專利名稱：石斛種植方法及種植裝置的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種石斛種植方法及種植裝置。
背景技術：
石斛屬氣生蘭科草本植物，俗稱吊蘭或黃草，石斛中的鐵皮石斛等具有極高的藥用價值，被稱作“軟黃金”或植物中的“大熊貓”。中華藥典《道藏》把它列為中華九大仙草之首，其所具有的滋陰生津、益五臟、清虛熱以及增強免疫功能和調節體內平衡等功能已被歷代藥典所記載。長期以來，由于對野生石斛的過度開采，野生石斛資源遭受嚴重破壞，目前我國政府已將野生石斛列入國家二類保護植物，因此國內鐵皮石斛資源奇缺。
目前各地相繼建立了石斛人工種植基地，大都采用大棚平面壟地種植或種植床平面種植等種植方式，現有種植技術普遍存在產量低、易爛根、成活率不高、植株透氣不好、質量不佳、易受病蟲害、易受水災、難管理等諸多問題。究其原因，一是野生石斛的習性宜生長在溫暖、潤濕、少光照、適當透風、根系透氣好、排水好的環境中叢生；二是需要附著樹木、崖縫進行爬生或吊掛生長，終年飽云霧之滋潤，汲日月之精華，因此現有技術中的石斛平面種植方法與野生石斛的生長習性相距太大，種植效果不理想，很難進行集約化種植或農戶分散種植的推廣，難以解決市場對石斛質與量的需求問題。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種產量高、成活率高、產品質量好、管理科學方便的石斛種植方法，并提供一種適合該種植方法的種植裝置。
為解決上述技術問題，本發明采用以下技術方案一種石斛種植方法，包括以下步驟a、制作種植支架，所述種植支架至少包括一側具有一定坡度的支撐斜面，每個支撐斜面上設置兩個以上活動式種植橫槽，每個活動式種植橫槽沿著支撐斜面呈階梯放置；b、在每個活動式種植橫槽內放置培養土，并將石斛種苗種植在培養土中；c、在種植支架的上方設置塑料大棚和遮陽布；d、在種植支架的上方設置滴水裝置或噴淋裝置。
上述技術方案的進一步改進，還可以包括在大棚內設置水霧發生器。
本發明提供的石斛種植裝置，包括種植支架、活動式種植橫槽，所述種植支架至少包括一側具有一定坡度的支撐斜面，每個支撐斜面上設置兩個以上活動式種植橫槽，每個活動式種植橫槽沿著支撐斜面呈階梯放置。
本發明的有益效果是上述技術方案中，由于采用種植支架進行架空種植，并采用活動式種植橫槽呈階梯放置、噴淋(或滴水)、遮陽布調光、通風、保濕、保溫等措施，能夠滿足石斛在仿自然環境中生長的需要，因此有效解決了石斛在平面種植中遇到的通風差、成活率低、病蟲害防治難、產品質量差等問題。本發明種植方法具有管理科學、操作方便、成活率高、成品率高、產品質量佳、生長快、可控性強等優點，并能做到對病蟲害的及時發現，及時進行防病治病(便于隔離)。既適應于石斛集約化種植，又能適應中小型或分散農戶的種植，是一種較為理想的石斛種植方法，便于推廣應用，可大幅節約用地面積，具有可觀的經濟性和前瞻性。
下面結合附圖和具體實施方式
對本發明作進一步的描述。
圖1是本發明石斛種植裝置一種實施例的總體結構示意主視圖。
圖2是圖1中石斛種植裝置的其中一側立體結構示意圖。
具體實施例方式
如圖1、圖2所示，本發明石斛種植裝置的一種實施例，包括種植支架1、活動式種植橫槽2，所述種植支架1由兩個三角形支撐腳相連接組成，兩個三角形支撐腳的兩斜邊分別構成兩側具有一定坡度的支撐斜面3，每個支撐斜面3上設置5～10個活動式種植橫槽2，每個活動式種植橫槽2沿著支撐斜面呈階梯放置，所述三角形支撐腳的高度為80～200cm，底部寬度為60～100cm，兩個三角形支撐腳之間的距離為60～500cm，所述活動式種植橫槽2的截面為梯形或矩形，長度為80～600cm，高度為8～15cm，開口寬度為10～25cm，種植橫槽2的側面和底面分別設置若干個孔4。
本發明石斛種植方法包括以下步驟a、制作種植支架，所述種植支架由兩個三角形支撐腳相連接組成，兩個三角形支撐腳的兩斜邊分別構成兩側具有一定坡度的支撐斜面，每個支撐斜面上設置5～10個活動式種植橫槽，每個活動式種植橫槽沿著支撐斜面呈階梯放置，所述三角形支撐腳的高度為80～200cm，底部寬度為60～100cm，兩個三角形支撐腳之間的距離為60～500cm，所述活動式種植橫槽的截面為梯形或矩形，長度為80～600cm，高度為8～15cm，開口寬度為10～25cm，種植橫槽的側面和底面分別設置若干個孔，農戶小型種植可視場地大小確定種植支架的數目，集約化種植可按每100～200m2為一塊，每塊設5～20行，每行設5～20個種植支架進行規范管理；b、在每個活動式種植橫槽內放置培養土，并將石斛種苗種植在培養土中，每個活動式種植橫槽內種植8～70叢石斛種苗，每叢3～5株；c、在種植支架的上方設置塑料大棚和遮陽布，塑料大棚用以控制通風和保溫，遮陽布用以控制透光，透光率控制在25～35％，在山區冬季的霜凍期可在大棚內設置取暖保溫裝置或采用雙層保溫；d、在種植支架的上方設置滴水裝置或噴淋裝置，以便對種植橫槽進行滴水或噴淋，誘使石斛的植株向斜上方的空間生長或掛生，促使根系向橫向交叉發展，使石斛的根系能夠充分吸收空氣中的有效養分，在仿自然環境的條件下得到充分生長；e、可以在大棚內設置水霧發生器，以便進行人工造霧，為石斛提供更加理想的生長環境；f、可以設置種植管理房，用于對石斛的抽樣觀察和實驗；g、可以設置病蟲害防治管理房，專門用于病蟲害的防治，對出現嚴重病蟲害的石斛，可及時將其從種植支架上取下移到該房內進行治療，并能達到隔離的目的，可以防止病蟲害的蔓延。
權利要求
1.一種石斛種植方法，其特征在于包括以下步驟a、制作種植支架，所述種植支架至少包括一側具有一定坡度的支撐斜面，每個支撐斜面上設置兩個以上活動式種植橫槽，每個活動式種植橫槽沿著支撐斜面呈階梯放置；b、在每個活動式種植橫槽內放置培養土，并將石斛種苗種植在培養土中；c、在種植支架的上方設置塑料大棚和遮陽布；d、在種植支架的上方設置滴水裝置或噴淋裝置。
2.根據權利要求1所述的石斛種植方法，其特征在于還包括在大棚內設置水霧發生器。
3.根據權利要求1或2所述的石斛種植方法，其特征在于所述種植支架由兩個三角形支撐腳相連接組成，兩個三角形支撐腳的兩斜邊分別構成兩側具有一定坡度的支撐斜面，每個支撐斜面上設置5～10個活動式種植橫槽。
4.根據權利要求3所述的石斛種植方法，其特征在于所述三角形支撐腳的高度為80～200cm，底部寬度為60～100cm，兩個三角形支撐腳之間的距離為60～500cm。
5.根據權利要求4所述的石斛種植方法，其特征在于所述活動式種植橫槽的截面為梯形或矩形，長度為80～600cm，高度為8～15cm，開口寬度為10～25cm，種植橫槽的側面和底面分別設置若干個孔。
6.一種石斛種植裝置，其特征在于包括種植支架(1)、活動式種植橫槽(2)，所述種植支架至少包括一側具有一定坡度的支撐斜面(3)，每個支撐斜面(3)上設置兩個以上活動式種植橫槽(2)，每個活動式種植橫槽(2)沿著支撐斜面(3)呈階梯放置。
7.根據權利要求6所述的石斛種植裝置，其特征在于所述種植支架(1)由兩個三角形支撐腳相連接組成，兩個三角形支撐腳的兩斜邊分別構成兩側具有一定坡度的支撐斜面(3)，每個支撐斜面(3)上設置5～10個活動式種植橫槽(2)。
8.根據權利要求7所述的石斛種植裝置，其特征在于所述三角形支撐腳的高度為80～200cm，底部寬度為60～100cm，兩個三角形支撐腳之間的距離為60～500cm。
9.根據權利要求8所述的石斛種植裝置，其特征在于所述活動式種植橫槽(2)的截面為梯形或矩形，長度為80～600cm，高度為8～15cm，開口寬度為10～25cm，種植橫槽(2)的側面和底面分別設置若干個孔(4)。
全文摘要
本發明公開了一種產量高、成活率高、產品質量好、管理科學方便的石斛種植方法及適合該種植方法的種植裝置，其種植方法包括a.制作種植支架，種植支架上設置活動式種植橫槽；b.在每個活動式種植橫槽內放置培養土，并將石斛種苗種植在培養土中；c.在種植支架的上方設置塑料大棚和遮陽布；d.在種植支架的上方設置滴水裝置或噴淋裝置，其種植裝置包括種植支架、活動式種植橫槽，所述種植支架至少包括一側具有一定坡度的支撐斜面，每個支撐斜面上設置兩個以上活動式種植橫槽，每個活動式種植橫槽沿著支撐斜面呈階梯放置。
文檔編號A01G31/00GK101091432SQ20061002811
公開日2007年12月26日 申請日期2006年6月22日 優先權日2006年6月22日
發明者周朝順, 周朝哲 申請人:周朝順, 周朝哲