用于材料床的壓縮研磨器的制造方法
【專利摘要】本發明涉及一種用于材料床(5)的壓縮研磨器(1)，包括：筒(2)，其具有水平軸線(A)，其內壁包括布置在所述筒(2)內的用于研磨輥(3)的軌道；用于使筒圍繞其軸線(A)轉動的裝置；所述研磨輥(3)具有平行于筒的軸線(A)的軸線；用于壓迫所述研磨輥(3)貼靠所述筒(2)的軌道的裝置；以及用于在所述筒(2)的一端處供應待研磨材料的入口以及位于所述筒(2)的另一端處的用于研磨材料的出口。根據本發明，研磨器包括：在所述筒(2)的轉動方向(R)上布置在所述研磨輥(3)上游的勻化輥(4)；用于保持勻化輥(4)鄰近所述筒(2)的軌道并與其分離的裝置，使得在筒(2)每次轉動時，材料連續經過勻化輥(4)下方，并接著經過研磨輥(3)下方，所述勻化輥(4)在材料床(5)上施加使其表面勻化的壓力，所述壓力低于所述研磨輥(3)施加在所述材料床(5)上的壓力(P)。
【專利說明】用于材料床的壓縮研磨器
【技術領域】
[0001]本發明涉及用于材料床的壓縮研磨器，其通常稱為具有輥的水平研磨器，并涉及應用這種研磨器的研磨方法。
【背景技術】
[0002]這種研磨器特別應用于研磨礦物材料，特別是在干燥過程中以不受限制的方式，以便水泥熔渣的制造。
[0003]文獻ΕΡ-0.486.371和ΕΡ-0.934.120描述這種類型的研磨器，其包括根據水平軸線轉動的筒，筒的內壁構成用于研磨輥的軌道，研磨輥的轉動軸線平行于筒的軸線，并在軌道上施加大壓力。材料在筒的一端處供應并在另一端處離開。
[0004]在筒的轉動作用下，材料在軌道和研磨輥之間經過多次，并且已知的是由于推進材料的裝置來控制經過的次數，例如以上提到的文件中描述那樣。
[0005]在這種研磨器中，材料從一端推進經過筒的另一端，受到連續研磨的作用。因此材料的粒度在研磨器的靠近入口端定位的部分內比研磨器的靠近出口端定位的部分內更粗。
[0006]傳統上，供應到研磨器的材料具有粗粒度，其最大顆粒尺寸能夠達到120mm。經過處理系統的操作效果，材料流經過波動，并且粒度分布不均勻。這引起材料床的構成和厚度變化，并因此引起研磨輥施加的力的反作用變化，造成研磨器振動。
[0007]這些振動造成機械應力，機械應力參與減小機器的部件以及甚至研磨工廠附近元件的使用壽命。
[0008]從W097/39829也已知一種用于在研磨器中采用的濕過程中研磨的方法，研磨器包括圓形軌道和能夠在軌道上滾動并彈性壓在軌道上的研磨輥。
[0009]在此現有技術中，材料床的表面通過添加由噴嘴在壓力下噴射的水或另一液體而均勻形成，這使其可以改善材料在軌道上以均勻厚度層的形式分布。
[0010]根據現有技術的替代，研磨器包括布置在研磨輥上游的預壓縮輥。預壓縮輥類似于研磨輥彈性壓在圓形軌道上。預壓縮輥具有通過加壓材料層來干燥并防止由于加壓所述材料層排出的水到達研磨輥的功能。W097/39829中的研磨器不適用于在干燥過程中研磨材料。在不噴灑液體以使材料床表面均勻的情況下，現有技術的預壓縮輥(不保持與軌道分離)將不能以根據本發明的研磨器的勻化輥的方式使得材料床均勻。本發明的目的在于提供一種克服所述缺陷的水平筒研磨器，其使用壽命相對于現有技術的水平筒研磨器增加。
[0011]本發明的另一目的在于提供通過根據本發明的研磨器進行研磨的方法。
[0012]本發明的其他目的和優點將在閱讀以下說明時明白，以下說明只出于說明的目的給出，并不旨在使其受到限制。
【發明內容】
[0013]因此，本發明涉及一種用于材料床的壓縮研磨器，包括:
[0014]具有水平軸線的筒，筒的內壁包括布置在所述筒內的用于研磨輥的軌道；[0015]用于圍繞其軸線轉動筒的裝置；
[0016]所述研磨輥具有平行于筒的軸線的軸線；
[0017]用于壓迫所述研磨輥貼靠所述筒的軌道的裝置；
[0018]定位在所述筒的一端處的用于供應待研磨材料的入口和位于所述筒的另一端處的用于研磨材料的出口。
[0019]根據本發明，所述研磨器包括:
[0020]勻化輥，其在所述筒的轉動方向上布置在所述研磨輥的上游，旨在勻化材料床的表面；
[0021]用于保持勻化輥鄰近所述筒的軌道并與其分離的裝置，該裝置禁止所述勻化輥和軌道之間的任何接觸。
[0022]根據本發明，一方面用于保持勻化輥鄰近所述筒的軌道并與其分離的所述裝置且另一方面用于壓迫所述研磨輥貼靠所述筒的軌道的所述裝置使得所述勻化輥能夠在材料床上施加勻化其表面的壓力，所述壓力低于所述研磨輥施加在所述材料床上的壓力。
[0023]這種研磨器允許執行材料床的壓縮研磨的方法，其中在筒的每次轉動過程中，材料連續經過勻化輥下方并接著經過研磨輥下方，所述勻化輥在材料床上施加勻化其表面的壓力，所述壓力低于所述研磨輥施加在所述材料床上的壓力。
[0024]根據研磨方法的實施方式，用于保持勻化輥的所述裝置保證軌道和所述勻化輥的表面之間的最小距離，并且其中研磨器被供應Imm和120mm之間的確定最大顆粒尺寸，并且確定所述最小距離大于或等于確定最大顆粒尺寸的0.5倍。
[0025]根據本發明的任選特征，單獨或組合地采用:
[0026]勻化輥能夠由于與材料床的摩擦圍繞其軸線驅動轉動而可以自由轉動；
[0027]研磨器具有用于驅動勻化輥轉動的馬達裝置，使其周邊速度等于所述勻化輥旨在施加其上的材料床的平均速度；
[0028]研磨器用來處理具有Imm和120mm之間的最大尺寸的顆粒，并且其中勻化輥的直徑在10Omm和660_之間；
[0029]用于保持勻化輥的所述裝置包括能夠允許所述勻化輥朝著所述筒的軸線根據大致徑向位移的用于鉸接的裝置和朝著軌道在相反方向上壓迫所述勻化輥的彈性裝置；
[0030]用于保持所述勻化輥的所述裝置設置成通過其兩端保持所述勻化輥。用于保持的所述裝置包括兩個臂，一方面，每個臂根據所述勻化輥的軸線在所述臂的一端處鉸接到勻化輥，并且另一方面，根據平行于所述筒的軸線的轉動軸線在所述臂的另一端處鉸接到所述研磨器的框架；
[0031]所述勻化輥的長度大于或等于所述研磨輥的長度，所述勻化輥根據筒的長度與所述研磨輥相應地布置；
[0032]研磨器具有用于控制材料在所述筒的長度上的位移的裝置，使得所述材料在筒的每次轉動時只運行筒的一部分長度，并從所述入口在筒和研磨輥之間經過多次，以便將待研磨材料供應到研磨材料的所述出口，并且其中所述勻化輥的表面和軌道之間的距離根據所述筒的長度變化，從所述入口到所述出口減小。
[0033]用于壓迫所述研磨輥貼靠所述筒的軌道的所述裝置使得研磨輥在材料床上施加IOMPa和40MPa之間的平均壓力，并且用于保持勻化輥的所述裝置使得勻化輥在材料床上施加小于lOMPa、更優選小于IMPa的壓力。
[0034]勻化輥的轉動軸線平行于所述筒的軸線。
[0035]根據研磨方法的一種實施方式，所述研磨器被供應具有確定最大顆粒尺寸的材料，并且以如下方式選擇所述勻化輥的直徑:
[0036]如果在此條件下，勻化輥的直徑大于或等于研磨輥的直徑的0.15倍，則所述勻化輥的直徑在待研磨顆粒的所述最大尺寸的2倍和6倍之間；否則
[0037]所述勻化輥的直徑至少等于研磨輥的直徑的0.15倍。
[0038]本發明還涉及通過根據本發明的研磨器執行的壓縮研磨材料床的方法，其中用于保持的裝置包括用于鉸接的所述裝置，并且其中所述研磨器被供應具有確定最大顆粒尺寸的材料，并且所述勻化輥的位移過程被調節，從而保持勻化輥的表面與軌道分離的距離在待研磨顆粒的最大尺寸的0.5倍和3倍之間。
[0039]根據本發明的研磨方法和研磨器特別適用于在干燥過程中研磨材料。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0040]在伴隨附圖閱讀以下描述時，將更好地理解本發明，附圖中:
[0041]圖1是根據豎直截面的根據本發明的研磨器的示意圖，示出筒和研磨輥(未示出勻化輥)。
[0042]圖2是根據圖1的研磨器的示意側視圖。
[0043]圖3是根據圖2的研磨器的示意圖，更具體地示出根據未限制實施方式的保持所述勻化輥的所述裝置。
[0044]圖4是根據第二實施方式的根據本發明的研磨器的橫截面圖，示出筒和勻化輥(未示出研磨輥)。
【具體實施方式】
[0045]因此，本發明涉及材料床5的壓縮研磨器1，其包括:
[0046]筒2，其具有水平軸線A，筒的內壁包括布置在所述筒2的內側的用于研磨輥3的軌道20 ；
[0047]用于圍繞其軸線A轉動筒的裝置；
[0048]所述研磨輥3具有平行于筒2的軸線A的軸線；
[0049]用于壓迫所述研磨輥3貼靠所述筒2的軌道20的裝置；
[0050]定位在所述筒2的一端處的用于供應待研磨的材料的入口 7和位于所述筒2的另一端的用于研磨材料的出口 8。
[0051]用于轉動筒2的所述裝置可包括齒輪馬達，其出口軸線具有聯接到環齒輪的小齒輪，小齒輪與筒2的外壁成一體。
[0052]用于壓迫所述研磨輥3貼靠軌道20的所述裝置可包括引導研磨輥3的端部的滑動件以及能夠在研磨輥3的端部上施加傳遞到研磨輥3的力的筒或彈簧。
[0053]根據一種實施方式，用于壓迫所述研磨輥3貼靠所述筒2的軌道20的所述裝置使得研磨輥3在材料床5上施加IOMPa和40MPa之間的平均壓力。
[0054]入口 7處的材料供應和/或出口 8處的材料移除可通過氣動操縱系統獲得。[0055]優選地，研磨器具有控制材料在所述筒2的長度上位移的裝置(未示出)，從而在筒2的每次轉動時所述材料只在筒2的一部分長度上運行，并從所述入口 7在筒2和研磨輥3之間經過多次，以便將待研磨材料供應到研磨材料的所述出口 8。
[0056]這些裝置可包括旨在設置用于材料從筒2的一端推進到另一端的裝置，例如特別在 ΕΡ0.486.371 或 ΕΡ0.934.120 描述。
[0057]這種裝置在下降的上部內包括放置在筒內側的刮擦器(或刀片)，使得材料從軌道脫離，并且一個或優選為多個偏轉板布置在刮擦器下方，從而截留通過刮擦器脫離的材料，并使其朝著研磨器的出口轉移。
[0058]根據本發明，研磨器包括:
[0059]在所述筒2的轉動方向R上布置在所述研磨輥3上游的勻化輥4 ；
[0060]用于保持勻化輥4鄰近所述筒2的軌道并與其分離的裝置6。
[0061]裝置4、6使得在筒2的每次轉動時材料連續經過勻化輥4下方并經過研磨輥3下方，所述勻化輥4在材料床5上施加勻化其表面的壓力，所述壓力低于通過所述研磨輥3施加在所述材料床5上的壓力P。
[0062]優選地，在操作過程中，勻化輥在材料床5上的壓力低于研磨材料顆粒所需的壓力。為此，用于保持勻化輥4的所述裝置60使得勻化輥4在材料床5上施加低于lOMPa、更優選地低于IMPa的壓力。
[0063]優選地，所述勻化輥4的長度可以大于或等于所述研磨輥3的長度，所述勻化輥4根據筒2的長度與所述研磨輥3對應地布置。
[0064]根據本發明，用于保持勻化輥4的所述裝置6保證軌道20和所述勻化輥4的表面之間的最小距離，禁止所述勻化輥4和軌道20之間的任何接觸。
[0065]此最小距離使得可以確保材料床的顆粒材料可以在所述勻化輥4的作用下根據輥的軸線橫向沖洗，并因此獲得在勻化輥4的長度上具有恒定厚度的材料床。此最小距離可根據供應研磨器的最大顆粒尺寸確定，最大顆粒尺寸可以在Imm和120mm之間。根據一種實施方式，最小距離大于或等于確定的最大顆粒尺寸的0.5倍。
[0066]根據一種實施方式，勻化輥4可以自由轉動，能夠由于與材料床5的摩擦而圍繞其軸線轉動驅動。
[0067]替代地，研磨器可具有用于驅動勻化輥4轉動的馬達裝置，使其周邊速度等于所述勻化輥4旨在施加其上的材料床5的平均速度。
[0068]根據一種實施方式,研磨器I旨在研磨具有Imm和120mm之間的最大尺寸的顆粒，而勻化棍4的直徑在IOOmm和660mm之間。
[0069]優選地，所述研磨器I被供應具有確定最大顆粒尺寸的材料，并且所述勻化輥4的直徑通過以下方式選擇:
[0070]如果在此條件下，勻化輥的直徑大于或等于研磨輥3的直徑的0.15倍，則所述勻化輥的直徑在待研磨顆粒的所述最大尺寸的2倍和6倍之間；否則
[0071]所述勻化輥的直徑至少等于研磨輥3的直徑的0.15倍，特別是低于研磨輥3的直徑的0.5倍。
[0072]用于保持勻化輥4的所述裝置6可包括能夠允許所述勻化輥4相對于所述筒2的軸線A根據大致徑向位移的用于鉸接的裝置和朝著軌道20在相反方向上壓迫所述勻化輥4的彈性裝置(未示出)。
[0073]根據一種實施方式，用于保持所述勻化輥4的所述裝置6設置成通過其兩端保持所述勻化輥4，用于保持的所述裝置6的用于鉸接的所述裝置包括兩個臂60，一方面，每個臂根據所述勻化輥4的軸線在所述臂60的一端處鉸接到勻化輥4，并且另一方面，根據特別是平行于所述筒2的軸線A的轉動軸線B在所述臂60的另一端處鉸接到所述研磨器I的框架。
[0074]優選地，勻化輥4的位移過程通過用于保持的所述裝置6限制。
[0075]有利地，所述研磨器I被供應具有確定最大顆粒尺寸的材料，并且所述勻化輥4的位移過程中被調節，從而將勻化輥4的表面與軌道20分離的距離保持在待研磨的顆粒的最大尺寸的0.5倍和3倍之間。勻化輥4的位移過程可使得勻化輥4經過此整個數值范圍。
[0076]根據一種實施方式，研磨器I具有控制材料在所述筒2的長度上位移的所述裝置，從而在筒2的每次轉動時，使得所述材料只在筒2的一部分長度上運行，并從所述入口 7在筒2和研磨輥3之間經過多次，以便將待研磨材料供應到研磨材料的所述出口 8。
[0077]有利地，根據后一種實施方式，所述勻化輥4的表面和軌道20之間的距離“d”可以根據所述筒2的長度變化，從所述入口 7到所述出口 8減小。為此，并根據圖4所示的例子，勻化輥4的軸線可以相對于筒2的軸線傾斜。
[0078]這種布置使得可以考慮材料的粒度在研磨器的靠近入口 7的端部定位的部分內比在研磨器的靠近出口 8的端部定位的部分內更粗。
[0079]因此，在入口 7 —側上輥端部處的勻化輥4的表面和軌道20之間的距離大于出口8 一側上輥端部處的勻化輥4的表面和軌道20之間的距離。兩個距離之間的比例可以在I和2之間。
[0080]替代地，勻化輥4的轉動軸線平行于所述筒2的軸線A。
[0081]根據本發明的研磨器和研磨方法特別適用于特別是在干燥過程中研磨礦物材料和/或研磨水泥熔渣制造中的材料。
[0082]但是自然地，本領域普通技術人員可以考慮到其他實施方式，而不偏離此后權利要求限定的本發明的范圍。
[0083]附圖標記
[0084]I研磨器
[0085]2 筒
[0086]3研磨輥
[0087]4勻化輥
[0088]5材料床
[0089]6用于保持的裝置(保持勻化輥)
[0090]7 入口
[0091]8 出口
[0092]20 軌道
[0093]60臂(用于鉸接的裝置)
[0094]A水平軸線
[0095]B轉動軸線[0096]P 壓力
[0097]R轉動方向
【權利要求】
1.一種用于材料床的壓縮研磨方法，該方法通過用于材料床(5)的壓縮研磨器(I)執行，該研磨器包括: 筒(2)，其具有水平軸線(A)，筒的內壁包括布置在所述筒(2)內側的用于研磨輥(3)的軌道(20)； 用于圍繞其軸線(A)轉動筒的裝置； 所述研磨輥⑶具有平行于筒⑵的軸線㈧的軸線； 用于壓迫所述研磨輥⑶貼靠所述筒⑵的軌道(20)的裝置； 定位在所述筒(2)的一端處的用于供應待研磨的材料的入口(7)和位于所述筒(2)的另一端的用于研磨材料的出口(8)； 在所述筒(2)的轉動方向(R)上布置在所述研磨輥(3)的上游的勻化輥(4)； 用于保持勻化輥(4)鄰近所述筒(2)的軌道并與其分離的裝置(6)，該裝置禁止所述勻化輥(4)和軌道(20)之間的任何接觸； 在所述方法中，在筒(2)每次轉動時，材料連續經過勻化輥(4)下方并接著經過研磨輥(3)下方，所述勻化輥(4)在材料床(5)上施加勻化其表面的壓力，所述壓力低于所述研磨輥⑶施加在所述材料床(5)上的壓力⑵。
2.根據權利要求 1所述的研磨方法，其中，用于保持勻化輥⑷的所述裝置(6)保證軌道(20)和所述勻化輥⑷的表面之間的最小距離，并且其中研磨器被供應Imm和120mm之間的確定最大顆粒尺寸，并且確定所述最小距離大于或等于所確定最大顆粒尺寸的0.5倍。
3.根據權利要求2所述的研磨方法，其中，勻化輥⑷由于與材料床(5)的摩擦圍繞其軸線轉動驅動而能夠自由轉動。
4.根據權利要求2所述的研磨方法，具有用于驅動勻化輥(4)轉動的馬達裝置，使其周邊速度等于其上施加所述勻化輥(4)的材料床(5)的平均速度。
5.根據權利要求1-4任一項所述的研磨方法,其中，具有Imm和120mm之間的最大尺寸的顆粒被處理，并且其中勻化輥(4)的直徑在IOOmm和660mm之間選擇。
6.根據權利要求1-5任一項所述的研磨方法，其中，用于保持勻化輥(4)的所述裝置(6)包括用于鉸接的裝置，其能夠朝著所述筒(2)的軸線(A)根據大致徑向使得所述勻化輥(4)位移，還包括朝著軌道(20)在相反方向上壓迫所述勻化輥(4)的彈性裝置。
7.根據權利要求6所述的研磨方法，其中，用于保持所述勻化輥(4)的所述裝置(6)設置成通過其兩端保持所述勻化輥(4)，用于保持的所述裝置(6)的用于鉸接的裝置包括兩個臂(60)，一方面，每個臂根據所述勻化輥(4)的軸線在所述臂(60)的一端處鉸接到所述勻化輥(4)，并且另一方面，根據平行于所述筒(2)的軸線(A)的轉動軸線(B)在所述臂(60)的另一端處鉸接到所述研磨器(I)的框架。
8.根據權利要求1-7任一項所述的研磨方法，其中，所述勻化輥(4)的長度大于或等于所述研磨輥(3)的長度，所述勻化輥(4)根據筒(2)的長度與所述研磨輥(3)相應地布置。
9.根據權利要求1-8任一項所述的研磨方法，具有用于控制材料在所述筒(2)的長度上的位移的裝置，使得所述材料在筒(2)的每次轉動時只運行筒(2)的一部分長度，并從所述入口(7)在筒(2)和研磨輥(3)之間經過多次，以便將待研磨材料供應到研磨材料的所述出口(8)，并且其中所述勻化輥(4)的表面和軌道(20)之間的距離(d)根據所述筒(2)的長度變化，從所述入口(7)到所述出口(8)減小。
10.根據權利要求1-8任一項所述的研磨方法，其中，勻化輥(4)的轉動軸線平行于筒(2)的軸線(A)。
11.根據權利要求1-10任一項所述的研磨方法，其中，用于壓迫所述研磨輥貼靠所述筒的軌道的所述裝置使得研磨輥(3)在材料床上施加IOMPa和40MPa之間的平均壓力，并且用于保持勻化輥的所述裝置(6)使得勻化輥(4)在材料床(5)上施加小于lOMPa、更優選小于IMPa的壓力。
12.根據權利要求1-11任一項所述的研磨方法，其中，所述研磨器(I)被供應具有確定最大顆粒尺寸的材料，并且以如下方式選擇所述勻化輥(4)的直徑: 如果在此條件下，勻化輥的直徑大于或等于研磨輥(3)的直徑的0.15倍，則所述勻化輥(4)的直徑在待研磨顆粒的所述最大尺寸的2倍和6倍之間；否則 所述勻化輥(4)的直徑至少等于研磨輥(3)的直徑的0.15倍。
13.根據權利要求6所述的研磨方法，其中，所述研磨器(I)被供應具有確定最大顆粒尺寸的材料，并且所述勻化輥(4)的位移過程被調節，從而保持勻化輥(4)的表面與軌道(20)分離的距離在待研磨顆粒的最大尺寸的0.5倍和3倍之間。
14.根據權利要求1-13任一項所述的研磨方法，其中，材料在干燥過程中在所述研磨器⑴內研磨。
15.用于材料床(5)的壓縮研磨器(1)，包括: 具有水平軸線㈧的筒(2)，其內壁包括布置在所述筒⑵內的用于研磨輥(3)的軌道(20)； 用于圍繞其軸線(A)轉動筒的裝置； 所述研磨輥⑶具有平行于筒⑵的軸線㈧的軸線； 用于壓迫研磨輥(3)貼靠所述筒(2)的軌道(20)的裝置； 定位在所述筒(2)的一端處的用于供應待研磨材料的入口(7)，以及位于所述筒(2)的另一端處的用于研磨材料的出口(8)； 其特征在于，壓縮研磨器(I)包括: 勻化輥(4)，其在所述筒(2)的轉動方向(R)上布置在所述研磨輥(3)的上游，旨在勻化材料床的表面； 用于保持勻化輥(4)鄰近所述筒(2)的軌道并與其分離的裝置(6)，該裝置禁止所述勻化輥(4)和軌道(20)之間的任何接觸；以及 其中一方面用于保持勻化輥(4)鄰近所述筒(2)的軌道并與其分離的裝置(6)且另一方面用于壓迫所述研磨輥(3)貼靠筒(2)的軌道(20)的所述裝置使得所述勻化輥(4)能夠在材料床(5)上施加勻化其表面的壓力，所述壓力低于所述研磨輥(3)施加在所述材料床(5)上的壓力⑵。
16.根據權利要求1-14任一項所述的研磨方法或根據權利要求15所述的研磨器(I)的應用，用于研磨礦物材料和/或研磨水泥熔渣制造中的材料。
【文檔編號】B02C15/06GK103998137SQ201280059468
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2012年11月30日 優先權日:2011年12月2日
【發明者】A·科多尼耶, S·德夫勒 申請人:菲弗斯有限公司