專利名稱：一種復(fù)合除菌凈化劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種除菌凈化劑的制作方法，特別是涉及一種含有CdS和TiO2的復(fù)合除菌凈化劑的制作方法。
背景技術(shù)：
隨著人口的增長和工業(yè)的發(fā)展，能源與環(huán)境問題倍受關(guān)注，酸雨、臭氧層破壞及全球變暖等造成了全球性的環(huán)境危機。國內(nèi)外應(yīng)用TiO2等純原料負載于金屬表面，通過離子攙雜、半導(dǎo)體復(fù)合、光敏化、強酸修飾等技術(shù)提高材料的光催化性能，制造出系列的除菌凈化劑。但是普遍存在光電轉(zhuǎn)化效率低、太陽光利用少、制作工藝復(fù)雜及工業(yè)化成本過高等問題。目前有關(guān)復(fù)合氧化物光催化性能的研究及半導(dǎo)體復(fù)合技術(shù)的應(yīng)用，使得光催化效率和太陽光利用問題得到改善，但是工業(yè)化成本卻更高，工藝也更復(fù)雜。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有TiO2除菌凈化劑效率低和其它復(fù)合氧化物抗菌凈化劑工藝復(fù)雜、價格高的缺點，通過不斷試驗改進，提供一種工藝簡單、成本較低的含有CdS和TiO2的復(fù)合除菌凈化劑的制作方法。該方法以CdS和TiO2為主要原料，經(jīng)過氣流磨磨細、拌和即得到一種高效低成本的抗菌凈化劑。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的一種復(fù)合除菌凈化劑的制作方法，其制作方法是先將質(zhì)量比1∶1～5的CdS和TiO2同時通入氣流磨；經(jīng)過氣流磨磨細、混合加工成粒徑在10～50納米之間的混合物粉體，即為最終產(chǎn)品。
所述的CdS為工業(yè)級CdS，TiO2為金紅石型工業(yè)級TiO2。
本發(fā)明的優(yōu)點與效果是本發(fā)明以CdS和TiO2為原料，其制作工藝簡單、原料易得、成本低、除菌凈化效果好。
具體實施例方式
實施例1將質(zhì)量比1∶1的CdS和TiO2同時通入氣流磨，經(jīng)過氣流磨磨細、混合加工為粒徑在10～50納米之間的混合物粉體。在抗菌凈化劑表面抗菌率可以達到97.9％，有害氣體分解率達到99.1％。
實施例2將質(zhì)量比1∶3的CdS和TiO2同時通入氣流磨，經(jīng)過氣流磨磨細、混合加工為粒徑在10～50納米之間的混合物粉體。在抗菌凈化劑表面抗菌率可以達到95.6％，有害氣體分解率達到97.5％。
實施例3將質(zhì)量比1∶5的CdS和TiO2同時通入氣流磨，經(jīng)過氣流磨磨細、混合加工為粒徑在10～50納米之間的混合物粉體。在抗菌凈化劑表面抗菌率可以達到92.7％，有害氣體分解率達到95.5％。
權(quán)利要求
1.一種復(fù)合除菌凈化劑的制作方法，其特征在于其制作方法是先將質(zhì)量比1∶1～5的CdS和TiO2同時通入氣流磨；經(jīng)過氣流磨磨細、混合加工成粒徑在10～50納米之間的混合物粉體，即為最終產(chǎn)品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合除菌凈化劑的制作方法，其特征在于所述的CdS為工業(yè)級CdS，TiO2為金紅石型工業(yè)級TiO2。
全文摘要
一種復(fù)合除菌凈化劑的制作方法，涉及一種除菌凈化劑的制作方法，該方法為先將質(zhì)量比1∶1～5的CdS和TiO
文檔編號A01P3/00GK1883272SQ20061004660
公開日2006年12月27日 申請日期2006年5月22日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月22日
發(fā)明者周琳, 王國業(yè) 申請人:沈陽建筑大學(xué)