表膜構件框體、表膜構件和表膜構件框體的使用方法

專利名稱：表膜構件框體、表膜構件和表膜構件框體的使用方法
技術領域：
本發明涉及作為表膜構件(pellicle)的構成構件的框體、特別是作為長邊長度大于1400_的超大型表膜構件的構成構件的表膜構件框體及使用了表膜構件框體的表膜構件和表膜構件框體的使用方法，上述表膜構件用于防止在制造構成LSI、液晶顯示器(IXD)的薄膜晶體管(TFT)、濾色片(CF)等時的光刻工序所用的光掩模、中間掩模(reticIe)上附著異物。
背景技術：
本發明是涉及作為表膜構件的構成構件的框體和表膜構件的技術，首先說明表膜構件。以往，在制造半導體電路圖案等時，使用通常被稱作表膜構件的防塵部件來防止異物附著于光掩模、中間掩模上。表膜構件是這樣形成的在形狀與例如光掩模或中間掩模的形狀相匹配的、厚度為幾毫米左右的框體的上表面上鋪展并粘接厚度為10 μ m以下的硝酸纖維素或纖維素衍生物(cellulose derivative)或氟系聚合物等透明的高分子膜(以下稱作“表膜”)，且在該框體的下表面上涂覆粘合材料，并且以規定的粘接力在該粘合材料上粘接保護膜，從而形成表膜構件。上述粘合材料用于將表膜構件粘著于光掩模或中間掩模上，另外，保護膜用于保護該粘合材料的粘接面，以在該粘合材料被用于上述用途之前維持該粘合材料的粘接力。通常,該種表膜構件由制造表膜構件的生產商供應給制造光掩模或中間掩模的生產商，光掩模或中間掩模的生產商將表膜構件粘貼在光掩模或中間掩模上之后再供應給半導體生產商、面板生產商等進行光刻處理的生產商。近年來，隨著各種多媒體的推廣，需要高畫質、能夠高精度地顯示的大型的彩色TFTIXD (薄膜晶體管液晶顯示器)。相應地，人們希望開發出一種能夠應用于在光刻工序中使用的大型的光掩模、中間掩模的大型的表膜構件。作為能夠應用于在大型的TFTIXD (薄膜晶體管液晶顯示器)等的光刻工序中使用的大型的光掩模、中間掩模中的表膜構件的框體，通常是具有長邊和短邊的矩形的框體。在將表膜粘貼在該框體上時，框體的邊因該表膜的張力而向內側變形，該變形有時使光掩模、中間掩模的有效曝光區域減小，隨著表膜的鋪展面積的增大(表膜變大)，上述的有效曝光區域減小的現象越加明顯。針對該現象，在極力維持住表膜構件框體的內側面積(以下稱作有效面積)的狀態下提高表膜構件框體的剛性，能夠防止上述現象發生(例如參照專利文獻I)。專利文獻I :日本國特開2001-109135號公報但是，隨著近年來的進一步大型化而產生了新的問題。
該問題是近年來的進一步大型化要求光掩模、中間掩模(以下簡稱作掩模)本身也大型化，由此出現了在以往的掩模大型化中未構成問題的、因掩模本身進一步大型化而導致掩模因自身的重量增加而發生撓曲的問題。S卩，由于表膜構件在與掩模緊密接觸的狀態下使用，因此，在表膜構件不能追隨掩模的撓曲的情況下，掩模與表膜構件的粘貼面剝離，在掩模與表膜構件之間產生氣體通路，存在不能獲得想要利用表膜構件獲得的效果。特別是，在操作工序方面，針對被粘接在掩模等上之后的表膜構件，多數情況下是把持掩模的短邊側部分而對表膜構件進行處理，因此要求表膜構件的框體追隨長邊側的掩模等的撓曲。如上所述，在以往的表膜構件的大型化中，針對防止表膜構件自身撓曲的這一問題，將提高表膜構件的剛性作為解決方案，但是表膜構件的進一步大型化(超大型化)不僅需要提高表膜構件的剛性，還需要使表膜構件追隨粘貼有該表膜構件的掩模因本身的大型化而導致的自身的撓曲、特別是在操作工序上追隨長邊側的撓曲。換言之，可以說要求超大 型化的表膜構件兼具剛性和柔軟性這兩者。這樣，掩模的超大型化使應用于該種掩模的超大型表膜構件產生了新的問題。

發明內容
本發明的目的在于解決由表膜構件的超大型化產生的新的問題，第一技術方案的目的在于提供這樣的表膜構件框體在將表膜鋪展并粘接于表膜構件框體上時該框體不會變形，此外，在將表膜構件粘貼在掩模上后，表膜構件框體自身也能追隨掩模因自身的重量而產生的撓曲。此外，在超大型表膜構件中同時也謀求下述特性在進行從將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上后到將表膜構件粘貼于掩模上的期間內的處理時，框體也不會變形。第二技術方案的目的在于提供這樣的表膜構件框體在將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上時，框體不會變形，而且在進行從將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上后到將該表膜構件粘貼于掩模上的期間內的處理時，框體也不會變形，此外在將表膜構件粘貼在掩模上之后，表膜構件框體自身也能追隨掩模因自身的重量而產生的撓曲。為了達到上述目的，本發明人進行了潛心研究，結果發現通過限定超大型表膜構件框體的應變度α、追隨度β，能夠達到上述目的，由此提出了本發明中的第一技術方案。另外，本發明人發現通過相對于表膜構件框體的長邊Ia的寬度Wa以指定的比例增大短邊Ib的寬度Wb，能夠達到上述目的，由此提出了本發明中的第二技術方案。S卩，本發明如下所述。(I)一種表膜構件框體，其為矩形，該表膜構件框體的應變度α為O. 06%以下，下述通用式(I)所示的該表膜構件框體的各邊的追隨度β為3mm以上，該表膜構件框體的長邊的追隨度β為32mm以下，且框體的長邊長度為1400mm 2100mm，并且該表膜構件框體的內側面積為15000cm2以上。β= (I/表膜構件的撓曲量)X厚度X寬度 (I)(2)根據第(I)技術方案所述的表膜構件框體，該表膜構件框體的短邊寬度是長邊寬度的I. 05倍 I. 50倍。(3) 一種表膜構件框體,其為矩形，該表膜構件框體的長邊寬度Wa為13. Omm 30. 0mm，短邊寬度Wb與長邊寬度Wa之比Wb/Wa為1.05 I. 50，長邊長度為1400mm 2100mm,框體的內側面積為16000cm2以上。(4)根據第(I) (3)技術方案中任意一項所述的表膜構件框體,構成該表膜構件框體的材料是鋁或鋁合金。(5)根據第(I) (4)技術方案中任意一項所述的表膜構件框體,對表膜構件框體的表面實施鋁鈍化處理、黑色化處理以及封孔處理，該封孔處理是對因進行了鋁鈍化處理而形成的微小的孔的開口部實施的處理，從而實際上在該表面上不存在微裂紋(micro-crack)。(6)—種表膜構件,其是通過將表膜鋪展在第(I) (5)技術方案中任意一項所述的表膜構件框體上而獲得的該表膜構件。(7) 一種表膜構件框體的使用方法,分別把持第(6)技術方案所述的表膜構件的、表膜構件框體的相對的一組短邊中的各短邊的至少一處，將表膜構件粘貼在掩模上，之后 將粘貼有該表膜構件的掩模使用于曝光處理。本發明的表膜構件框體具有適度的剛性和柔軟性，因此，在將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上時，框體不會變形，而且也不會減小表膜構件的以內側面積計的有效曝光區域。此外，由于在將表膜構件粘貼在掩模上之后表膜構件也能追隨掩模的撓曲，因此也不會在掩模與表膜構件的粘接面上產生氣體通路。此外，采用第二技術方案，在進行從將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上之后到將表膜構件粘貼于掩模上的期間內的處理時，框體也不會變形。另外，本發明的表膜構件框體在超大型表膜構件的情況下效果顯著，詳細而言，在有效面積為15000cm2以上的超大型表膜構件的情況下，本發明的表膜構件框體能夠起到顯著的效果。


圖I是表示本發明的表膜構件框體和使用了該框體的表膜構件的結構的立體圖。圖2是圖I的表膜構件框體的與長邊的長度方向垂直的面的剖視圖。圖3是圖I的表膜構件框體的與短邊的長度方向垂直的面的剖視圖。圖4A是表示表膜構件框體的測量邊的初始長度的說明圖。圖4B是表示表膜構件框體被支承而發生了撓曲的狀態的說明圖。圖4C是表示表膜構件框體的測量邊的被支承后的長度的說明圖。圖5是表示將表膜構件框體支承在臺上的狀態的說明圖。
具體實施例方式下面，說明用于實施本發明的實施方式。下述實施方式是用于說明本發明的例示，并非意指本發明限定于下述內容。本發明的表膜構件框體的形狀是與掩模的形狀相似的矩形。表膜構件框體的長邊是指框體的最長邊，表膜構件框體的短邊是指框體的最短邊。更詳細而言，在表膜構件框體為長方形的情況下，正交的兩個邊中的相對較長的邊是長邊，相對較短的邊是短邊，在表膜構件框體為正方形的情況下，4個邊均為相同長度。在表膜構件框體為正方形的情況下，可以將任意的邊定義為長邊，將任意的邊定義為短邊。 應變度α以下述通用式(2)表示。該應變度α以下述方法測量。下面，使用圖4Α、圖4Β、圖4C、圖5說明應變度α的測量方法。首先，對將要測量應變度α的表膜構件框體I的一邊的長度(初始狀態的長度)LI(如圖4Α所示)進行測量。然后，如圖5所示，利用臺20支承表膜構件框體I的不測量應變度α的相對的兩個邊的下表面(不接觸上表面)。此時，從下方支承不測量應變度α的邊的整個長度，且支承表膜構件框體I的距端部15mm的部位。例如，在測量表膜構件框體I的短邊時，為了避免長邊撓曲，利用臺20從下方支承長邊的整個長度。在測量表膜構件框體I的長邊時，利用臺20從下方支承短邊的整個長度。在該狀態下保持10分鐘(如圖4B所示)，之后停止支承，將表膜構件框體筆直地靜置在平坦的臺上，10分鐘后再次測量要測量的一邊的長度(被支承后(施加有由自重產生的力之后)的長度)L2 (如圖4C所示)，根據下述式子算出被支承后的長度L2相對于初始狀態的長度L I的伸長率，以該伸長率作為應變度α。測量時的溫度為23. 8°C，相對濕度為74% RH。[(被支承后的長度L2/初始狀態的長度LI)-I]X 100 (%) (2)另外，由于矩形的表膜構件框體有4個邊，因此采用相同的方法測量各個邊，以應變度α最大的數值作為表膜構件框體的應變度α。另外，當邊的寬度在上表面和底面不同的情況下，將邊的寬度相對較寬的面置于下方而測量應變度α。表膜構件框體的應變度α的下限只要為0%以上即可，上限為O. 06%以下，優選為O. 02%以下，最優選為O. 01 %以下。另外，表示表膜構件框體對掩模的追隨的追隨度β以下述通用式(I)表示，表膜構件框體的各邊的β的下限為3mm以上，更優選為4mm以上，該表膜構件框體的長邊的追隨度的上限為32mm以下，優選為25mm以下。表膜構件框體的短邊的追隨度優選為IOOmm以下，更優選為80mm以下，特別優選為50mm以下。β= (I/表膜構件的撓曲量)X厚度X寬度 (I)追隨度β的測量方法如下所述。首先，如圖5所示，利用臺20支承表膜構件框體I的不測量追隨度β的相對的兩個邊的下表面。此時，從下方支承不測量追隨度β的邊的整個長度，且支承表膜構件框體I的距端部15mm的部位。例如，在測量表膜構件框體I的短邊時，為了避免長邊撓曲，利用臺20從下方支承長邊的整個長度。在測量表膜構件框體I的長邊時，利用臺20從下方支承短邊的整個長度。在該狀態下保持10分鐘，之后如圖4B所示，對要測量的邊的最大撓曲部分相對于初始狀態的位置的變化量進行測量，將該變化量記作表膜構件的撓曲量Λ Τ。然后，用該撓曲量Λ T的倒數乘以要測量的邊的厚度和寬度，得出追隨度β。測量表膜構件框體I的所有邊的追隨度β。另外，當邊的寬度在上表面和底面不同的情況下，將邊的寬度相對較寬的面置于下方而測量追隨度β。在測量上述應變度α的同時測量追隨度β。該追隨度β是表示體現表膜構件框體能夠以何種程度追隨掩模的撓曲的柔軟性的指標。因而，可以說數值越小，追隨度越高，但在追隨度過高時，在鋪展表膜時、處理時會產生褶皺，因此必須將追隨度β控制在上述范圍內。另外，表膜構件框體的厚度的下限優選為4. Omm以上，更優選下限為5. Omm以上，特別優選為6. Omm以上。另一方面，該厚度的上限優選為IOmm以下，更優選為8mm以下，進一步優選為7mm以下，特別優選為6. 5mm以下。表膜構件框體的寬度優選為13mm以上,更優選為14mm以上,進一步優選為16mm以上。另一方面，該寬度的上限優選為30mm以下，更優選為25mm以下，進一步優選為19mm以下。另外，長邊和短邊可以是相同的寬度，也可以是分別不同的寬度。另外，例如如圖2、圖3所示，表膜構件框體的邊的寬度是指寬度Wa、Wb那樣的各邊的最大寬度。作為表膜構件框體的各邊的截面形狀，沒有特別限定，可以是矩形、H字形、T字形等，但最優選矩形。截面也可以是中空構造。本發明的表膜構件框體越是超大型，效果越明顯，詳細而言，在表膜構件框體的長邊長度為1400mm以上、特別是為1700mm 2100mm、表膜構件的有效面積為16000cm2以上、24000cm2以上、特別是為25000cm2以上的情況下，能夠起到顯著效果。另外，雖然本發明的表膜構件框體是表膜構件越大型越能起到顯著的效果，但是從用于制造TFTIXD的掩模等所要求的尺寸來看，框體的有效面積的上限為35000cm2就已足夠。另外，在長邊長度為1400mm以上的大型表膜構件中，為了提高處理工序中的自由度，優選只把持短邊側的兩個邊或長邊側的兩個邊的任意一方的邊而進行處理，特別是考慮到作業效率，優選把持短邊側的兩個邊的把持方法。在表膜構件框體的短邊寬度Wb與長邊寬度Wa之比Wb/Wa為1.05以上時，當以把持短邊側的兩個邊的把持方法進行處理時，能夠始終從剛性高的邊側把持，從而能夠抑制在處理時產生褶皺。能夠從表膜構件的寬幅的短邊方向進行該表膜構件的處理，把持時的把手部分較寬，也能提高方便性。從提高處理性的觀點出發，特別優選在表膜構件框體的短邊側形成把持用的凸部、凹部。另外，當Wb/Wa為I. 50以下時，即使在立起表膜構件框體的情況下(使長邊側與地面垂直、使短邊側與地面平行的情況)，由于能夠抑制長邊側變形，因此也能夠抑制產生褶皺。在表膜構件的有效面積為16000cm2以上那樣的超大型表膜構件中，為了提高作業效率，優選使表膜構件旋轉來對表膜表面進行異物檢查。屆時，雖然經由立起表膜構件框體的工序，但當Wb/Wa為I. 50以下時能夠抑制長邊側變形，因此能夠抑制在異物檢查工序等中表膜產生褶皺。表膜構件框體I的短邊Ib的寬度Wb、詳細而言短邊Ib的寬度Wb相對于長邊Ia的寬度Wa的比例(Wb/Wa)優選為I. 05以上，更優選為I. I以上，優選該比例的上限為I. 50以下，更優選為1.25以下，特別優選為1.2以下。作為構成本發明的表膜構件框體的材料，例如可以舉出機械構造用碳鋼(SC系列等)、工具鋼(碳工具鋼SK系列、高速工具鋼SKH系列、合金工具鋼SKS系列、SKD系列、SKT系列等)、馬氏體系不銹鋼系列(SUS403、SUS410、SUS410S、SUS420J1、SUS420J2、SUS429J1、SUS440A、SUS304 等)、鋁、鋁合金(5000 系、6000 系、7000 系等)等金屬、陶瓷(SiC、AlN、Al203等)、陶瓷和金屬的復合材料(Al-SiC、A1-A1N、Al-Al2O3等)，優選使用鋁、鋁合金，更詳細而言可以使用鋁和鎂的合金、鋁和鎂及硅的合金、鋁和鋅及鎂的合金。另外，由于上述各鋼材是磁性材料，因此，能利用磁鐵固定該各鋼材，特別是在大型表膜構件框體的情況下，能夠良好地進行加工作業，因此優選。也可以對表膜構件框體的表面實施黑色鍍鉻、黑色鈍化鋁、黑色涂裝等黑色化處理。其中，進一步說明上述處理中的黑色鈍化鋁。
作為表膜構件用的支承框，通常大多使用5000系的鋁合金，因此以鋁合金為例進行說明。通常的黑色鈍化鋁處理這樣實施在利用鋁合金成形出表膜構件支承框后，進行鋁鈍化處理，利用黑化劑對由該處理產生的微細孔進行封入處理，然后實施將該微細孔封閉起來的封孔處理。但是，當利用電子顯微鏡觀察上述那樣采用通常方法制成的支承框的表面時，發現有微細的裂紋(微裂紋)。在該微裂紋的圖案不斷微細化、布線寬度更窄時，進入到該裂紋中的極小的異物的落下也構成問題。作為防止該種微裂紋產生的方法，優選采用下述方法。首先，對表膜構件框體的表面進行鋁鈍化處理。以硫酸濃度為10 20%、電流密度為I 2A/dm2、電解液溫度為15 30°C、通電時間在10 30分鐘的范圍內的條件來進行
該鋁鈍化處理。屆時，在合金的表面有規則地形成有許多微小的孔(直徑力GO ~ 200A,間距為500 ~ 1500A>°之后，利用該孔進行黑色化處理。由于黑色化處理的目的是防止光自框反射，因此并不限定于黑色，也包括接近于黑色的茶色、藏藍色等深色。黑色化處 理可以舉出染色、電解著色等。染色是通過將框體浸潰在溶解有黑色染料的液體中而使該孔吸附染料由此獲得色調的方法，另外，電解著色是通過通電來使該孔析出金屬元素而獲得色調的方法。染色例如在染料濃度為3 10g/L、染色液溫度為50 65°C的條件下進行。接下來，進行將該孔封閉起來的封孔處理。在該處理中，使用的是添加有6 12g/L的例如被稱作低溫封孔劑的日華化學工業(株)制的Hardwall3 (,、一 K 才一;卩)(商品名)封孔助劑的煮沸水。利用此時的封孔處理來填埋鈍化鋁膜表面的微細孔，從而使鈍化鋁膜變得越來越致密，但是若能以比100°c稍低的溫度、例如70 95°C、更優選80 90°C的溫度來進行封孔處理，則能夠形成具有極均勻的表面性、實際上不存在微裂紋的表膜構件框體。另外，采用下述方法來判斷是否存在微裂紋在利用電子顯微鏡將支承框表面放大1000倍后得到的照片上畫出IOcm (實際尺寸為O. Imm)的直線，計算與該直線交叉的裂紋的數量。裂紋的數量是對裂紋的寬度為能在該電子顯微鏡照片上看到、即裂紋寬度為
O.I μπι以上的裂紋進行統計而得出的。該數值越大，判斷出裂紋越是高密度地存在的。也可以依據需要在表膜構件框體的內壁面或整個表面上涂覆用于捕捉異物的粘合材料(丙稀Ife系、醋Ife乙稀系、娃系、橡I父系等)、潤滑脂(娃系、氣系等)。另外，當依據需要而開設貫穿表膜構件框體的內部和外部的微細孔、從而消除由表膜構件和光掩模形成的空間中的內外氣壓差時，能夠防止膜鼓出、凹陷。另外，此時若在微細孔的外側安裝去除異物過濾器，除了能夠調整氣壓，還能防止異物進入到由表膜構件和光掩模形成的空間中，因此優選在微細孔的外側安裝去除異物過濾器。在由表膜構件和光掩模形成的空間的容積較大的情況下，當設置多個上述孔、過濾器時，能夠縮短由氣壓變動而導致的膜的鼓出、凹陷的恢復時間，因此優選設置多個上述孔、過濾器。本發明的表膜構件框體通過滿足上述要件而能夠兼具適度的剛性和柔軟性，因此不會因鋪展表膜而使框體變形，當然，在單獨對該表膜構件進行處理時該表膜構件也不會撓曲，而且在之后的將該表膜構件粘貼在掩模上后的處理中該表膜構件還能追隨掩模自身的撓曲。結果，表膜構件不會出現褶皺，且還能追隨掩模的撓曲，因此還能起到不會產生氣體通路這一優異效果。以上說明了本發明的表膜構件框體，但是通過將本發明的表膜構件框體形成為下述構造，能夠進一步提高作為表膜構件框體的可靠性。例如，在將圖I、圖2和圖3所示的表膜構件框體I的長邊Ia和短邊Ib形成為相同的寬度Wa、Wb的情況下，能夠獲得表膜2的粘接面IalUbl的寬度Wc、Wd之間滿足ffa=ffb>ffc=ffd的關系的構造。這樣，在采用表膜構件框體I的寬度Wa、Wb比粘接面的寬度Wc、Wd寬的構造時,能夠利用粘接劑涂覆裝置、例如X-Y分配機器人(dispenser robot)等定量地涂覆表膜2與表膜構件框體I的粘接劑，因此能夠將粘接劑均勻地涂覆于整個粘接面。另外，通過將粘接寬度設定得比框體I的寬度窄，能夠抑制粘接劑的涂覆不均、涂覆殘留，結果能夠防止異物堆積在與涂覆不均、涂覆殘留部分相對應的空間內。另外，當Wc=Wd時，不用在長邊和短邊改變涂覆量就能夠涂覆所有邊，因此優選Wc=WcL作為制造上述那樣的滿足Wa=Wb>Wc=Wd的關系的構造的方法，只要在表膜構件框 體I的表膜的粘接面側形成傾斜面，就能夠不形成臺階地形成傾斜面。另外，該傾斜面也可以是曲面狀。通過上述那樣在表膜構件框體I的寬度與表膜的粘接面的寬度之間設計可達到ffa=ffb>ffc=ffd的寬度差，也能獲得防止粘接劑溢出框體I的膜粘接面Ibl而下垂到框體I的內周部的效果。另外，以上說明的是Wa=Wb的情況，但即使表膜構件框體I的長邊Ia和短邊Ib不是相同的寬度Wa、Wb，只要滿足Wa>Wc、ffb>ffd的關系，則能夠獲得上述效果，另外，在Wc=Wd時，不用在長邊和短邊改變涂覆量就能夠涂覆所有邊，因此優選Wc=WcL第一技術方案的表膜構件框體能夠較佳地追隨該種光掩模光掩模的長邊長度為表膜構件框體的長邊長度以上且在表膜構件框體的長邊長度+150mm以下、且光掩模的短邊長度為表膜構件框體的短邊長度以上且在表膜構件框體的短邊長度+200mm以下。光掩模的厚度只要是在粘貼了表膜構件框體之后能夠承受表膜構件框體的重量(不損壞光掩模那樣的程度)的程度即可。作為光掩模的材質，可以使用堿石灰玻璃、無堿玻璃、低堿玻璃、石英玻璃等，無論光掩模是何種材質，第一技術方案的表膜構件框體都能良好地追隨該光掩模。以上說明了第一技術方案的表膜構件框體的結構。接下來，說明本發明的第二技術方案。首先說明第二技術方案的表膜構件框體I的寬度。圖2所示的表膜構件框體I的長邊Ia的寬度Wa的下限為13. Omm以上,優選下限為14. Omm以上,最優選為16. Omm以上。另一方面，該寬度的上限為30. Omm以下，優選上限為25. Omm以下，更優選上限為19. Omm以下。另外，例如如圖2、圖3所示，表膜構件框體的邊的寬度是指寬度Wa、Wb那樣的各邊的最大寬度。圖3所示的表膜構件框體I的短邊Ib的寬度Wb必須至少比長邊Ia的寬度Wa寬，詳細而言，短邊Ib的寬度Wb與長邊Ia的寬度Wa的比例(Wb/Wa)的下限為1.05以上，優選為I. I以上，該比例的上限為I. 50以下，優選為I. 25以下，最優選為I. 2以下。因而，表膜構件框體的短邊寬度Wb為13. 65mm 45. Omm的范圍內的值。
在長邊長度為1400mm以上的大型表膜構件中，為了提高處理工序中的自由度，優選只把持短邊側的兩個邊或長邊側的兩個邊的任意一方的邊而進行處理，特別是考慮到作業效率，優選把持短邊側的兩個邊的把持方法。在表膜構件框體的短邊寬度Wb與長邊寬度Wa之比Wb/Wa為I. 05以上時，當以把持短邊側的兩個邊的把持方法進行處理時，能夠始終從剛性高的邊側把持，從而能夠抑制在處理時產生褶皺。當能夠從表膜構件的寬幅的短邊方向進行該表膜構件的處理時，把持時的把手部分較寬，也能提高方便性。從提高可處理性的觀點出發，特別優選在表膜構件框體的短邊側形成把持用的凸部、凹部。另外，當Wb/Wa為I. 50以下時，即使在立起表膜構件框體的情況下(使長邊側與地面垂直、使短邊側與地面平行的情況)，由于能夠抑制長邊側變形，因此能夠抑制產生褶皺。在表膜構件的有效面積為16000cm2以上那樣的超大型表膜構件中，為了提高作業效率，優選使表膜構件旋轉而對表膜表面進行異物檢查。屆時，雖然經由立起表膜構件框體的工序，但由于當Wb/Wa為
I.50以下時能夠抑制長邊側變形，因此在異物檢查工序等中也能夠抑制表膜產生褶皺。另外，優選框體I的厚度為4. Omm以上,更優選為5. Omm以上,進一步優選為6. Omm·以上。另外，優選該厚度的上限為IOmm以下，更優選為8mm以下，進一步優選為7mm以下，最優選為6. 5mm以下。作為表膜構件框體的各邊的截面形狀，沒有特別限定，可以是矩形、H字形、T字形等，但最優選矩形。截面也可以是中空構造。本發明的表膜構件框體I越是大型，效果越明顯，詳細而言，在表膜構件框體I的長邊Ia的長度La為1400mm以上、特別是為1700mm 2100mm、且屆時的表膜構件的有效面積為16000cm2以上、24000cm2以上、特別是為25000cm2以上的情況下，能夠起到顯著效果。另外，雖然本發明的表膜構件框體I是越大型越能起到顯著的效果，但是從用于制造TFTIXD的掩模等所要求的尺寸來看，框體的有效面積的上限為35000cm2就已足夠。另外,在長邊長度為1400mm以上的大型表膜構件中,對于將表膜構件粘貼在掩模上之后的處理，在作業工序上，多數情況不是只把持掩模的短邊、而是一起把持掩模和表膜構件框體I的相對的一組短邊Ib中的、各短邊Ib的至少一處，當這樣操作時能夠提高作業效率，在該情況下由掩模的自重而產生的撓曲在長邊和短邊上是不同的。詳細而言，未把持的相對的長邊Ia方向上的掩模的撓曲變大。因此，要求表膜構件框體的撓曲追隨長邊方向的撓曲。第二技術方案的表膜構件框體也能充分地追隨具有該種特異性的掩模的撓曲。本發明的表膜構件框體通過滿足上述要件而能夠兼具適度的剛性和柔軟性，因此不會因鋪展表膜而使框體變形，當然，在單獨對該表膜構件進行處理時該表膜構件也不會撓曲，而且在之后的將該表膜構件粘貼在掩模上后的處理中該表膜構件還能追隨掩模自身的撓曲。結果，不會因在將表膜鋪展在表膜構件框體上時產生的表膜構件框體的變形而使表膜構件的有效面積減小，該表膜構件還能追隨掩模的撓曲，因此還能起到不會產生氣體通路的這一優異效果。此外，通過使短邊的寬度大于長邊的寬度，在處理表膜構件時能夠易于把持表膜構件框體的短邊側。結果，能夠易于從與處理掩模時的把持部分相同的一側處理表膜構件，從而能夠提聞作業效率。在本發明的表膜構件框體I中，也優選上述框體I的長邊Ia和短邊Ib的表膜2的粘接面lal、lbl的寬度Wc、Wd大致相等。這里所述的長邊Ia和短邊Ib的膜粘接面IalUbl的寬度Wc、Wd大致相等是指，使長邊Ia和短邊Ib的膜粘接面IalUbl的寬度Wc、Wd的差小于長邊Ia和短邊Ib的寬度Wa、Wb的差。S卩，如圖2和圖3的剖視圖所示，指Wb-Wa>Wd_Wc。通常，利用粘接劑涂覆裝置、例如X-Y分配機器人等涂覆表膜2與表膜構件框體I的粘接劑。在該情況下，由于長邊Ia和短邊Ib的每單位長度的粘接劑涂覆量相同，因此，若Wc〈Wd，在將表膜2粘貼在表膜構件框體I上時，長邊Ia上的粘接劑量較多，粘接劑有時溢出框體I的膜粘接面Ial而下垂到框體I的內周部。另外，短邊Ib上的粘接劑量不夠充分，粘接劑不能在膜粘接面Ibl的整個表面上均勻擴展開，在內側、在表膜2與表膜構件框體I之間產生狹窄的間隙，異物有時被夾在該間隙中。從該觀點出發，通過如上所述那樣使長邊Ia和短邊Ib的膜粘接面IalUbl的寬度Wc、Wd大致相等，即使采用以往那樣的簡單的粘接劑涂覆裝置，也能獲得更加優選的表 月吳構件。作為使長邊Ia和短邊Ib的膜粘接面IalUbl的寬度Wc、Wd大致相等的方法，只要在表膜構件框體的至少框體I的長邊Ia的表膜2的粘接面側形成傾斜面，就能夠不形成臺階地形成傾斜面，從而能夠防止異物堆積在表膜構件框體中。另外，該傾斜面也可以是曲面狀。另外，通過設置該傾斜面，能夠防止粘接劑下垂到框體的內周部。優選傾斜面是不會影響表膜構件框體的剛性、柔軟性那樣程度的大小。接下來，說明如下所述那樣做成在上述本發明的第一技術方案和第二技術方案的表膜構件框體的內側面積為16000cm2以上的超大型表膜構件框體上鋪展并粘接表膜而獲得的超大型表膜構件。作為表膜，可以使用纖維素衍生物(硝基纖維素、醋酸纖維素、醋酸丙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素等，或這些中的2種以上的混合物)、氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六氟丙烯三元共聚物、主鏈中具有環狀結構的聚合物即DUPONT公司制的Teflon AF(商品名)、旭硝子公司制的CYTOP (商品名)、r >> '7' * >卜公司制的Algoflon (商品名)等)等聚合物等。表膜例如使用由聚合物溶液成膜形成的薄膜。該薄膜具有張力。另一方面，為了防止表膜撓曲或產生褶皺，該張力是必需的。若表膜撓曲或產生褶皺，在想要通過鼓風而將附著在表膜上的異物去除時，該表膜會大幅度地振動，很難去除上述異物。另外，由于表膜的高度在不同的位置是不同的，因此表膜的異物檢查機不能正常地發揮作用。另外，存在以光學方法測量表膜的高度時產生誤差等問題。對于現在所用的一次曝光液晶曝光機的光源即超高壓水銀燈，從提高耐光性、節省成本的觀點出發，優選使用醋酸丙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素。表膜的膜厚優選為O. 5 μ m 10 μ m左右,在本發明的大型表膜構件中，從表膜的強度、均勻的膜的制作難易度方面出發，優選表膜的膜厚為2 μ m 8 μ m。利用上述聚合物所分別適用的溶劑(酮系、脂系、乙醇類、氟系等)將該聚合物形成為聚合物溶液。相對于上述醋酸丙酸纖維素、醋酸丁酸纖維素，優選使用乳酸乙酯等酯系。依據需要利用深度過濾器(depth filter)、膜式過濾器(membrane filter)等過濾聚合物溶液。聚合物溶液的成膜法有旋涂法、滾涂法、刮刀涂覆法、鑄涂法等，從均勻性、管理異物的方面出發，優選旋涂法。當利用旋涂法在成膜基板上成膜了之后，依據需要利用加熱板(hot plate)、潔凈烘箱(clean oven)、(遠)紅外線加熱等烘干溶劑,從而形成均勻的膜。作為此時的成膜基板，利用合成石英、熔融石英、無堿玻璃、低堿玻璃、鈉鈣硅酸鹽玻璃等。由于本發明的大型表膜構件的成膜用基板的尺寸較大，因此有時因為烘干時的溫度不均而使成膜基板斷裂。為了防止該情況發生，優選成膜用基板的熱膨脹系數越小越好。特別是，優選0°c 300°C的線膨脹系數為50X10_7m/°C以下。另外，利用硅系、氟系等的材料對成膜用基板的表面預先實施分型處理較好。另夕卜，優選在上述表膜的單側或兩側形成折射率比該表膜低的層(即防反射層)，從而能夠提高相對于曝光光線的透過率。作為防反射層的材料，可使用氟系聚合物(四氟乙烯-偏氟乙烯-六氟丙烯三元共 聚物、主鏈中具有環狀結構的聚合物即DUPONT公司制的Teflon AF(商品名)、旭硝子公司制的CYT0P(商品名)、7 ^ ^ 'y卜公司制的Algoflon(商品名)、聚氟代丙烯酸酯等)、氟化鈣、氟化鎂、氟化鋇等低折射率的材料。在防反射層為聚合物的情況下，可以同樣采用上述的旋涂法來形成該防反射層，在防反射層為無機物的情況下，可以采用真空蒸鍍、濺射等薄膜形成法來形成該防反射層。考慮到異物，優選采用聚合物溶液的旋涂法。優選使用杜邦公司· #>社)生產的特氟隆AF ( f 7 口 > AF)(商品名)、奧斯蒙公司(r >>夕 >卜''社)生產的Algoflon ( 了 A
7 口 >)(商品名)，這是因為這些材料的折射率小，所以防反射效果好。可以利用在鋁合金、不銹鋼、樹脂等上粘貼粘合材料而形成的模板將利用上述方法形成在成膜基板上的表膜從成膜基板上剝下，改貼在期望的表膜構件框體上。另外，也可以在將期望的表膜構件框體粘接于成膜基板上之后從成膜基板上剝下該表膜構件框體。這樣獲得的大型表膜對表膜構件框體施加張力而在粘接劑的作用下粘接于框體上。當膜的張力在適度的范圍內時,能夠抑制大型表膜因自重、大型表膜的內外氣壓差而沿大型表膜的膜表面的鉛垂方向膨脹、凹陷，從而能夠防止曝光不良。另外，能夠解決在通過鼓風去除附著在表膜上的異物時、該表膜大幅度地振動而很難去除異物這樣的問題，還能解決由于表膜的高度因位置的不同而不同所導致的該表膜的異物檢查機不能正常發揮作用這樣的問題，還能解決當以光學方法測量表膜的高度時產生誤差這樣的問題。另外，能夠確保相對于大型表膜構件的內外的氣壓變動的追隨性能。用于粘接表膜和表膜構件框體的膜粘接劑根據表膜的材質和表膜構件框體的材質而適當選擇。例如，可以使用環氧系、丙烯系、硅系、氟系等粘接劑。另外，粘接劑的硬化方法可以采用各種粘接劑所適用的硬化方法(熱硬化、光硬化、厭氧硬化等)。從發塵性、成本、可操作性的方面出發，優選使用丙烯系的紫外線硬化型粘接劑。作為用于將表膜構件框體粘貼在光掩模上的掩模粘合材料，可以應用本身具有粘接力的熱熔系(橡膠系、丙烯系)材料、在基材的兩面涂覆粘合材料而形成的帶類材料(作為基材，可以應用丙烯系、PVC系等片材或橡膠系、聚烯烴系、聚氨酯系等泡沫等，作為粘合材料，可以應用橡膠系、丙烯系、硅系等粘合材料)等。在本發明的大型表膜構件中，作為掩模的粘合材料，為了能夠以低負荷將表膜構件均勻地粘貼在掩模上，優選使用比較柔軟的熱熔材料、泡沫。在使用泡沫的情況下，利用丙烯系、醋酸乙烯系的粘合性材料或非粘合性材料來覆蓋該泡沫的截面，從而能夠防止自泡沫發塵。掩模的粘合材料的厚度通常為O. 2mm以上，但為了能夠將表膜構件均勻地粘貼在光掩模上，優選該厚度為Imm以上。為了在將表膜構件粘貼于光掩模之前的期間內保護上述掩模的粘合材料的粘接面，使用以硅系、氟系材料分型處理后的聚酯薄膜作為掩模的粘合材料。用于輸送表膜構件的殼體通過對丙烯系、ABS系、PVC系、PET系等的材料進行注塑成形、真空成形而做成。為了防止上述材料帶電，可以在上述材料中混煉入防帶電劑，也·可以使用具有防帶電構造的聚合物(々 > 〃公司生產的BAYON (商標)、旭化成公司生產的ADION (商標))。為了防止殼體在輸送過程中變形而損壞殼體內的表膜構件，本發明的超大型表膜構件用的殼體優選在殼體的蓋、盤或殼體的兩側設置加強筋構造，以提高對外力的抵抗性。另外，需要一種能夠實現下述目的的方法除了能夠可靠地把持表膜構件框體，還能在之后的從收納容器取出表膜構件時不使框體撓曲、扭轉地取出框體的方法。并且，特別是對于表膜構件本身較大、處理也較為困難的大型表膜構件來說，需要一種能夠實現下述目的的方法能夠在收納、搬運、保管該表膜構件時可靠地把持該表膜構件，而且在從收納容器取出該表膜構件時，能夠不使表膜構件從保護膜與粘合材料的界面發生變形、撓曲地取出該表膜構件，從而能夠在取出后將該表膜構件直接粘貼于掩模等上。于是，為了不受光掩模的制約，通過在表膜構件框體的所有邊部上分別形成把持用的凸部或凹部，能夠把持最長邊的長度為I. 4m 2. Om的大型表膜構件。特別是，在第二技術方案中，由于短邊側的寬度大于長邊側的寬度，因此易于在短邊側形成把持用的凸部、凹部。第二技術方案的表膜構件框體能夠較佳地追隨下這樣的光掩模，該光掩模的長邊長度為表膜構件框體的長邊長度以上且在表膜構件框體的長邊長度+150mm以下,該光掩模的短邊長度為表膜構件框體的短邊長度以上且在表膜構件框體的短邊長度+200mm以下的光掩模。光掩模的厚度只要是在粘貼了表膜構件框體之后能夠承受表膜構件框體的重量(不損壞光掩模那樣的程度)的程度的厚度即可。作為光掩模的材質，可以使用堿石灰硅酸鹽玻璃、無堿玻璃、低堿玻璃、石英玻璃等，但無論光掩模是何種材質，第二技術方案的表膜構件框體都能良好地追隨該光掩模的撓曲。接下來，利用實施例更加詳細地說明本發明。實施例第一技術方案的實施例實施例I 99、比較例I 71超大型表膜構件用框體I的長邊Ia的長度(La)、短邊Ib的長度(Lb)、框體的內側面積(有效面積)及框體的厚度如表I 表9所示。另外，表膜構件框體的長邊Ia的寬度(Wa)、短邊Ib的寬度(Wb)如表I 表9所示。
另外，表膜構件框體的材質均使用鋁合金，框體的截面形狀為長方形。并且，所用的表膜構件框體是實施了黑色鋁鈍化處理的沒有微裂紋的框體。使用上述那樣的框體評價了實際的表膜構件的性能。詳細內容如下所述。作為表膜，將纖維素酯的聚合物溶液涂覆在低堿玻璃上，利用旋涂法形成主膜。然后，同樣地使用在該主膜上利用旋涂法涂覆氟系聚合物溶液而形成有防反射層的、厚度為4 μ m的表膜。將獲得的表膜鋪展并粘接在上述表膜構件框體上。在這里，評價了在將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上時是否產生褶皺(鋪展膜時的褶皺產生結果)。評價結果如表I 表9所示。在評價結果的標記中，“〇”表示完全沒 有褶皺的狀態，“Λ”表示在仔細觀察膜時發現有少量波紋的狀態，“ X ”表示有少量褶皺的狀態。然后，將鋪展并粘接有表膜的表膜構件框體粘貼在石英玻璃上。此時的掩模粘合材料均使用厚度為I. 2mm的苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯共聚物的橡膠系熱熔粘合材料，在表膜構件框體的掩模粘接面上涂覆該熱熔粘合材料，然后將表膜構件框體粘貼在石英玻璃的規定位置上。另外，各構件在使用前進行了超聲波清洗。另外，石英玻璃的尺寸是石英玻璃的長邊為所粘接的表膜構件的長邊長度+50mm，石英玻璃的短邊為所粘接的表膜構件的短邊長度+100_。所用的石英玻璃的尺寸和厚度如表17所示。此外，關于表膜構件框體的柔軟性，通過測量表膜構件對掩模的追隨度而進行了評價。在使掩模的粘貼有表膜構件的面朝下地把持掩模的兩個短邊的狀態下使粘貼在掩模上的表膜構件懸浮在空中而放置，評價表膜構件追隨掩模因自重而產生的撓曲的追隨度。評價結果如表I 表9所示。追隨度的評價基準是，將在粘貼于掩模后的一年內沒有變化的情況評價為“〇”，將粘接部分稍微翹起的情況評價為“Λ”，將產生了氣體通路的情況評價為“ X ”。另外，使用與上述框體相同規格的表膜構件框體以與上述條件相同的條件另外制作將表膜鋪展并粘接在該框體上而成的樣品，使用該樣品，把持長邊地用上述測量條件測量了相同邊的應變度α和追隨度β，結果綜合參照表I 表9。綜合評價中，將“追隨度的評價結果”、“鋪展膜時的褶皺產生結果”均為“〇”的情況評價為“◎”、將上述兩項中即使有一項為“Λ”的情況評價為“〇”，將上述兩項中即使有一項為“ X ”的情況評價為“ X ”。第二技術方案的實施例首先，說明本發明的表膜構件框體的評價方法。本發明的表膜構件框體兼具適度的剛性和柔軟性，關于剛性，通過以目測的方式判斷在將表膜鋪展在表膜構件框體上時是否產生了褶皺以及在之后處理表膜構件時是否產生了褶皺來進行評價，關于柔軟性，在使掩模的粘貼有表膜構件的面朝下地把持掩模的兩個短邊的狀態下使粘貼在掩模上的表膜構件懸浮在空中而放置，評價表膜構件追隨掩模因自重而產生的撓曲的追隨度。實施例100 197、比較例72 141實施例和比較例所用的超大型表膜構件用框體I的長邊Ia的長度(La)、短邊Ib的長度(Lb)、框體的內側面積(有效面積)如表10 表16所不。另外,表膜構件框體的長邊Ia的寬度(Wa)、短邊Ib的寬度(Wb)和表膜構件框體的厚度也如表10 表16所示。另外，表膜構件框體的材質均使用鋁合金，框體的截面形狀為長方形。并且，所用的表膜構件框體是實施了黑色鈍化鋁的沒有微裂紋的框體。使用上述那樣規格的表膜構件用框體來實際評價了性能。作為表膜，將纖維素酯的聚合物溶液涂覆在低堿玻璃上，利用旋涂法形成主膜。然后，同樣地使用在該主膜上利用旋涂法涂覆氟系聚合物溶液而形成有防反射層的、厚度為4μπι的表膜。將獲得的表膜鋪展并粘接在上述表膜構件框體上。另外，表膜構件框體的處理均是通過把持一組短邊中的各個邊的一部分而實施的。在這里，評價了在將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上時是否產生了褶皺(鋪展膜時的褶皺產生結果)。評價結果如表10 表16所示。在評價結果的標記中，“〇”表示完全沒有褶皺的狀態，“Λ”表示在仔細觀察膜時發現有少量波紋的狀態，“ X ”表示在膜上有少量褶皺的狀態。然后，將鋪展并粘接有表膜的表膜構件框體粘貼在石英玻璃上。此時的掩模粘合材料均使用厚度為I. 2mm的苯乙烯乙烯丁烯苯乙烯共聚物的橡膠系熱熔粘合材料，在表膜構件框體的掩模粘接面上涂覆該熱熔粘合材料，然后將表膜構件框體粘貼在石英玻璃的規定位置上。另外，各構件在使用前進行了超聲波清洗。另外，石英玻璃的尺寸是石英玻璃的長邊為所粘接的表膜構件的長邊長度+50mm，石英玻璃的短邊為所粘接的表膜構件的短邊長度+100_。所用的石英玻璃的尺寸和厚度如表17所示。觀察上述那樣獲得的被粘貼在光掩模上的表膜構件的表膜的表面，也評價了在從將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上后到將該表膜構件粘貼在光掩模上的期間內的一連串的處理工序中是否產生了褶皺(因處理而產生的褶皺的產生結果)。這里，一連串的處理工序是指由組裝(表膜的鋪展、粘接)工序后的輸送工序一檢查工序一包裝工序一出廠工序一取出工序一將表膜構件粘貼在光掩模上的工序構成的處理工序。在組裝工序后的輸送工序中，使用工序內搬運用保持體以不會使表膜構件掉落那樣程度的把持力把持表膜構件框體的短邊側的4個角附近的部分，將表膜構件搬運至檢查工序。此時，以表膜構件的長邊與地面平行、短邊與地面垂直的狀態將該表膜構件搬運至檢查工序。在檢查工序中，經過一次繞表膜構件的水平軸線的上下旋轉、一次繞鉛垂軸線的左右旋轉、一次在以表膜的中心為軸線的表膜的平面上的90度旋轉地進行檢查。以表膜構件的長邊與地面平行、短邊與地面垂直的狀態將表膜構件搬運到包裝工序。在包裝工序中，以附帶著工序內搬運用保持體的狀態將表膜構件收納在表膜構件的收納容器中。然后，在收納容器的內部卸下工序內搬運用保持體，從而僅將表膜構件收納在收納容器中。在出廠工序中，以預計采用卡車輸送的通常輸送方式進行輸送。此時，將收納容器維持在水平狀態。在取出工序中，以表膜構件框體與地面水平的狀態自收納容器中取出表膜構件。在取出表膜構件時，以不會使表膜構件掉落那樣程度的把持力把持表膜構件框體的短邊側的4個角附近的部分。在將該表膜構件粘貼在光掩模上的工序中，在表膜構件框體與地面水平的狀態下以不會使表膜構件掉落那樣程度的把持力把持表膜構件框體的短邊側的4個角附近的部分，保持該狀態不變地借助表膜構件的掩模粘接劑將表膜構件粘貼在掩模上。在將表膜構件粘貼在掩模上之后，仍然以不會使表膜構件的外形改變的那樣的粘貼力牢靠地進行粘貼。評價結果如表10 表16所示。另外，評價基準與將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上時的評價基準相同。此外，以上述的對表膜構件對掩模的追隨度的評價條件評價了柔軟性。評價結果如表10 表16所示(追隨度的評價結果)。追隨度的評價基準是在將表膜構件粘貼在掩模上后，在使掩模的粘貼有表膜構件的面朝下地把持掩模的兩個短邊的狀態下使粘貼在掩模上的表膜構件懸浮在空中而放置，將在一年內沒有變化的情況評價為“〇”，將粘接部分稍微翹起的情況評價為“Λ”，將產生了氣體通路的情況評價為“ X ”。綜合評價中，將“追隨度的評價結果”、“鋪展膜時的褶皺產生結果”、“因處理而產生的褶皺的產生結果”均為“〇”的情況評價為“◎”，將上述三項中即使有一項為“Λ”的情況評價為“〇”，將上述三項中即使有一項為“ X ”的情況評價為“ X ”。
權利要求
1.一種表膜構件框體，其為矩形，該表膜構件框體的應變度α為0.06%以下，下述通用式(I)所示的該表膜構件框體的各邊的追隨度β為3mm以上，該表膜構件框體的長邊的追隨度β為32mm以下，且框體的長邊長度為1400mm 2100mm，并且該表膜構件框體的內側面積為15000cm2以上， β= (I/表膜構件的撓曲量)X厚度X寬度(I)。
2.根據權利要求I所述的表膜構件框體，其中， 構成該表膜構件框體的材料是鋁或鋁合金。
3.根據權利要求I或2所述的表膜構件框體，其特征在于， 對上述表膜構件框體的表面實施鋁鈍化處理、黑色化處理以及封孔處理，從而實際上在該表面上不存在微裂紋，該封孔處理是對因進行了鋁鈍化處理而形成的微小的孔的開口部實施的處理。
4.一種表膜構件,通過將表膜鋪展在權利要求I 3中任意一項所述的表膜構件框體上而獲得該表膜構件。
5.—種表膜構件框體的使用方法,分別把持權利要求4所述的表膜構件的表膜構件框體的相對的一組短邊中的各短邊的至少一處，將表膜構件粘貼在掩模上，之后將粘貼有該表膜構件的掩模使用于曝光處理。
全文摘要
本發明提供表膜構件框體、表膜構件和表膜構件框體的使用方法。在將表膜鋪展并粘接在表膜構件框體上時框體不會變形，此外在將表膜構件粘貼在掩模上后，表膜構件框體自身也能追隨掩模因自重而產生的撓曲。表膜構件框體為矩形，該表膜構件框體的應變度α為0.06％以下，下述通用式(1)所示的該表膜構件框體的各邊的追隨度β為3mm以上，該表膜構件框體的長邊的追隨度β為32mm以下，且框體的長邊長度為1400mm～2100mm，并且該表膜構件框體的內側面積為15000cm2以上。β=(1/表膜構件的撓曲量)×厚度×寬度(1)。
文檔編號G03F1/64GK102944973SQ20121041005
公開日2013年2月27日 申請日期2009年9月11日 優先權日2008年9月12日
發明者北島慎太郎, 栗山芳真 申請人:旭化成電子材料株式會社