹空間。
            
[0494]在泵送期間，由于之前的移動而在泵元件之后產生了抽吸，這傾向于把活性劑再次抽吸到敷抹空間之外。當泵送是這樣進行時這種抽吸能夠被抵消，即:敷抹空間被保持在泵元件下方且儲存空間被保持在泵元件上方。雖然由于由于重力的作用和泵元件的運動而存在移動，抽吸被再次產生，一個總體上向下的泵送效果得到了產生，即進入敷抹空間的泵送效果。
            
[0495]當敷抹裝置在泵送期間被引導在一個圓周運動中從而離心力作用在活性劑上并驅動其向上時，泵送效果能夠被進一步加強。由此，敷抹裝置優(yōu)選地被保持在這樣的狀態(tài)，即:這種離心力在被泵元件在活性劑中的運動所加強或激勵的情況下，把活性劑驅動到儲存空間之外并進入到敷抹空間中。
            
[0496]為了實現(xiàn)好的泵送效果，優(yōu)選的是泵元件能夠沿著橫向方向前后運動。因此，它能夠與頭線平行地移動并因而沿著橫向取向的敷抹空間運動，并均勻地填充敷抹空間。
            
[0497]優(yōu)選地，敷抹裝置具有一個泵外殼，該泵外殼具有這樣的形狀，即:泵送輸出通過泵元件在該泵外殼中的前后運動來實現(xiàn)。
            
[0498]優(yōu)選地，該泵元件是一個球。一般地，該泵元件也可以是一個擺或被設計成另一種移動體積的物體，尤其該物體的運動所產生的振動也可得到利用。
            
[0499]還優(yōu)選的是，泵元件和泵外殼以這樣的方式彼此協(xié)調，即:泵元件能夠在泵外殼中滾動。
            
[0500]所有這些細節(jié)都在圖64至66中被示例顯示。所有這三個示例性實施例都具有泵216，泵216具有被設計成球的一個泵元件90。泵元件90h是一個金屬球，泵元件90t是一個陶瓷球，且泵元件90s具有表面不規(guī)則，且它至少象傳統(tǒng)的打印紙一樣不規(guī)則。泵元件90分別位于一個中介空間14中并能夠在一個泵引導部218上滾動，而后者具有彼此平行延伸的兩條導向軌220。
            
[0501]當設置有具有兩條導向軌的泵引導部時，優(yōu)選的是后導向軌小于前導向軌。由此，在后部區(qū)中能夠實現(xiàn)特別好的泵送輸出，由此活性劑能夠特別好地填充后部區(qū)。在帶有敷抹空間中的后部凸出部的敷抹器中，這是特別優(yōu)選的，因為大部分的活性劑得到了利用。
            
[0502]在圖65和64中顯示的示例性實施例中，泵元件90h在一個泵引導部218h上工作，而后者具有非常接近泵元件90的表面的一個比較大的表面。如果球90h運行在這樣的導向部上，大量的活性劑必須通過該球之下的一個小間隙移動，其結果摩擦力加大且阻力變得更高。當使用具有低粘度的活性劑時，這種設計是特別優(yōu)選的。由此能夠實現(xiàn)，泵元件在非常小的運動時不與外殼強行鄰接，而是傳遞一種導向的運動的作用。這對于感受泵送效果即泵送期間的觸覺，或者當敷抹裝置被移動時，是優(yōu)選的。另外，這種非常易受影響的和被制動的運動傳遞了用于正確地進行泵送的感覺。然而，最大的優(yōu)點是，由于加大的阻力，不會有太多的活性劑被過快地或急速地被泵送到敷抹空間中，且泵送的控制因而能夠以比泵元件90h力鄰接外殼時更顯著的感覺而得到進行。
            
[0503]相比之下，圖65中的泵引導部218t具有在一側的非常小的導向軌220t。一個小的導向軌不僅不限于一側，而且能夠在兩側上使用。當采用高粘度的活性劑時，這種實施例是特別優(yōu)選的。諸如圖64中顯示的一個實施例，當采用高粘度活性劑時，可能會有這樣的結果，即球不能在導向軌上正確滾動而是在泵引導部的附近在沒有導向的情況下通過活性劑滑動。因此，泵送輸出更加不受控制且降低。由于非常小的泵引導部220t，泵送阻力能夠被降低，從而泵元件90t能夠在感覺愉快的情況下可靠地運動，且活性劑的流量能夠被控制。
            
[0504]一般地，優(yōu)選的是，在這樣一種系統(tǒng)中，即:它具有至少兩個敷抹裝置-其中第一個被用于第一種活性劑且第二個被用于第二種活性劑，且第二種活性劑具有比第一種活性劑的粘度高至少20Pa*s的粘度，第二敷抹裝置具有一個泵引導部，后者具有比第一敷抹裝置的泵引導部的導向軌小的導向軌。
            
[0505]在圖64至66的所有三種示例性實施例中，泵元件90以這樣的方式被安裝，即:它能夠被從泵216中移去并自由地通過儲存空間10運動。這在圖66中用長箭頭顯示在儲存空間IOs中。
            
[0506]特別優(yōu)選的是，儲存空間周圍的外殼具有兩個嚙合的外殼元件，它們共同包圍儲存空間，從而向內側嚙合的外殼元件具有一個開口，該開口在這兩個外殼元件相對彼此的一個相應位置連接儲存空間與敷抹空間，且泵外殼被設計成使泵元件能夠在該開口中橫向滾動的形式。
            
[0507]優(yōu)選地,外殼沿著橫向圓化向外向著導向軌，從而在外殼中產生了 一個橫向切去部分，而泵元件能夠滾動到該切去部分中。這樣的一個切去部分222s在圖66中被示例顯示。以此方式，實現(xiàn)了泵元件90s的一個更大的橫向接觸弧，從而能夠實現(xiàn)好的泵送輸出。
            
[0508]優(yōu)選地，泵元件是具有至少2.5克/cm3的比重的元件。金屬是特別適合的。由于其高比重，能夠避免泵元件漂浮在活性劑上而使泵送輸出不足。優(yōu)選地，泵元件用陶瓷制成，尤其是玻璃陶瓷。由此，能夠以小而有效的成本和制造努力實現(xiàn)對腐蝕性的活性劑的非常好的化學可靠性。為了視覺的原因，玻璃陶瓷是特別優(yōu)選的。當活性劑在儲存部中被混合時，注意力不會太多被吸引到泵的運動上，操作者將更多地注意活性劑并觀測其混合，因為玻璃陶瓷是透明的因而不象金屬球那樣容易被觀測。因此，注意更集中在混合上，從而避免了不充分的混合。當泵元件具有至少0.3cm3的體積時，能夠實現(xiàn)好的泵送輸出。
            
[0509]為了實現(xiàn)良好的泵送輸出，優(yōu)選的是泵元件具有至少象傳統(tǒng)打印紙一樣粗糙的表面粗糙。為了簡化這樣的泵元件的制造，優(yōu)選的是，泵元件在一個基部基底上具有一種表面覆層該表面覆層可根據(jù)所希望的表面粗糙而得到調整。
            
[0510]在把活性劑敷抹到毛發(fā)上之前，通常需要在儲存空間中徹底混合活性劑。如果泵元件同時也是能夠自由通過儲存空間移動的混合元件，就可以去除額外的混合元件。優(yōu)選地，泵元件以這樣的方式相對儲存空間安裝，即:泵元件可從一個泵送位置以使它達到儲存空間的至少85%的方式移動。儲存空間的更窄的內邊緣因此以這樣的方式被設計，即:這些內邊緣構成了整個儲存空間的小于15%。
            
[0511]優(yōu)選地，以這樣的方式設置了一個泵引導部，即:該泵元件在兩側被該泵引導部所導向并能夠在該泵引導部上滾動。尤其，該泵引導部包括兩個平行的導向軌。
            
[0512]當泵引導部允許泵元件從儲存空間的一側一直到儲存空間的相對一側的滾動運動時，能夠實現(xiàn)好的泵送輸出。
            
[0513]優(yōu)選地，儲存空間包括形成一個泵空間的一個切去部分，從而泵元件能夠以這樣的方式被設計，即:當泵被激活時活性劑被推出該泵空間并進入敷抹空間。或者，也可以是泵空間被設置在儲存空間和敷抹空間之間的一個中介空間或過渡空間中。優(yōu)選地，一個泵引導部被設置在該切去部分中。在圖64中用虛線示例顯示了泵空間226的輪廓。
            
[0514]當泵引導部和泵元件以這樣的方式彼此協(xié)調時，有助于獲得好的泵送輸出，S卩:在導向部上滾動的泵元件至少主要被設置在切去部分中，即至少其體積的50%被設置在切去部分中。
            
[0515]還優(yōu)選的是，導向部由儲存空間與敷抹空間之間的一個分離元件形成。該分離元件優(yōu)選地形成了敷抹空間與儲存空間之間的一個束緊部分。由于泵元件在分離元件上的位置，它只對泵送效果有不顯著的影響，因此避免了不希望的回流。
            
[0516]優(yōu)選的是，特別是在具有高粘度的活性劑的情況下，泵引導部由從儲存空間至切去部分的過渡部分中的至少一個邊緣形成。該邊緣224s在圖66中被示例顯示。泵元件90s因而可以是這樣的，即:它足夠大以致能夠在彼此相對的兩個邊緣224s上滾動。泵元件90因而顯著地大于圖66中顯示的情況。
            
[0517]對敷抹裝置的可管理性有利的是，泵引導部相對齒端的方向成至少60°尤其至少80°的角度。特別有利的是與敷抹器的頭線的平行設置。
            
[0518]當儲存空間是至少基本柱形且泵引導部與柱形的軸線平行延伸時，操作者能夠特別容易地進行泵送運動。
            
[0519]優(yōu)選地，在儲存空間與敷抹空間之間設置有一個泵空間，從而泵被以這樣的方式設計，即在泵送運動時，泵空間中的內容至少部分地被壓入到敷抹空間中。優(yōu)選的是，泵空間沿著敷抹空間的方向變小。另外，優(yōu)選的是，泵空間的兩側以導向部為邊界，而泵元件在該導向部上滾動。泵空間可被描述為這樣的空間，即:泵元件以對著敷抹空間的部分滾動通過該空間。在一個球的情況下，它是將在泵引導部上的前后滑動中通過的空間，而半球將向著敷抹空間。
            
[0520]還優(yōu)選的是，泵空間被一個凹進彎曲的前壁和一個凹進彎曲的后壁所限定。優(yōu)選地，這兩個壁在儲存空間與敷抹空間之間。
            
[0521]還優(yōu)選的是，泵空間具有直線的形狀和一直恒定的泵輪廓。
            
[0522]對于敷抹裝置在敷抹密封性下的好的可敷抹性，優(yōu)選的是，敷抹空間隨著至泵的距離的加大而變平坦。在有同樣優(yōu)點的情況下，間隙的壁厚度隨著至泵的距離的加大而變
            
得更薄。
            
[0523]另外且可替換地，其他的泵送機制也是優(yōu)選的。因此，能夠提供儲存空間與敷抹空間之間的一個連接通道，尤其是在利用儲存空間的彈性變形的同時進行泵送時。該連接通道優(yōu)選地達到儲存空間與敷抹空間之間的一個過渡空間內至少3mm。
            
[0524]這在圖70的例子中得到了顯示。連接通道230ad在過渡空間中的出口在過渡空間的最大上內高度以下。由此，可在敷抹空間12ad之上產生一個空氣空間。該空氣空間優(yōu)選地大于被一次且有意的手動泵送運動移過連接通道230ad的空間，優(yōu)選的是至少是其兩倍大。在此方向信息“之上”與被保持向下尤其是以齒端形成敷抹裝置2ad的最低點的方式保持向下的一個敷抹器有關。一般地，圓的橫截面形狀是優(yōu)選的，但是諸如矩形或槽形的其他橫截面形狀也是可行的。
            
[0525]圖70顯示了一個敷抹裝置2ad和其通過一個連接通道230ad與敷抹空間12ad連通的儲存空間IOad的相應實施例。圍繞儲存空間IOad的外殼單元是彈性的，從而可利用手動力對它加壓?；蛘?，例如一個泵球的泵元件可被設置，它通過擠壓和空間移動產生泵送。被ION的手動力所移位的空間優(yōu)選地小于2ml，尤其小于1.5ml，且特別優(yōu)選地是在3ml與0.2ml之間。類似可行的是通過利用附加的空間移動部件而手動或電動地造成移位。
            
[0526]敷抹空間12ad的填充高度由連接通道230ad至敷抹器8ad中的穿入深度確定。當儲存空間IOad被釋放時，在連接通道230ad上方的敷抹劑被拉回到儲存空間IOad中。按照從頭線至用于連接頻道至最遠的敷抹空間的開口測量，敷抹空間的最大填充高度優(yōu)選地是小于35mm且尤其優(yōu)選地是在20mm和60mm之間。
            
[0527]原則上，與敷抹劑的粘度適配的儲存空間IOad也可以以之上已經描述的硬的方式實施。此時是重力使敷抹裝置退出。因為當敷抹空間12ad被過度填充時儲存空間IOad不再通過連接通道230ad通氣，敷抹空間12ad的過度填充被防止。[0528]本發(fā)明的另一細節(jié)是儲存空間與敷抹空間之間的連接通道的配置。該通道的體積被選擇為小得足以使一個排放沖程的量大于連接通道的體積。這樣的效果是，在排放期間，敷抹劑被可靠地從儲存部傳送到敷抹空間中。原則上，可設置多個連接通道，例如為了實現(xiàn)敷抹劑在敷抹空間中的改善的分配。
            
[0529]連接通道的體積或連接通道的累計體積優(yōu)選地小于300mm3，尤其小于100mm3，且特別優(yōu)選地是在Imm3與IOOmm3之間。單個或多個連接通道的最小通孔被這樣選定，即:在敷抹劑的給定粘度，由于敷抹空間關閉了通孔且儲存空間不能通過連接通道通氣，敷抹劑沒有進入敷抹空間的獨立流出，或者這種獨立流出只是很小。單個或多個連接通道的通孔優(yōu)選地小于30mm2，尤其優(yōu)選地小于20mm2，且特別優(yōu)選地是在Imm2與20mm2之間。
            
[0530]特別優(yōu)選的是，在過渡空間中在連接通道的下端上方提供有例如圖70所示的通氣開口 232ad的一或多個通氣開口。這能夠實現(xiàn)的是，當敷抹劑被從儲存空間送到敷抹空間時，在敷抹空間中不產生內部壓力。
            
[0531]通氣開口的總開口寬度優(yōu)選地大于0.5mm2,尤其優(yōu)選地大于1mm2，且特別優(yōu)選地是在0.5mm2與3_2之間?？赡艿拈_口的內部寬度或直徑受到限制，從而時敷抹器在使用期間傾斜時活性劑不通過通氣開口排出。被顯示為可插入該開口的一個柱形體的直徑的一或多個通氣開口的最大寬度優(yōu)選地小于1.5_，尤其優(yōu)選地小于1_，且特別優(yōu)選地是在0.0 Imm 與 3mm 之間。
            
[0532]采用儲存空間在敷抹空間的上方的上述設置，以及在活性劑上方產生一個空氣空間的、在儲存空間中的活性劑與在敷抹空間中的活性劑之間的連接通道的設置，且尤其是采用通氣開口，儲存空間中的體積移動和使活性劑被送進到敷抹空間中的重力，以及位于直到連接通道的排放開口或其上方的過量敷抹劑的釋放運動和相關的儲存空間中的體積增大，可被汲取到儲存空間中。原則上，采用被止回閥打開和關閉的兩個單獨的連接通道，也可以實現(xiàn)釋放期間的過量敷抹劑的填充和汲取。
            
[0533]這在敷抹空間中產生了大的恒定填充量，而不在填充期間產生過度的壓力。
            
[0534]在圖70中，通氣開口 232d被加到敷抹空間的上方，以防止在敷抹空間中的壓力積累。采用的設置是，在使用期間活性劑一般不掩蓋它。
            
[0535]圖71顯示了敷抹裝置2ae的另一實施例，其中只顯示了敷抹器8ae。在此情況下，敷抹器8ae能夠通過一個螺線連接部分234ae與儲存空間的外殼單元相耦合?；蛘撸渌愋偷倪B接也是可能的，諸如接合銷釘插接接合或扣合連接。
            
[0536]圖4顯示了另一實施例，在此情況下，只顯示了外殼單元敷抹空間32b。在此情況下，外殼單元敷抹空間可利用一種螺線連接部分與外殼單元儲存空間耦合。在此情況下連接通道被這樣設計，即:連接通道的體積小于被泵元件的致動所移動或被瓶子的擠壓所移動的體積。這樣所實現(xiàn)的是，連接通道中的空氣被壓出且敷抹劑可被送進。橫截面表面面積被這樣選定，即:敷抹劑的獨立退出被阻止且空氣不能進入儲存空間/瓶子且由于所形成的真空沒有什么能夠逃脫。
            
[0537]在本發(fā)明的一個附加的優(yōu)選實施例中，敷抹器具有一個梳狀結構，該梳狀結構具有至少兩個間隙和設置在該至少兩個間隙之間的、以齒的形式實施的至少一個分離元件；外殼的至少一部分實施了該至少一個分離元件并限定了該至少兩個間隙所過渡到的敷抹空間。[0538]也可被稱為外殼單元的外殼，優(yōu)選地具有所述至少一個齒的至少一個區(qū)域，其中該至少一個區(qū)域的壁厚度小于2.0mm。采用這樣的實施例可以提供一種外殼，借助該外殼能夠實現(xiàn)活性劑的特別優(yōu)選的潤濕，尤其是可以利用外殼的該壁厚度來保證毛發(fā)或纖維狀材料在它們的幾乎整個長度上都被活性劑所潤濕?；钚詣┛梢允且后w、糊、或粉末劑，特別是用于敷抹到毛發(fā)上的毛發(fā)染色劑、毛發(fā)護理劑、毛發(fā)光澤劑、分散劑、結構改變劑和/或藥用毛發(fā)護理劑?；钚詣┰瓌t上可是單成分劑或多成分劑?！皢纬煞謩敝傅氖谴鎯υ趦Υ嫒萜髦写玫膭??！岸喑煞謩敝傅氖瞧渲性谑┘又爸辽僖粋€成分被加到另一成分中的劑，特別是一種劑，其具有兩個單獨存儲的成分，這兩種成分將要被混合以用于指定的用途?！伴g隙”尤其指的是用于匯集將要被施加活性劑的毛發(fā)的兩個齒之間的一個中介空間。為了產生該間隙，敷抹器優(yōu)選地具有多個齒，多數(shù)齒包括至少一個端部，這些端部限定了梳狀結構的尖銳部分。
            
[0539]“敷抹空間”尤其指的是容納和存儲活性劑的空間，且從該空間活性劑被直接施加到毛發(fā)或其他纖維狀材料上。在此，“過渡”尤其指的是間隙的至少一部分以敷抹空間的一部分的形式實施，從而使加到敷抹空間的活性劑填充了該間隙。敷抹空間的尺寸優(yōu)選地為至少I毫米且特別優(yōu)選地是若干毫米。進一步地，“至少一個齒的范圍內的壁厚度”指的是毛發(fā)的一個壁厚度，該壁厚度具有毛發(fā)被匯集到其中的敷抹器的區(qū)域的外殼。“設置”尤其指的是專門的編程、裝備和/或設計。
            
[0540]進一步建議的是,在其中壁厚度小于2.0mm的至少一個區(qū)域中，夕卜殼實現(xiàn)了至少一個接觸表面，該至少一個接觸表面用于支撐在具有纖維狀材料的一個敷抹表面上。特別是在毛發(fā)上的使用期間，這能夠實現(xiàn)延伸至根部的特別優(yōu)選的潤濕?！敖佑|表面”尤其指的是外殼的一個表面區(qū)，在敷抹裝置在例如是頭皮的敷抹表面上的適當使用期間該表面區(qū)位于一個平面中。原則上，接觸表面可以具有溝槽，以節(jié)省塑料。在這種情況下，接觸表面應該構成結構表面的一種包絡表面。對于接觸表面的該區(qū)中的“小于2.0mm的壁厚度”,原則上它應該被理解為由外殼實現(xiàn)的敷抹空間的壁具有這種壁厚度，至少在其中該壁實現(xiàn)了敷抹表面的一個區(qū)中是這樣。描述中帶有長度單位的尺寸在此和之后應該具有一個精度，其中最后一位有最多I點的偏離，即2.0應該是2.0±0.1。
            
[0541]在一個優(yōu)選實施例中，在至少一個區(qū)域中外殼具有沿著使用方向減小的壁厚度。這使得可以實現(xiàn)特別優(yōu)選的潤濕。“使用方向”尤其指的是敷抹裝置在使用期間沿著它被導向的方向。間隙優(yōu)選地沿著使用方向開放，即，使用方向優(yōu)選地借助間隙的一個基線而向著間隙的一個頭線取向?！邦^線”尤其指的是把相鄰的端部彼此連接的一條虛連接線。“基線”尤其指的是相鄰的間隙的終結點之間的一條連接線。
            
[0542]在一個特別優(yōu)選的實施例中,在接觸表面的至少一個區(qū)域中,夕卜殼具有小于1.0_的壁厚度。這能夠改善潤濕。外殼的該壁厚度優(yōu)選地只在某些區(qū)域中小于1.0_，而在其他區(qū)域中大于1.0mm。
            
[0543]還建議的是，間隙具有小于一個障礙寬度的一個結構寬度，在該障礙寬度活性劑獨立地從間隙逃脫。這能夠避免活性劑的連續(xù)的不希望的逃脫，從而使敷抹裝置的工作變得特別簡單。尤其是，這能夠避免過量的活性劑被施加到頭皮上，這優(yōu)選地能夠減小頭皮受到的活性劑的毒性影響，尤其可減小至幾乎零?！伴g隙寬度”尤其指的是齒的兩個相對的壁之間的距離，即各個齒所具有的距離?！罢系K寬度”尤其指的是一種間隙寬度，它使得在相應位置的一個間隙，在對應于5cm的活性劑的液體柱的壓強下，沒有從該間隙逃脫的活性劑。活性劑在間隙的壁之間的一個區(qū)域中優(yōu)選地因此只是部分地穿過小于該子區(qū)域中的壁厚度的90%的一個穿過深度。
            
[0544]障礙寬度因此尤其是間隙的結構特征的一個函數(shù)，該結構特征諸如間隙幾何參數(shù)、壁厚度、橫向表面相對彼此的設置、邊緣輪廓、間隙寬度、表面質量、等等，以及活性劑的性質，諸如附著力、粘著力、摩擦力、粘度、毛細現(xiàn)象力、流動阻力、壓強、流和/或溫度。因而間隙的結構寬度與用于敷抹裝置的活性劑相適配，從而間隙的結構寬度小于所述障礙寬度。根據(jù)所用的活性劑，間隙可具有不同的間隙寬度。原則上，也可以為分離設備設置一個調節(jié)元件，用于調節(jié)間隙寬度和/或間隙的打開寬度。
            
[0545]特別優(yōu)選的是，至少在接觸表面的一個區(qū)域中，間隙的寬度顯著小于障礙寬度。這能夠實現(xiàn)的是，在壁區(qū)域的此子區(qū)域中的間隙只是部分地被活性劑填充，從而可以非?？煽康胤乐够钚詣┑奶用??！帮@著”尤其指的是在接觸的一個區(qū)域中活性劑只是在一定程度上穿入到間隙的壁之間的一個區(qū)域中，穿入深度小于壁厚度的70%，尤其是小于壁厚度的60%，且特別優(yōu)選地是可以壁厚度的50%。
            
[0546]還建議的是，至少一個齒具有小于4mm的平均寬度。以此方式，可以一種敷抹裝置，它優(yōu)選地覆蓋了大量的毛發(fā)。“寬度”尤其指的是一個單個的齒沿著與一個橫向延伸相平行的一個方向的尺寸，且“平均寬度指的是在單個齒的一個長度上被平均的一個寬度。該至少一個齒的寬度在0.2至4.0mm的范圍，優(yōu)選地是0.2至2.5mm的范圍，且特別優(yōu)選地是0.2至2.0mm的范圍。至少一個齒的高度，特別是在頭線的區(qū)域中，優(yōu)選地小于1_。在頭線的區(qū)域中，齒優(yōu)選地具有小于3mm2的橫截面表面面積，尤其優(yōu)選地是小于1mm2，且特別優(yōu)選地是小于0.5mm2。“在頭線的區(qū)域中”尤其指的是在頭線與位于頭線之后0.5mm的一個橫截面平面之間的區(qū)域。單個齒的長度，即頭線與基線之間的距離，優(yōu)選地大于10mm，尤其優(yōu)選地大于15,且特別優(yōu)選地在15mm與40mm之間。
            
[0547]還建議的是，間隙具有大于4mm3且小于40mm3的間隙空間。這使得可以實現(xiàn)特別優(yōu)選的染色，特別是對毛發(fā)。“單個間隙空間”尤其指的是處于兩個相對的齒之間的敷抹空間的一個子空間。一個間隙的該單個間隙空間因而尤其是其中加到間隙的毛發(fā)或其他材料可自由運動的間隙子空間。該單個間隙空間優(yōu)選地小于40mm3，更優(yōu)選地是在7mm3至35mm3，且特別優(yōu)選地是在IOmm3至30mm3。
            
[0548]接觸表面優(yōu)選地在沿著一個敷抹方向的至少一個區(qū)域中是凸的。因為，敷抹裝置能夠沿著敷抹表面被簡單地導向。
            
[0549]在一個特別優(yōu)選的實施例中，間隙具有一個基部表面，該基部表面與接觸表面形成一個銳角。這尤其能夠實現(xiàn)的是，當敷抹裝置并引導通過毛發(fā)時，毛發(fā)能夠向著敷抹表面運動，從而尤其保證了活性劑能夠可靠地敷抹。一個間隙的“基部表面”尤其指的是其中間隙的深度受到限制的一個表面區(qū)，即限定了毛發(fā)至間隙中的一個最大插入深度的一個表面區(qū)?！敖佑|表面與基部表面之間的一個銳角”尤其指的是由間隙的基部表面與外殼的接觸表面形成的小于90度的一個角度。
            
[0550]外殼優(yōu)選地具有一個頂側，該頂側背對接觸表面并沿著至少一個間隙具有比沿著接觸表面小的深度。這使得基部向著使用方向傾斜，從而能夠實現(xiàn)在毛發(fā)中特別優(yōu)選的通過?！伴g隙沿著底側或頂側的深度”尤其指的是間隙沿著頂側或底側所具有的基線與共同頭線之間的距離。原則上，外殼能夠以多個部分的形式實施。
            
[0551]還建議的是，外殼的頂側具有比接觸表面的平均曲率半徑小的一個平均曲率半徑。這能夠實現(xiàn)的是，齒向著使用方向漸細且敷抹裝置特別容易操作。接觸表面的平均曲率半徑和/或頂側的平均曲率半徑優(yōu)選地是在15mm與80mm之間的一個范圍內，尤其優(yōu)選地是在20mm與65mm之間的一個范圍內，且特別優(yōu)選地是在25mm與55mm之間的一個范圍內。
            
[0552]還優(yōu)選的是，至少某些間隙在至少一個操作模式下具有不同的平均深度。這能夠實現(xiàn)的是，能夠為不同的毛發(fā)得到不同的顏色，從而在總體上能夠得到更均勻的顏色外觀?！捌骄疃取庇绕渲傅氖窃谥辽僖粋€間隙的整個高度上平均的深度。
            
[0553]還建議的是一種毛發(fā)根部染色器，它具有帶有一個敷抹器的一個敷抹裝置，該敷抹器具有一個梳狀結構，后者具有至少兩個間隙和設置在該至少兩個間隙之間的至少一個齒，并具有限定了至少一個敷抹空間的一個外殼，所述至少兩個間隙過渡到該至少一個敷抹空間中，且該外殼實現(xiàn)了至少一個接觸表面，該接觸表面用于被置于一個具有纖維狀材料的敷抹表面上，該外殼尤其是帶有一個本發(fā)明的敷抹裝置。
            
[0554]本發(fā)明的這些細節(jié)被顯示在圖74和75中。
            
[0555]圖74是本發(fā)明的一個敷抹裝置2af，它被作為毛發(fā)根部染色器并具有用于把活性劑敷抹到毛發(fā)上的一個敷抹器。該敷抹裝置適合私人使用和專業(yè)使用。各種不同的活性劑，諸如毛發(fā)染色劑、毛發(fā)護理劑、毛發(fā)光澤劑、分散劑、結構改性劑和/或藥用毛發(fā)護理劑，可借助這種敷抹裝置被敷抹到毛發(fā)上。該敷抹裝置尤其被用于人的頭發(fā)上。在本應用中，活性劑具有毛發(fā)染色劑的形式。“毛發(fā)染色劑”指的是所有用于改變毛發(fā)的色調的活性劑，尤其是諸如還永久的毛發(fā)染色劑。該敷抹裝置不限于用于頭發(fā)。雖然在以下示例性實施例中所描述的使用是在頭皮上，它也可被用于任何敷抹表面上的任何所希望的纖維狀和/或毛發(fā)狀材料上。
            
[0556]敷抹裝置2af尤其是一種毛發(fā)染色劑敷抹裝置。該敷抹裝置被用于用活性劑對被引導通過它的毛發(fā)進行盡可能完全的潤濕。毛發(fā)根部染色器以一種全染色器的形式實施，這意味著基本上所有被置于梳結構內的毛發(fā)都被活性劑潤濕。該敷抹裝置用于用活性劑只潤濕根部區(qū)域中的毛發(fā)、毛發(fā)的某些長度范圍內的部分、或毛發(fā)的整個長度范圍內的部分。該敷抹裝置同時防止了頭皮被活性劑潤濕。從頭皮開始的、其中外殼沒有被處理的長度小于 Imnin
            
[0557]為了分離毛發(fā)和為了施加活性劑，敷抹裝置2af包括一個具有梳狀結構的敷抹器8af。敷抹器8af包括多個間隙24af和多個齒22af。齒22af每一個都被設置在兩個相鄰的間隙24af之間。敷抹裝置2af進一步包括實施了敷抹器8af的一個外殼4af。外殼4af限定了間隙24af過渡到其中的敷抹空間12af。外殼4af還實施了用于與敷抹表面相接觸的一個接觸表面36af，而在本示例性實施例中該敷抹表面是頭皮。原則上，本發(fā)明的敷抹裝置2af可被用于把幾乎任何所希望的液體或糊狀活性劑敷抹到敷抹表面上的任何所希望的纖維狀或毛發(fā)狀材料上。
            
[0558]敷抹裝置2af具有一個敷抹方向246，當活性劑被敷抹時該敷抹裝置沿著該方向通過毛發(fā)。敷抹器8af的齒22af實施了梳狀結構。齒22af具有與敷抹方向246大體平行的一個主延伸方向。齒22af沿著與敷抹方向246垂直的一個橫向延伸部分248a彼此相鄰的設置。
            
[0559]敷抹器8af進一步包括兩個外邊緣元件250af，后者只限定了在一側上的間隙24af之一。齒22af沿著橫向延伸18a被設置在兩個邊緣元件250af之間。該兩個邊緣元件250af每一個都具有一個側翼，該側翼沿著橫向限定了最外的兩個間隙24a中的一個。齒22af每一個都包括兩個側翼，每一個側翼沿著橫向限定兩個相鄰的間隙24af。在本示例性實施例中，齒22af的側翼和邊緣元件250af幾乎與敷抹方向246平行地延伸。但原則上，間隙寬度也可以在它們的范圍中變化，或者對于不同的間隙24af是不同。類似地，齒22af的寬度可以變化。在邊緣元件250af和齒22af沿著橫向延伸18a的排列中，齒22af的側翼成對地彼此相對，即相鄰的邊緣元件250af或齒22af的側翼對著齒22af之一或邊緣元件250af之一的側翼。原則上，齒的側翼也可以以非平行的方式實施。這使得可以影響障礙寬度和影響各個間隙24af匯集和/或引導毛發(fā)的方式。另外，當例如頂側的間隙輪廓相對于底側的間隙輪廓交叉時，通過毛發(fā)的沖程可受到影響。
            
[0560]齒22af的相對的側翼(以下描述中邊緣元件250af應該被包括在其中)各跨越一個中介空間。被相對的側翼對所跨越的中介空間形成了間隙24af。由齒22af所形成的所有間隙24af都從共同的頭線30開始。然而在原則上，某些間隙24af也可以不從共同的頭線30開始或者不終結于一條共同的基線。為了實現(xiàn)更均勻的毛發(fā)色調，間隙24af終結于不同的基線252af、254af。在所描述的示例性實施例中，間隙24af終結于彼此平行并偏移的兩條不同基線252af、254af。但原則上，敷抹裝置2af也可以具有三或更多基線。
            
[0561]因此，從頭線30開始，間隙24af具有至少一個不同的長度。敷抹裝置2af尤其可以具有用于調節(jié)間隙24af的長度的一個調節(jié)單元。不論敷抹裝置2af的設計的其余部分如何，原則上都可以具有這樣的設計，即:所有間隙24af的長度都相等。調節(jié)單元此時可被用來同時改變所有間隙24af的長度。然而，調節(jié)單元也可被用來只改變某些間隙24af的長度，以例如有選擇地設定間隙24af的相同或不同長度。
            
[0562]間隙24af沿著由外殼4af的一個底側實施的接觸表面36af和沿著外殼4af的頂側40af具有不同的深度。間隙24af每一個都具有與接觸表面36af形成一個銳角的一個基部表面。當所有間隙24af都具有同樣長度時，間隙24af的基部表面可由一個單個表面描述，該單個表面具有等于敷抹器8af的寬度的寬度。該基部表面由基線252af、254af在外殼4af的底側上的路徑和基線252af、254af在相應的間隙24af的外殼4af的頂側40af上的路徑限定。各間隙24af的基部表面因而可被描述為這樣一個表面，即該表面基本上是毛發(fā)可通過到間隙24af中的最大深度。
            
[0563]從底側開始，間隙24af的基部表面向著敷抹方向246傾斜。間隙24af沿著頂側40af的長度比間隙沿著接觸表面36af的長度短。基部表面與接觸表面36af形成的銳角向著敷抹方向246開放。接觸表面36與基部表面形成的角度在大約20°至85°，優(yōu)選地25。至70°，特別優(yōu)選地35°至60°的范圍。
            
[0564]齒22af具有小于4mm且大于0.2mm的平均寬度。齒22af都具有基本上同樣的寬度。在一次通過中，齒22af每一個都用于對兩個相鄰間隙24af之一中的毛發(fā)進行導向，從而在使用中使設置在敷抹器8af的區(qū)域中的所有或幾乎所有毛發(fā)運動到間隙24af之一中。齒22af被實施為叉子齒狀并具有一個端部，該端部在毛發(fā)通過時分離它們并把它們移動到相鄰的間隙24af之一中。[0565]在所示的示例性實施例中，齒22af的寬度在其整個長度上大約是1.5mm，從而平均寬度也是大約1.5mm。一個適當?shù)膶挾仁切∮?.0mm,優(yōu)選地是小于2.5mm。1.8mm至
            
0.2mm的寬度是特別優(yōu)選的。齒22af被實施成只向頭線30的區(qū)域中的一個點漸細的形式。齒22af的高度或深度(它可由與接觸表面36af垂直的一條想象中的線定義)在齒22af的整個長度上連續(xù)增大。在頭線30的區(qū)域中，齒22af具有小于Imm的高度。在位于頭線30之后0.5mm的一個橫截面平面中，各具有大約0.6mm的高度和大約1.5mm的寬度的齒22af具有大約0.9mm2的橫截面表面面積。該橫截面表面面積向著頭線30減小。該橫截面表面面積向著基線252af、254af增大。在頭線上的這種橫截面表面面積尤其是小于3mm2，優(yōu)選地是小于1mm2，且特別優(yōu)選地是小于0.5mm2。
            
[0566]實施了接觸表面36af的底側，和外殼4af的頂側40af，一起在頭線30成一個銳角地延伸。實施了接觸表面36af的該底側用于被置于一個敷抹表面上，而在作為毛發(fā)敷抹裝置的一個設計中該敷抹表面是頭皮。頂側40af背對敷抹表面因而也背對接觸表面36af。接觸表面36af和頂側40部分地由齒22af實施。
            
[0567]間隙24af過渡到其中的敷抹空間12af部分地被由外殼4af所實施的齒22af所包圍，即齒22af形成了限定敷抹空間12af的一個壁的一部分。在此示例性實施例中，敷抹裝置只具有敷抹空間12af。但原則上，敷抹裝置也可包括多個敷抹空間，這些敷抹空間優(yōu)選地沿著橫向延伸部分248彼此相鄰地設置。齒22af只在對著頭線30的一個區(qū)域中限定了敷抹空間12并在該區(qū)域中形成了接觸表面36af的一部分。接觸表面36af的其余部分由外殼4af實施,且在該區(qū)域中外殼4af也實施了敷抹空間12af的壁的一部分。另外,敷抹空間12af被外殼4af的頂側40af所限定。至少在敷抹器8af和敷抹空間12af的區(qū)域中，外殼4af優(yōu)選地是用一種透明塑料整體制成的。但原則上，外殼4af的一種多部分設計也是可以的。
            
[0568]在該示例性實施例中，接觸表面36af和頂側40af至少在一些區(qū)域中是彎曲的。接觸表面36af是凸的。頂側40af是凹的。頂側40af的平均曲率半徑小于接觸表面36af的平均曲率半徑(即底側至少在接觸表面36af的區(qū)域中的平均曲率半徑)。接觸表面36af的平均曲率半徑是大約40mm。接觸表面36af也可在一些區(qū)域中是平的。接觸表面36af的平均曲率半徑大于頂側40af的平均曲率半徑。齒22af因此具有向著敷抹方向246向一點漸細的形狀。
            
[0569]在使用中，接觸表面36af被置于頭皮上，并在一種鉤針編織式的運動(即包括傾斜和直線運動的一種運動)中通過毛發(fā)。敷抹器8af因此在被引導通過間隙24af的毛發(fā)上施加一個張力。敷抹裝置2af沿著頭皮并借助接觸表面36af而得到引導。接觸表面36af的曲率限定了傾斜運動。
            
[0570]敷抹裝置的敷抹方向246由與接觸表面36af的切線限定。用戶可沿著沿敷抹方向246的敷抹表面沿著直線引導敷抹裝置?？偸潜挥米鲄⒄盏膬?yōu)選的敷抹方向246應該由與第一基線252af直接相鄰的接觸表面36af的一個區(qū)域建立。原則上，用能夠沿著與敷抹表面36af相切的任何所希望的方向，特別是根據(jù)所希望的結果顏色，對敷抹裝置進行導向。
            
[0571]在外殼4af內，敷抹空間12af尤其跨過一個區(qū)域延伸,其中在該區(qū)域中外殼4af實施了齒22af且在該區(qū)域中間隙24af因此也被設置。敷抹空間12af被實施為受到外殼4af跨越的一個空間，且在該空間中活性劑剛好在被敷抹到毛發(fā)之前被存儲。敷抹空間12af具有基本上等于敷抹器8af的寬度的一個寬度。但原則上，也可以有多個敷抹空間。敷抹空間12af由邊緣元件250af沿著橫向限定。由于間隙24af過渡到敷抹空間12af中，移動到間隙24af之一中的毛發(fā)也嚙合在敷抹空間12af中。
            
[0572]在與橫向延伸18a垂直地延伸的一個橫截面平面中，夕卜殼4af具有一個內輪廓,后者尤其在齒22af的區(qū)域中跟隨一個外輪廓。在齒22af的區(qū)域中，形成了敷抹空間12af的一個壁的外殼4af具有小于5.0mm的一個壁厚度。至少形成接觸表面36af的外殼4af的部分具有小于5.0mm的壁厚度。在此示例性實施例中的該壁厚度大于0.4mm。
            
[0573]從基線252af、254af向著頭線30，外殼4af具有不同的壁厚度。該壁厚度在基線252af、254af的區(qū)域中最厚，并沿向著頭線30的敷抹方向246連續(xù)減小。因而一個爬行距離，即活性劑為了從間隙24排出所必須覆蓋的距離，在基線252af、254af的該區(qū)域中大于在對著頭線30的齒22af的前端處。由于該壁厚度(它相對頭線30被擴大了)，間隙24af在基線252af、254af的區(qū)域中設定了比在齒22af的前端處更大的對活性劑的排出阻力。在基線252af、254af的區(qū)域中外殼4af的壁厚度是大約4.0mm0在頭線30的區(qū)域中該壁厚度小于1.00mm。在該示例性實施例中，最薄點處的壁厚度是0.44mm。原則上,小至薄膜厚度即幾微米的壁厚度是可行的。
            
[0574]外殼4af的限定了敷抹空間12af的內部輪廓基本上跟隨著外殼4af的外部輪廓。與底側一起限定了外殼4af的下部內部輪廓的部分是凹的。與頂側40af —起限定了外殼4af的頂部的該內部輪廓的部分是凸的。內部輪廓的該凸的部分具有比該內部輪廓的凹的部分大的曲率。敷抹空間12af具有一個橫截面，該橫截面的高度從基線252af、254af向著頭線30連續(xù)減小。外殼4af的壁厚度因而最大是大約5.0mm，尤其是在齒的區(qū)域中。
            
[0575]齒22af的側翼具有一種三角結構。從端部開始,每一個側翼具有一個也被稱為上腿的上壁和一個也被稱為下腿的下壁。該側翼的上腿形成了頂側40af。下腿形成了接觸表面36af。頂側40af和底側因此形成了敷抹空間12af的壁的一部分。運動到間隙24af中的毛發(fā)因此進入被齒22af部分包圍的敷抹空間12af。敷抹空間12af和間隙24af在一個區(qū)域中過渡到彼此中。其中間隙24af過渡到敷抹空間12af中的區(qū)域從頭線30之后的一個區(qū)域向基線252af、254af延伸。至少某些齒22af可被實施為空心元件。齒22af具有大約0.3mm的寬度。
            
[0576]在間隙24af的整個深度上，各間隙24af的一個有效間隙寬度小于1mm。間隙24af在頭線30處的開口寬度大于間隙寬度。在頭線30的區(qū)域中，該開口寬度連續(xù)過渡到該有效間隙寬度。相鄰的齒22af的相對側翼基本平行地延伸。在此示例性實施例中，間隙24af的可能間隙寬度在0.1mm與0.65mm之間，而在0.3mm至0.4mm的間隙寬度是特別優(yōu)選的。原則上，間隙寬度也可小于0.4mm。
            
[0577]間隙24af的深度是至少10mm。原則上，在IOmm至20mm的深度，可獲得毛發(fā)被活性劑的良好潤濕。對特別優(yōu)選的潤濕，所述示例性實施例中的該深度大于20mm。在此示例性實施例中，間隙24af的該深度是大約25mm并等于齒22沿著敷抹方向246的長度。間隙24af因此各具有大約15mm3至25mm3的單獨的間隙體積。
            
[0578]間隙24af的間隙寬度小于活性劑由于附著力而被阻止排出的障礙寬度?；钚詣┚哂性摳街υ斐傻谋砻鎻埩?。在其中間隙24af和敷抹空間12af彼此過渡的區(qū)域中，間隙24af的間隙寬度足夠地小，以致活性劑的諸如表面張力、附著、粘著的性質阻止了活性劑在不使用時尤其是敷抹中斷時從敷抹空間12af排出。
            
[0579]間隙24af的障礙寬度是間隙24af的結構設計尤其是外殼4af的壁厚度的函數(shù)。外殼4af在一個區(qū)域中的壁厚度越大，障礙寬度在該區(qū)域中也越大。外殼4af在頭線30的區(qū)域中在接觸表面36af上具有最薄的壁厚度。外殼4af的壁厚度沿著接觸表面36af向著基線252af、254af持續(xù)增大。間隙24af的間隙寬度大約等于頭線30的區(qū)域中的障礙寬度。毛發(fā)因此被潤濕至幾乎向下至頭皮處。在接觸表面36af的后部區(qū)域中，即在接近基線252af、254af的接觸表面區(qū)域中，敷抹間隙24af的寬度顯著地小于在頭線30附近處。因此，在基線252af、254af附近阻擋效果大于在頭線30的區(qū)域中。因此，在基線252af、254af中，毛發(fā)基本上在它們向著毛發(fā)端部的上部區(qū)域中被提供有活性劑。
            
[0580]敷抹空間12af只占據(jù)了被外殼4af所跨越的空間的一部分。除了敷抹空間12af，敷抹裝置還那種與敷抹空間12af連通的一個儲存空間IOaf。儲存空間IOaf占據(jù)了外殼4af的與敷抹器8af相鄰的一部分。外殼4af被儲存空間包圍的部分被配置成一個把手。該敷抹裝置用于單手使用。要使敷抹裝置通過毛發(fā)的使用者抓住外殼4af的設置有儲存空間IOaf的區(qū)域。儲存空間IOaf在20mL與大約IOOmL之間?？傮w上，本示例性實施例中的敷抹裝置用于保持大約30mL的活性劑。
            
[0581]外殼4af用尺寸穩(wěn)定的塑料材料制成。形狀穩(wěn)定的外殼4af在使用中防止了活性劑經過間隙24af而被壓出，特別是當外殼4af被使用者抓住時。外殼4af被實施為剛性的，至少在此區(qū)域中。
            
[0582]儲存空間IOaf和敷抹空間12af彼此脫離流體耦合，至少部分如此。在儲存空間IOaf與敷抹空間12af之間，設置有一個分離元件256af。在其中儲存空間IOaf與敷抹空間12af相鄰的區(qū)域中，該外殼的內部輪廓具有一個窄部，活性劑由于其附著力只能在一定條件下流過該窄部。在所述示例性實施例中，外殼4af的內部輪廓具有形成該窄部的兩個相對的臺肩。在此示例性實施例中，這兩個相對臺肩彼此相距大約5.0mm。
            
[0583]該窄部形成了一個通孔?；钚詣┠軌驈膬Υ婵臻gIOaf流過該通孔進入敷抹空間12af。在此示例性實施例中，該通孔具有一種縫狀形狀。與橫向延伸部分248相垂直地，該通孔具有與兩個臺肩之間的距離相應的一個延伸。與橫向延伸部分248平行地，該通孔具有一個延伸，該延伸顯著地長于上述與橫向延伸部分248垂直的延伸。通孔與橫向延伸部分248平行的延伸長于1cm。在所述示例性實施例中，它是大約2.5cm。原則上,該通孔也可具有不同的形狀。尤其它還可具有一種設計，其中有多個相鄰設置的通孔，例如鉆孔形式的通孔。
            
[0584]為了把活性劑從儲存空間IOaf送進到敷抹空間12af，或者至少為了支持敷抹空間12af的獨立填充，敷抹裝置包括一個泵單元216af。泵單元216af包括一個可運動的泵元件90af，用于至少在分離單元256af的區(qū)域中實現(xiàn)渦旋或振動。泵元件90af可運動地連接到儲存空間IOaf。泵元件90af被實施為一個球。該球的直徑大于通孔垂直于橫向延伸部分248的延伸。因此，泵元件90af不能通過通孔從儲存空間IOaf運動到敷抹空間12af。原則上，泵元件90af還可被實施成一個擺或不同的物體，它移位體積且它的運動所產生的振動可被利用。
            
[0585]泵元件90af可利用其自由移動性而被手動操作。泵元件90af利用外殼4af的例如搖動的運動而被移動。泵元件90af因此實施了一種混合元件。泵元件90af在儲存空間IOaf中的運動和/或振動激發(fā)了儲存空間IOaf中的一個渦旋流，該渦旋流混合了活性劑。泵元件90af被借助搖動使外殼運動的使用者所移動。因此，可以在外殼4af中進行混合過程，特別是多成分劑的混合過程。
            
[0586]可替換地，泵單元216af還可被實施成被驅動的形式。尤其，帶有一個電驅動部分的泵單元是可行的。進一步地，在敷抹空間12af中可設置一個附加的泵元件?？商鎿Q地，泵元件90af也可具有一個延伸部分,該延伸部分允許泵元件90af通過通孔進入敷抹空間12af ο
            
[0587]為了填充，外殼4af具有一個填充開口 44af且敷抹裝置具有一個關閉填充開口44af的關閉裝置46af。整個敷抹裝置是可再使用的，尤其關閉裝置46af可被使用多次。原則上，也可以把敷抹裝置的一部分或整個敷抹裝置配置成一次使用的產品。原則上，敷抹裝置可采用很多種填充方案。然而，也可以把敷抹裝置設計成不用填充的一次性產品。
            
[0588]填充開口 44af的直徑大于泵元件90af的一個延伸部分。當制造敷抹裝置時，泵元件90af因而可在外殼4af已經被完全模制之后通過填充開口 44af被插入外殼4af。外殼4af優(yōu)選地是利用坯件的熱塑模制法在單個制造步驟中制成的。原則上，也可把外殼4af設計成多部分的，并利用適當?shù)慕雍戏椒ò阉鼈兘Y合成一個組件。各部分優(yōu)選地是在一種材料壓配中被彼此接合，從而外殼4af被實施為單件的形式。
            
[0589]為了敷抹活性劑，使敷抹裝置通過毛發(fā)。由于敷抹器8af的設計，活性劑被敷抹到幾乎所有毛發(fā)上。當敷抹裝置通過毛發(fā)時，齒22af把毛發(fā)分離到不同的間隙24af中。除了在接觸表面36af之下行進并因此不進入間隙24af之一的一個不顯著的部分之外，所有毛發(fā)都被提供了活性劑。
            
[0590]在此示例性實施例中，敷抹裝置包括一個用于輸送或存儲的覆蓋單元260af。覆蓋單元260af被設置在敷抹器8af上。設置在敷抹器8af上的覆蓋單元260af包圍和/或分隔了齒22af。覆蓋單元260af的寬度至少在一些區(qū)域中小于沿著橫向延伸18a取向的敷抹器8af的寬度。當就位時，覆蓋單元260af在朝向中央的齒22af的邊緣元件250af上施加一個力。
            
[0591]邊緣元件250af和齒22af被實施為至少具有一定柔性的。邊緣元件250af和相鄰的齒22af被就位的覆蓋單元260af向內彎曲。當覆蓋單元260af就位時，間隙24af因而具有幾乎為零的間隙寬度。通過把齒22af壓在一起和包圍敷抹器8af，覆蓋單元260af阻止了活性劑的逃脫。但原則上，敷抹裝置也可被實施成沒有這種特征的形式。
            
[0592]圖75描述了敷抹裝置2ag的一個第二實施例，它也被實施成一個毛發(fā)根部染色器。該毛發(fā)根部染色器被實施為一個條紋染色器的形式。與前述示例性實施例類似地，為了把液體或糊活性成分敷抹到毛發(fā)上，敷抹裝置2ag包括一個具有梳狀結構的敷抹器8ag，該梳狀結構具有多個間隙24ag和排列在間隙24ag之間的齒22ag。敷抹裝置2ag進一步包括一個外殼4ag，后者形成了齒22ag并限定了間隙24ag過渡至其中的至少一個敷抹空間12ag。在齒22ag的一個區(qū)域中，外殼4ag具有小于2.0mm的壁厚度。在一個特別簡單的實施例中，該至少一個敷抹空間12ag可與儲存空間IOag相同。
            
[0593]與前述示例性實施例相比，敷抹器8ag具有一個沒有間隙的子區(qū)域或旁路部分。在使用期間被置于該子區(qū)域中的毛發(fā)不被活性劑所潤濕，所以毛發(fā)只在一個子區(qū)域中被活性劑幾乎完全潤濕。這些子面積此時形成了其中毛發(fā)被進行了諸如染色或漂白的處理的條紋，而處于設置在其間的子區(qū)域中的毛發(fā)則未被處理。
            
[0594]在所描述的示例性實施例中，敷抹裝置2ag是用于條紋染色的?？商鎿Q地，也可以為根據(jù)第一實施例的一種設計提供一種掩蓋單元，它只關閉間隙中的某些，從而使一種全染色器也能夠被用于條紋染色。
            
[0595]活性劑
            
[0596]本發(fā)明還涉及用于染色纖維的活性劑，尤其是用于染色毛發(fā)且特別是與上述的一種敷抹裝置一起使用的活性劑。該活性劑包括一或多種染色物質和用于調節(jié)液體參數(shù)的一種調節(jié)物質。
            
[0597]特別優(yōu)選的是，調節(jié)物質包括固體顆粒，其長度比它們的寬度和高度大5倍以上。借助這樣的活性劑，可以阻止活性劑通過間隙的不希望的逃脫。這些固體顆?？梢允菞U狀的。特別優(yōu)選的是這些固體顆粒是纖維。
            
[0598]本發(fā)明還涉及具有一個袋的一種活性劑容器，尤其是用于上述的一種敷抹裝置的；該袋具有一個膜壁。該活性劑容器優(yōu)選地被用于上述一種敷抹裝置的儲存空間。該活性劑容器優(yōu)選地適用于染色劑，特別是毛發(fā)染色劑。
            
[0599]在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，該活性劑容器包括多個腔，其中不同的活性劑成分被按照腔單獨存儲。這些腔通常彼此分開，從而使這些活性劑彼此密封分開。
            
[0600]關于腔的設置，優(yōu)選的是，活性劑容器具有一個接一個的多個腔。也可以是活性劑容器具有相鄰排列的多個腔元件，它們都被連接在一個位置。這種設置與可用于敷抹的活性劑的制備有利地適配。如上所述，活性劑容器可通過壓縮而被打開。這可以是沿著袋狀活性劑容器的長度從袋的一個端開始并向著它的相對一端連續(xù)地壓它。如果多個腔在袋中一個在另一個之后地設置，這些腔被打開過程所相繼地打開。這使得不同的活性劑成分一種在另一種之后地進入儲存空間。這對于活性劑成分在一起所涉及的徹底混合和/或化學反應是有利的。
            
[0601]如果活性劑容器的腔被彼此相鄰地設置，存儲在相鄰腔中的活性劑成分基本上同時地被加到儲存空間。當它們的相繼加入是不需要或不合理時，這是非常有利的。
            
[0602]另外，儲存空間可以包括一或多個活性劑容器(袋)，每一個都具有至少一個腔。這些袋可以一個在另一個上方地連接，尤其當沿著它們的長度擠壓時它們變成一個在另一個上方地設置并一個壓在另一個上方。在此情況下，同樣能夠實現(xiàn)這些腔的基本上同時的打開，從而多種活性劑成分能夠基本上同時地被加到儲存空間中。
            
[0603]各袋的打開時間可通過袋的尺寸控制。尺寸優(yōu)選地被這樣選擇，即使得有金屬覆層的袋首先被打開。
            
[0604]這些袋優(yōu)選地以一種材料接合的方式彼此接合。例如，它們彼此可被膠合或焊接在一起，或者通過一種粘合帶被接合在一起。優(yōu)選地，在活性劑容器上設置了一種固定元件。這樣的固定元件通常被用于上述的敷抹裝置至一個外殼元件的固定。如果有多個袋，它們可借助一個公共的固定元件而彼此連接。該固定元件可以例如掛簾桿的形式實施。
            
[0605]當有不同的活性劑成分時，特別是對于毛發(fā)染色，優(yōu)選的是，至少一種活性劑成分具有干材料且另一種活性劑成分具有液體材料。該干的活性劑成分可以是粉末、顆粒、或細粒。液體活性劑成分還可以有粘性。顆粒形的活性劑可以是&02。
            
[0606]活性劑容器優(yōu)選地包括用不同的壁制成的兩個腔。因此，例如優(yōu)選的是，為H2O2采用透氧材料，而為對氧敏感的活性劑采用不透氧的材料?；钚詣┤萜魍ǔ０ㄒ粋€中央接縫袋。它可以以一種特別節(jié)省空間的方式被實施在旁邊，而不損失空間。
            
[0607]當活性劑容器具有在兩個相對的壁上的兩個點，這兩點被牢固地連接，且它們的連接部分在至少270°的角度范圍上被包圍且特別是圓形包圍時，活性劑容器的良好內部壓力引導的打開能夠得到實現(xiàn)。在這樣的牢固撕開點上有相同的內部壓力；也可以有多個撕開點。即使當內部壓力低時，撕開點上也有大的加載，從而能夠用小的力進行打開。該連接部分通常以用于兩個壁的一個連接表面而形成了 0.5mm2與6.0mm2之間的一個撕開連接部分。特別優(yōu)選的是從0.5mm2至2mm2的一個范圍。這些值代表了簡單的打開與活性劑可從其排出的足夠尺寸的開口之間的平衡。撕開連接部分越小，越容易打開它。
            
[0608]還優(yōu)選的是，該連接部分形成了帶有一個外部尖銳部分的連接表面。由于當具有角形或尖銳邊緣輪廓(諸如十字形、圓形、三角形、條形、或半圓形輪廓)時撕開打開并沒有這樣的輪廓時更容易自行發(fā)生，一個外部尖銳部分有助于活性劑容器的方便打開。一或多個尖銳部分通常向著活性劑容器的最可能膨脹的部分。在此不考慮與準確的幾何方向的±30°的偏尚。
            
[0609]尤其當活性劑容器具有較長的縱向方向和較短的橫向方向時，優(yōu)選的是，該外部尖銳部分被沿著縱向實施。±30°的容差在此也是被允許的。
            
[0610]用點焊能夠實現(xiàn)連接部分的簡單生產。點焊可在活性劑容器未填充或已經填充有活性劑的情況下進行。在被填充時的點焊的優(yōu)點，是可以避免活性劑容器在填充期間以一種不希望的方式被撕開。點焊通常在每平方毫米至少一公斤的外部壓強下進行。以此方式，特別是對于凸的焊接端，在被加熱時可流動的膜材料會有一個移動。點焊通常以至少一個凸焊接端進行。凸焊接端的優(yōu)點是，它能夠在材料塊之中被驅動且在圓化的區(qū)域中仍然能夠產生沿著向外方向連續(xù)受壓較小的一圈熔化材料。
            
[0611]優(yōu)選地，連接部分的中心包括在活性劑容器的至少一個壁上的至少一個塑料層上的一個孔。這樣設置的作用，是當壁發(fā)生了不希望的方式的分離從而壁不被撕開時，壁上仍然產生了開口。即使金屬膜仍然是閉合的，開口也容易被產生，因為金屬膜容易撕開。有用的是，連接部分在它的中央撕破通過兩個壁的一個孔。這樣的孔在焊接之后被有利地產生，例如借助被穿刺的兩個壁。以這種方式該孔能夠被可靠地產生。還可以利用一個可釋放的連接部分(例如剝離接縫)產生所需的開口。
            
[0612]活性劑容器的壁的主要部件優(yōu)選地是聚丙烯和/或聚乙烯。也有同時采用這兩種材料的主要部件。
            
[0613]活性劑容器通常包括膜構成的一種壁，該膜尤其允許通常是氧的散射。對于一個打開過程，特別是對上述的敷抹裝置，優(yōu)選的是該膜是一種多層膜，它具有塑料制成的外滑動覆層和一個內金屬膜.[0614]為使活性劑容器打開，優(yōu)選的是所述膜具有從外部可見的印記。該印記能夠通過一個外殼尤其是敷抹裝置被讀取，從而有助于防止錯誤操作。
            
[0615]還優(yōu)選的是，膜壁具有兩側上覆有例如塑料膜的塑料或油漆的一個金屬膜。鋁是特別優(yōu)選的。
            
[0616]活性劑容器優(yōu)選地被設置在儲存空間中，從而例如圖22中的壓力裝置110的壓力裝置在滑動覆層上移動?；钚詣┤萜鞯耐？吭趦炔客鈿さ耐獗谏系谋谝部杀桓灿谢瑒痈矊?；那里的滑動覆層不象壓力裝置上的那樣重要。
            
[0617]活性劑容器的主部件優(yōu)選地是沿著至少一個方向尤其是沿著兩個方向被拉伸的聚丙烯。Β0ΡΡ，即雙軸取向的PP，是焊接性比較差的一種方法。拉伸的聚丙烯的焊縫非常容易泄漏。然而，特別是當采用H2O2時，這不是個嚴重問題，因為小的泄漏的效果類似于允許擴散的壁，特別是當采用H2O2時。拉伸的材料，特別是雙拉伸的材料，具有抵抗撕開的傳播的優(yōu)點；撕開的傳播即如果在壁上有小的撕開，撕開在幾乎不需要力的情況下繼續(xù)下去。在敷抹裝置中通過擠壓打開的袋會因此非常容易地被排空。
            
[0618]活性劑容器可用一種材料制成，也可以不同材料制成的多層結構構成，以改善活性劑容器的可存儲性、制造的便利、使用的便利方面的性質。
            
[0619]如果膜壁具有至少一個金屬層和一個非金屬層，則金屬層優(yōu)選地是鋁層且非金屬層優(yōu)選地是聚乙烯。這些層通常用共擠出法制成。在化學腐蝕性環(huán)境下，共擠出的層，特別是鋁-聚乙烯膜，具有耐腐蝕性且由于鋁和聚乙烯的縱向膨脹不同而不容易發(fā)生卷曲。
            
[0620]本發(fā)明還涉及把活性劑敷抹到特別是毛發(fā)的纖維狀材料上的敷抹方法。
            
[0621]在此方面，本發(fā)明的一個進一步的目的是提供用于把活性劑敷抹到纖維狀材料上的方法，借助該方法能夠實現(xiàn)可靠的手動敷抹。
            
[0622]該目的利用一種方法得到了實現(xiàn)，在該方法中一個敷抹裝置(特別是如上所述的一個敷抹裝置)的一個敷抹器的至少一個子區(qū)域被移過纖維狀材料，從而活性劑被敷抹器敷抹到纖維狀材料上。在敷抹裝置的各個方法步驟的描述中給出了本發(fā)明的該方法的有用實施例。該敷抹器優(yōu)選地包圍著被拉過纖維狀材料(以下為了簡明而稱之為毛發(fā))的一個敷抹空間。以此方式，可以以簡單而可靠的方式潤濕所有這些毛發(fā)。在本發(fā)明的一個有用實施例中，敷抹器具有以一種梳狀方式排列并各具有一個端部的齒，且這些齒的端部被引導通過毛發(fā)。運動的方向通常沿著端部的取向方向。
            
[0623]當敷抹器通過毛發(fā)運動時，敷抹器優(yōu)選地沿著端部的取向通過毛發(fā)并因此而在一個纖維基底特別是頭皮上運動，從而端部向上抬起，位于端部之后的一個接觸表面保持在纖維基底上并沿著后者被導向。齒的這種運動與剛開始起飛的在向前的運動中向上抬起的飛機頭部的運動類似。由于這種抬起，毛發(fā)能夠被很好地拉入間隙并由此可靠地被活性劑潤濕。
            
[0624]在該單元的一次通過中，毛發(fā)優(yōu)選地被分到至少兩個間隙中并隨后被引導通過一個敷抹空間，這些毛發(fā)被活性劑所潤濕。在離開這兩個間隙之后，毛發(fā)優(yōu)選地通過一個集束腔而被引導到一起且至少某些毛發(fā)被匯集成縷。以此方式，毛發(fā)形成了縷并且是可見和穩(wěn)定的。
            
[0625]纖維的潤濕和匯集成縷優(yōu)選地是發(fā)生在一個操作運動中。
            
[0626]為了把活性劑加到敷抹空間中，優(yōu)選的是，敷抹裝置具有帶有一個可運動的泵元件的一個泵，且敷抹裝置前后運動，且由于這種運動泵元件把活性劑從一個儲存空間泵送到被一個敷抹器所包圍的敷抹空間中。
            
[0627]該敷抹裝置優(yōu)選地被保持在其中敷抹器向下取向以進行泵送的狀態(tài)。類似優(yōu)選的是，所述前后運動是與敷抹器被引導通過毛發(fā)的敷抹方向相交的。
            
[0628]還優(yōu)選的是的，敷抹裝置具有用于存儲活性劑的一個儲存空間和一個儲存空間可運動混合元件，且敷抹裝置被搖動，且這造成了混合元件在儲存空間中的運動從而使活性劑在儲存空間中被混合?；钚詣┛梢源朔绞揭砸环N簡單而可靠的方式被制備。
            
[0629]在活性劑至毛發(fā)的敷抹開始時，優(yōu)選的是，儲存空間在混合之后向被敷抹器所包圍的一個敷抹空間打開，且所述混合元件被置于一個泵空間中的一個泵送位置，尤其是儲存空間與敷抹空間之間的一個泵送位置，且該混合元件被敷抹裝置的運動在泵空間中移動，且這使得活性劑被從儲存空間泵送到敷抹空間。
            
[0630]活性劑容器的壁優(yōu)選地至少基本上由膜制成。膜的制造比較成本低廉而且容易與活性劑的化學性質相適配。特別優(yōu)選的是，該膜允許擴散，例如氧(O2)的擴散。這使得過量的氧能夠被排出活性劑。
            
[0631]還優(yōu)選的是，所述膜是一種多層膜，其具有用塑料制成的一個外滑動覆層和另一設置在內側的金屬膜。塑料覆層能夠給予膜以穩(wěn)定性并且是平滑的，從而使膜能夠以一種低摩擦的方式被覆蓋。
            
[0632]利用一種額外添加的滑動膜也能夠獲得類似的效果。該滑動膜與活性劑容器一起以相同的方式運動。它減小摩擦并由于它平整了金屬膜上的皺紋而產生了平滑的表面。這些優(yōu)化措施能夠便利活性劑容器的擠壓。還優(yōu)選的是，該膜帶有可從外界見到的印記。這樣的印記優(yōu)選地包括敷抹裝置的操作指令，其他注釋如安全說明也是優(yōu)選的。
            
[0633]一般地，優(yōu)選的是活性劑容器具有其中保持活性劑的一個柔性袋。為了限制儲存空間的小空間中的空間損失，優(yōu)選的是活性劑容器具有一個中央接縫袋。多個中央接縫袋，尤其是相互支持的中央接縫袋，也是優(yōu)選的。
            
[0634]標號清單
            
[0635]2 敷抹裝置
            
[0636]4 外殼
            
[0637]6 儲存部
            
[0638]8 敷抹器
            
[0639]10儲存空間
            
[0640]12敷抹空間
            
[0641]14 中介空間
            
[0642]16 毛發(fā)
            
[0643]18活性劑
            
[0644]20 梳
            
[0645]22 齒
            
[0646]24 間隙
            
[0647]26 齒端
            
[0648]30 頭線
            
[0649]32 寬度
            
[0650]34 長度
            
[0651]36接觸表面
            
[0652]38 深度
            
[0653]40 頂側
            
[0654]42封閉元件[0655]44填充開口
            
[0656]46封閉裝置
            
[0657]48 通道
            
[0658]50 槽
            
[0659]52外殼兀件
            
[0660]54外殼兀件
            
[0661]56轉動表面部件
            
[0662]58轉動表面部件
            
[0663]60 肋
            
[0664]66 區(qū)
            
[0665]68 槽
            
[0666]70 前緣
            
[0667]72 槽
            
[0668]74模制元件
            
[0669]76阻擋元件
            
[0670]78把手元件
            
[0671]80阻擋元件
            
[0672]82阻擋元件
            
[0673]84阻擋部件
            
[0674]86轉動方向
            
[0675]88填充開口
            
[0676]90泵元件
            
[0677]92活性劑容器
            
[0678]94連接元件
            
[0679]96連接裝置
            
[0680]98切去部分
            
[0681]100 邊緣
            
[0682]102 焊縫
            
[0683]104內模制元件
            
[0684]106預定斷開點
            
[0685]108 壁
            
[0686]110壓力裝置
            
[0687]112驅趕元件
            
[0688]114體積膨脹
            
[0689]116底切部
            
[0690]118引入裝置
            
[0691]120外殼部分
            
[0692]122連接裝置
            
[0693]124掛鉤裝置[0694]126凹槽
            
[0695]128頭皮
            
[0696]130返回元件
            
[0697]132梳角
            
[0698]134雙箭頭
            
[0699]136高度
            
[0700]138敷抹器深度
            
[0701]140板
            
[0702]146墊片元件
            
[0703]148上壁
            
[0704]150下壁
            
[0705]152片金屬元件
            
[0706]154彎曲邊緣
            
`[0707]156敷抹器腿
            
[0708]158齒基
            
[0709]160端部區(qū)
            
[0710]162前敷抹區(qū)
            
[0711]164主敷抹區(qū)
            
[0712]166后敷抹區(qū)
            
[0713]168間隙出口
            
[0714]170旁路間隙
            
[0715]172切去部分
            
[0716]174引導表面
            
[0717]176壁厚度
            
[0718]178旁路
            
[0719]180旁路齒
            
[0720]182過渡齒
            
[0721]184間隙基部
            
[0722]186前間隙基部
            
[0723]188后間隙基部
            
[0724]190角
            
[0725]192長度
            
[0726]194斜角
            
[0727]196空間部分
            
[0728]198空間部分
            
[0729]200分離元件
            
[0730]202填充元件
            
[0731]204凸出部
            
[0732]206后壁[0733]208回流阻擋部
            
[0734]210梳
            
[0735]212墊片
            
[0736]214半徑
            
[0737]216泵
            
[0738]218泵引導部
            
[0739]220導向軌
            
[0740]222切去部分
            
[0741]224邊緣
            
[0742]226泵空間
            
[0743]228捕獲區(qū)
            
[0744]230連接通道
            
[0745]232通氣開口
            
[0746]234螺線連接部分
            
·[0747]240長度
            
[0748]242通道寬度
            
[0749]244通道寬度角
            
[0750]246敷抹方向
            
[0751]248橫向延伸部分
            
[0752]250邊緣元件
            
[0753]252基線
            
[0754]254 基線
            
[0755]256分離元件
            
[0756]258泵元件
            
[0757]260覆蓋單元
            
【權利要求】
            
1.用于把活性劑敷抹到材料上的敷抹裝置，它具有一個外殼，該外殼中設置有用于存儲所述活性劑的儲存空間，且該敷抹裝置具有用于把所述活性劑敷抹到被置于一個敷抹空間中的所述材料上的敷抹器，其特征在于所述敷抹器具有敷抹空間、以一種梳狀方式排列并帶有上壁和下壁的多個空心齒、以及設置在這些齒之間的用于把所述材料引入所述敷抹空間的間隙，其中在所述上壁與下壁之間設置有敷抹空間的至少某些部分。
            
2.根據(jù)權利要求1的敷抹裝置，其特征在于所述間隙在上壁上比在下壁上窄。
            
3.根據(jù)權利要求1或2的敷抹裝置，其特征在于所述下壁在一個前區(qū)中沿著其縱向有均勻的厚度。
            
4.根據(jù)權利要求3的敷抹裝置，其特征在于所述下壁的頂側在所述均勻厚度的部分之后向上彎曲。
            
5.根據(jù)前述權利要求中的任何一項的敷抹裝置，其特征在于下壁具有限定了所述敷抹空間的一個內部，且該下壁從前部到后部的延伸方向與敷抹器的一個下接觸表面成一個增大至至少70°的角度。
            
6.根據(jù)權利要求5的敷抹裝置，其特征在于所述內部與被繃緊導向并盡可能深地通過敷抹空間的毛發(fā)形成了至少60°尤其是至少80°的一個角度。
            
7.根據(jù)權利要求5或6的敷抹裝置，其特征在于，敷抹空間的后區(qū)和所述內部在具有至少70°的散布的一個最大IOmm的區(qū)域中有一個凹進部分。
            
8.根據(jù)權利要求5至7中的任何一項的敷抹裝置，其特征在于所述內部的后部與所述上壁一起形成了敷抹空間的一個向上的漸細部分。
            
9.根據(jù)前述權利要求中的任何一項的敷抹裝置，其特征在于所述下壁的區(qū)域中的至少一個間隙具有一個后間隙出口·，該后間隙出口從敷抹器的一個下接觸表面延伸到該接觸表面中的一個凹槽中。
            
10.根據(jù)權利要求9的敷抹裝置，其特征在于間隙出口的延伸從前到后與所述接觸表面成一個至少70°的角。
            
11.根據(jù)權利要求10的敷抹裝置，其特征在于所述凹槽形成了一個橫向間隙加寬部分，在該橫向間隙加寬部分中間隙沿著橫向加寬，并把被引導的纖維沿著橫向釋放到該間隙之外。
            
12.根據(jù)權利要求10或11的敷抹裝置，其特征在于所述凹槽向后隨著與間隙出口的距離的加大而寬度加大且深度減小。
            
13.根據(jù)前述權利要求中的任何一項的敷抹裝置，其特征在于多個間隙的后間隙出口向凹槽形式的單個腔中打開。
            
14.根據(jù)權利要求14的敷抹裝置，其特征在于多個間隙向單個的組合間隙中打開。
            
15.根據(jù)權利要求13或14的敷抹裝置，其特征在于腔向后沿著橫向漸細，從而使通過該腔被向后導向的毛發(fā)被結成束。
            
16.根據(jù)權利要求15的敷抹裝置，其特征在于所述腔向著后部變得更平。
            
17.根據(jù)權利要求13至16中的任何一項的敷抹裝置，其特征在于所述腔具有橫向墊片元件，這些橫向墊片元件在間隙出口的區(qū)域內把敷抹器的一個下接觸表面持續(xù)保持在離尤其是頭皮的一個纖維基底至少0.5mm處。
            
18.根據(jù)前述權利要求中的任何一項的敷抹裝置，其特征在于所述間隙被設置成至少兩個間隙組，在這些組之間設置有一個無間隙的旁路部分，該旁路部分的范圍是這些間隙組之一的相對的最外間隙的間隙距離的至少兩倍。
            
19.根據(jù)前述權利要求中的任何一項的敷抹裝置，其特征在于所述下壁具有一個內部，該內部限定了所述敷抹空間并沿著從前部向后部的方向在開始時與敷抹器的一個下接觸表面平行地延伸，并在進一步靠后的范圍中，象間隙出口從前向后的延伸那樣，與所述接觸表面成至少70°的一個角，多個間隙在所述下壁的區(qū)域中比在上壁的區(qū)域中寬且它們的后間隙出口開放到一個凹槽形式的單個腔中。
            
20.由根據(jù)前述權利要求中的任何一項的敷抹裝置構成的系統(tǒng)，其特征在于具有120±35Pa*s的粘度的活性劑被存儲在一個第一敷抹裝置中且具有50±35Pa*s的粘度的活性劑被存儲在一個第二敷抹裝置中，其中，第一敷抹裝置在一個下壁的區(qū)域中有間隙寬度在0.45mm與0.8mm之間且間隙深度在0.9mm與1.5mm之間的間隙,且第二敷抹裝置在一個下壁的區(qū)域中具有間隙寬度在0.05mm與0.45mm之間且間隙深度在0.1mm與0.9mm之間的間隙。
            
21.根據(jù)權利要求20的系統(tǒng)，其特征在于具有50Pa*s與30Pa*s之間的粘度的活性劑被存儲在一個第一敷抹裝置中且具有30Pa*s與120Pa*s之間的粘度的活性劑被存儲在一個第二敷抹裝置中，其中，所述第一敷抹裝置包括具有1.5mm與2.5mm之間的平均寬度的齒，且所述第二敷抹裝置包括具有0.4mm與1.2mm之間的平均寬度的齒。
            
22.根據(jù)權利要求20或21的系統(tǒng)，其特征在于具有<45Pa*s的粘度的活性劑被存儲在一個第一敷抹裝置中，且具有>45Pa*s的粘度的活性劑被存儲在一個第二敷抹裝置中，其中，所述第一敷抹裝置在敷抹空間的前端具有角度在7°與20°之間的斜角，且所述第二敷抹裝置在敷抹空間的前端具有角度在20°與40°之間的斜角。
            
23.用于把一種活性劑敷抹到特別是毛發(fā)的纖維狀材料上的敷抹方法，在該方法中根據(jù)前述權利要求中的任何·一項的敷抹裝置的一個敷抹器的至少一部分被移動通過所述纖維狀材料，從而使活性劑被所述敷抹器敷抹到所述纖維狀材料上，其特征在于所述敷抹器圍繞一個敷抹空間，所述纖維狀材料被拉過所述敷抹空間。
            
【文檔編號】A45D24/22GK103857309SQ201280039159 
            
【公開日】2014年6月11日   申請日期:2012年6月9日   優(yōu)先權日:2011年6月9日
            
【發(fā)明者】安克·瓦格納, 倫納爾·米爾伯格, 丹尼兒·艾切, 彼得·羅斯, 安德里亞斯·米爾伯格   申請人:安克·瓦格納
            
                        
            
                        
            
                        
            
                            
                        
            

                        
                            
                    
            
                    
                    


                     
                        
                        
                    

                
            

                
                
            
                    
            
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